Claims (18)
초고순도 가스의 가스 분배 네트워크 또는 상기 분배 네트워크의 임의의 부분내에서 부식을 감소시키는 방법으로서, (a) 가스 분배 네트워크 또는 적어도 그 일부분을 습식 세정제를 사용하여 습식 세정하는 단계; (b) 상기 가스 분배 네트워크 또는 적어도 그 일부분을 아세톤 디메틸아세탈(DMP), 2,2- 디클로로프로판(DCP) 또는 2,2- 디브로모프로판(DBP), 이들의 혼합물 및 이들의 등가물로 이루어진 군중에서 선택된 H2O 탈착성 액체 건조제를 사용하여 액체 건조시키는 단계; (c) 상기 가스 분배 네트워크 또는 그의 일부분을 1ppm 이하의 임의의 불순물을 포함하는 건조한 고순도 가스로 소제하는 단계; (d) 상기 가스 분배 네트워크 또는 그의 일부분을 5 ×104파스칼 이하의 압력으로 배기시키는 단계; 및 (e) 상기 가스 분배 네트워크 또는 그의 일부분을 초고순도의 부식성 가스 또는 공기를 포함하는 대기에 노출시키는 단계를 포함하는 방법.CLAIMS 1. A method of reducing corrosion in a gas distribution network or any portion of a distribution network of ultra high purity gas, the method comprising: (a) wet cleaning a gas distribution network or at least a portion thereof with a wet detergent; (b) the gas distribution network or at least a portion thereof consists of acetone dimethylacetal (DMP), 2,2-dichloropropane (DCP) or 2,2-dibromopropane (DBP), mixtures thereof and equivalents thereof Liquid drying with a H 2 O desorbable liquid desiccant selected from the group; (c) sweeping the gas distribution network or a portion thereof with a dry high purity gas containing any impurities of 1 ppm or less; (d) evacuating the gas distribution network or portion thereof to a pressure of 5 × 10 4 Pascals or less; And (e) exposing the gas distribution network or portion thereof to an atmosphere comprising ultrapure corrosive gas or air.
제1항에 있어서, 상기 습식 세정 단계를 약 1분 내지 약 1시간 동안 수행하는 방법.The method of claim 1 wherein said wet cleaning step is performed for about 1 minute to about 1 hour.
제2항에 있어서, 사전에 사용한 적이 없는 부품 또는 그 일부분을 필수적으로 포함하는 초고순도 가스의 분배 네트워크를 사용하며, 상기 습식 세정 단계를 약 1분 내지 약 2분 동안 수행하는 방법.The method of claim 2, wherein the wet cleaning step is carried out for about 1 minute to about 2 minutes using a distribution network of ultrapure gas, essentially comprising a part or portion thereof that has never been used before.
제2항에 있어서, 사전에 1회 이상 사용한 적이 있는 부품 또는 그 일부분을 필수적으로 포함하는 초고순도 가스의 분배 네트워크를 사용하며, 상기 습식 세정 단계를 약 5분 내지 약 30분 동안 수행하는 방법.The method of claim 2, wherein the wet cleaning step is performed for about 5 to about 30 minutes using a distribution network of ultra high purity gases comprising essentially a part or portion thereof that has been used at least once before.
제1항에 있어서, 상기 액체 건조 단계 (b)를 약 1분 내지 약 20분 동안 수행하는 방법.The method of claim 1 wherein said liquid drying step (b) is carried out for about 1 minute to about 20 minutes.
제5항에 있어서, 사전에 사용한 적이 없으며 그 내부 표면의 거칠기 Ra가 5 ×10- 6m 이하인 부품 또는 그 일부분을 필수적으로 포함하는 초고순도 가스의 분배 네트워크를 사용하며, 상기 액체 건조 단계를 약 1분 내지 약 2분 동안 수행하는 방법.6. The method of claim 5, wherein a distribution network of ultra-pure gas is used which comprises parts or parts thereof which have not been used before and whose roughness Ra of the inner surface is not more than 5 x 10 -6 m, and which comprises the steps of drying the liquid. Method for 1 minute to about 2 minutes.
