KR960020625A - 음극 스퍼터링 장비의 플래시오버 억제 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 최소한 하나의 전극이 교류 전압원에 접속되어 있는 음극 스퍼터링장비 내에 내의 플래시오버 억제 장치에 관한 것이다. 본 발명은 “큰 아크”에 선행하는 소위 “마이크로아크”가 임계 갯수 만큼 발생하자마자 교류 전원을 신속히 스위치-오프하도록 한다. 큰 아크와 마이크로아크를 구별할 수 있도록 특별한 카운팅 및 평가 수단이 구비된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 플래시오버를 인지하고 억제하기 위한 장치를 구비한 스퍼터링 장비이고,
제2도는 플래시오버를 억제하기 위한 회로 구성을 나타내는 블록 회로도이다.
Claims (15)
- 최소한 하나의 전극이 교류 전압원에 접속되어 있는 음극 스퍼터링 장비의 플래시오버 억제 장치에 있어서, a) 상기 교류 전압원은 중간-주파수 전압원이고, b) 마이크로-플래시오버를 인지하기 위한 장치가 구비되고, c) 마이크로-플래시 오버의 갯수를 카운팅하기 위한 장치가 구비되고, d) 일정 수의 마이크로-플래시 오버가 발생한 이후 또는 일정 주파수의 마이크로-플래시오버가 존재할 때, 큰 플래시오버를 방지하기 위한 조치를 취하는 장치가 구비되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 최소한 하나의 전극이 교류 전압원에 접속되어 있는 음극 스퍼터링 장비의 플래시오버 억제 장치에 있어서, a) 마이크로-플래시오버를 인지하기 위한 장치 (53)와; b) 마이크로-플래시오버 발생 갯수를 카운팅하기 위한 장치(90)와; c) 상기 교류 전압원(20)의 반파형을 카운팅하기 위한 장치(17)와; d) 일정 비율의 카운트된 반파형 대 카운트된 마이크로-플래시오버가 존재할 때 상기 교류 전압원(20)을 스위치-오프하기 위한 장치(20)를 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 마이크로-플래시오버를 카운팅하기 위한 장치 (90) 및 상기 반파형을 카운팅하기 위한 장치(17)는 상기 교류 전압원(20)의 주파수로 동기화되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 교류 전압원(20)은 신속한 스위칭 동작을 하는 중간-주파수 전송기임을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 교류 전압원(20)의 스위치-오프는 일정 길이의 시간 동안 일어나는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 전송기가 스위치-오프되는 동안의 시간 길이는 타이머(19)에 의해 결정되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항에 있어서, 상기 타이머(19)에 의해 결정된 시간이 지난 후 상기 교류 전압원(20)이 다시 스위치-온된 다음 그후로 발생하는 마이크로-플래시오버는, 또다른 타이머(21)에 의해 결정되는 시간 동인 무시되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제6항 또는 제7항의 장치에 있어서, 상기 타이머(19,21)는, 상기 교류 전압원(20)의 기본파의 반주기 또는 전주기의 정수배로서 시간을 결정하는 디지탈 카운터로서 만들어지는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제6항 또는 제7항의 장치에 있어서, 상기 타이머(19,21)는, 아날로그 소자로서 만들어지는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 전송기가 스위치-오프되는 동안의 시간 길이를 정하기 위한 상기 장치들 (90, 17, 19, 21)은, 고유 주파수를 상기 교류 전압원(20)의 주파수의 두배로 하는 것이 바람직한 내부 주파수 발생기(88)에 의해 동기화되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 교류 전압원(20)의 스위치-오프는 광섬유 라인을 통해 발생하는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 장치(18)을 동작시키기 위하여 광섬유 라인을 통해 상기 장치(18)에 접속되는 컴퓨터가 구비되는 것을 특징으로하는 플래시오버 억제 장치.
- 제2항의 장치에 있어서, 상기 음극 스퍼터링 장비는 이중 음극 장비(9,10)인 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제6항 및 제7항의 장비에 있어서, 상기 두개의 카운터(17,90)는 작은 마이크로-플래시오버와 큰 마이크로-플래시오버를 구별할 수 있도록 설정되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.
- 제6항 및 제13항의 장치에 있어서, 상기 두개의 카운터(17,90)는, 마이크로-플래시오버가 두개의 음극(9,10) 증 하나에 있는 교류 전압의 수 주기에 걸쳐 존재하는지 여부를 결정할 수 있도록 설정되는 것을 특징으로 하는 플래시오버 억제 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DEP4441206.1 | 1994-11-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960020625A true KR960020625A (ko) | 1996-06-17 |
KR100259109B1 KR100259109B1 (ko) | 2000-06-15 |
Family
ID=6533646
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950041938A KR100259109B1 (ko) | 1994-11-19 | 1995-11-17 | 음극 스퍼터링 장비의 플래시 오버 억제 장치 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5611899A (ko) |
EP (1) | EP0713242B1 (ko) |
JP (1) | JP4231944B2 (ko) |
KR (1) | KR100259109B1 (ko) |
AT (1) | ATE189338T1 (ko) |
DE (2) | DE4441206C2 (ko) |
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-
1994
- 1994-11-19 DE DE4441206A patent/DE4441206C2/de not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-10-26 EP EP95116842A patent/EP0713242B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-10-26 AT AT95116842T patent/ATE189338T1/de active
- 1995-10-26 DE DE59507692T patent/DE59507692D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-14 JP JP29547995A patent/JP4231944B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-11-17 KR KR1019950041938A patent/KR100259109B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1995-11-20 US US08/560,845 patent/US5611899A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5611899A (en) | 1997-03-18 |
JP4231944B2 (ja) | 2009-03-04 |
KR100259109B1 (ko) | 2000-06-15 |
EP0713242A2 (de) | 1996-05-22 |
EP0713242B1 (de) | 2000-01-26 |
EP0713242A3 (de) | 1998-02-04 |
DE59507692D1 (de) | 2000-03-02 |
DE4441206A1 (de) | 1996-05-23 |
DE4441206C2 (de) | 1996-09-26 |
JPH08225935A (ja) | 1996-09-03 |
ATE189338T1 (de) | 2000-02-15 |
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