제5항에 있어서, 사전에 1회 이상 사용한 적이 있는 부품 또는 그 일부분을 필수적으로 포함하는 초고순도 가스의 분배 네트워크를 사용하며, 상기 액체 건조 단계를 약 10분 이상의 시간 동안 수행하는 방법.6. The method of claim 5, wherein the liquid drying step is carried out for a time of at least about 10 minutes using a distribution network of ultrapure gas, which essentially comprises a part or part thereof that has been used at least once before.
제5항에 있어서, 내부 표면의 거칠기 Ra가 5 ×10- 6m 이상인 부품 또는 그 일부분을 필수적으로 포함하는 초고순도 가스의 분배 네트워크를 사용하며, 상기 액체 건조 단계를 약 10분 이상의 시간 동안 수행하는 방법.6. The method of claim 5, wherein a distribution network of ultra-pure gas is used which essentially comprises a part or part of which the roughness Ra of the inner surface is at least 5 x 10 -6 m and the liquid drying step is carried out for a time of at least about 10 minutes. How to.
제1항에 있어서, 상기 습식 세정제가 1㎎/ℓ이하의 미립자 물질을 포함하는 액체인 방법.The method of claim 1, wherein the wet cleaner is a liquid comprising particulate matter of 1 mg / l or less.
제1항에 있어서, 상기 습식 세정제가 10- 6g/ℓ이하의 미립자 물질을 포함하는 액체인 방법.According to claim 1, wherein said wet cleaning agent is 10-way liquid containing particulate matter of less than 6 g / ℓ.
제1항에 있어서, 상기 습식 세정제가 탈이온수 , 이소프로필 알코올, 아세톤 또는 이들의 혼합물로 이루어진 군중에서 선택되는 방법.The method of claim 1 wherein said wet detergent is selected from the group consisting of deionized water, isopropyl alcohol, acetone or mixtures thereof.
제1항에 있어서, 상기 단계 (c)를 수행하기 전에 단계 (a)와 (b)를 반복하는 것을 추가로 포함하는 방법.The method of claim 1 further comprising repeating steps (a) and (b) before performing step (c).
제1항에 있어서, 상기 단계 (d)와 (e) 사이에 가스 분배 네트워크 또는 그의 일부분을 불활성 또는 환원성 가스로 소제하는 단계를 추가로 포함하는 방법.The method of claim 1 further comprising the step of cleaning the gas distribution network or a portion thereof with an inert or reducing gas between steps (d) and (e).
제13항에 있어서, 상기 불활성 또는 환원성 가스가 질소, 아르곤, 헬륨 또는 수소로 이루어진 군중에서 선택되는 방법.The method of claim 13, wherein the inert or reducing gas is selected from the group consisting of nitrogen, argon, helium or hydrogen.
제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 불활성 또는 환원성 가스가 표준 상태의온도와 압력하에서 100ppb 이하의 휘발성 불순물 및 1리터당 1 이하의 입자를 포함하는 방법.15. The method of claim 13 or 14, wherein the inert or reducing gas comprises up to 100 ppb of volatile impurities and up to 1 particle per liter under standard conditions of temperature and pressure.
제1항에 정의한 초고순도 가스를 분배하는 방법으로서, 상기 가스 분배 네트워크가 하나 이상의 실린더 밸브를 포함하는 방법.A method of distributing ultrapure gas as defined in claim 1, wherein said gas distribution network comprises at least one cylinder valve.
제16항에 있어서, 상기 실린더 밸브를 매회 그 내부 표면을 주변 공기와 접촉시키기 전후에 적어도 상기 단계 (a)와 (b)로 처리하는 방법.17. The method of claim 16, wherein said cylinder valve is subjected to at least said steps (a) and (b) before and after each contact of its inner surface with ambient air.
제1항에 있어서, 가스 분배 네트워크 또는 그 일부분을 주변 공기에 노출시키기에 앞서, 상기 단계(e)를 수행하는 동안에, 상기 가스 분배 네트워크 또는 그 일부분을 고순도 불활성 가스로 소제하는 단계를 추가로 포함하는 방법.The method of claim 1, further comprising, prior to exposing the gas distribution network or portion thereof to ambient air, during the step (e), cleaning the gas distribution network or portion thereof with a high purity inert gas. How to.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.