KR960018766A - 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
마스크의 차광 패턴층 사이에서 발생하는 회전광의 회절각도를 줄여서 해상도를 높이는 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법을 개시한다. 본 발명은 마스크를 이용한 노광 대상물의 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사되고 상기 마스크를 통과한 회절광의 회절각도를 줄이는 단계; 및 상기 회절광을 이용하여 상기 노광 대상물을 노광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광방법을 제공한다. 따라서 본 발명은 투영 광학계로 입사하는 회절광의 회전각도를 줄여 웨이퍼에 이미지를 형성하는 광의 정보량을 크게하기 때문에 해상도를 향상시킬 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명에 의한 해상도 개선 마스크의 일례를 사용한 투영노광 방법을 실명하기 위하여 도시한 도면이다.
Claims (10)
- 마스크를 이용한 노광 대상물의 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사되어 상기 마스크를 통과하는 회절광의 회절각도를 줄이는 단계; 및 상기 회절광을 이용하여 상기 노광 대상물을 노광하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 회절광의 회절각도를 줄이는 것은, 상기 마스크의 차광 패턴층 사이의 기판 내부에 굴절을 조절렌즈를 형성하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 굴절을 조절렌지는 볼록렌지 형태의 원통형으로 기판내에 불순물을 주입하여 형성된 불순물 영역인 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 투명한 기판; 및 상기 기판에 규칙적으로 형성되어 광 경로상의 회절광의 회절각도를 줄이는 굴질을 조절렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제4항에 있어서, 상기 굴절을 조절렌즈는 마스크의 노광영역을 한정하는 차광 패턴층 사이의 기판 내부에 규척적으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제5항에 있어서, 상기 굴절율 조절렌즈는 불순물을 주입하여 형성된 불순물 영역인 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제6항에 있어서, 상기 굴절을 조절렌즈는 볼록렌즈 구조의 원통형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 투명한 기판; 및 상기 기판상에 노광영역을 한정하기 위해 형성한 차광 패턴층; 및 상기 차광 패턴층 사이의 기판 내부에 형성되고, 볼록렌즈 형태의 원통형 구조로 굴절을 조절렌즈를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 투명한 기판상에 차광층을 형성하는 단계; 상기 차광층상에 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계; 상기 차광층을 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로 하여 식각하여 차광 패턴층을 형성하는 단계; 상기 차광 패턴층에 의해 노출된 상기 기판 내부에 상기 포토레지스트 패턴을 마스크로하여 불순물을 주입하는 단계; 및 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.
- 투명한 기판상에 차광층을 형상하는 단계: 상기 차광층을 패터닝하여 차광 패턴층을 형성하는 단계; 및 상기 차광 패턴층을 마스크로 하며 상기 기관의 전면에 불순물을 주입하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조 방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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KR1019940030040A KR0144940B1 (ko) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | 투영 노광 방법 및 이에 사용되는 마스크 |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR960018766A true KR960018766A (ko) | 1996-06-17 |
KR0144940B1 KR0144940B1 (ko) | 1998-07-01 |
Family
ID=66648503
Family Applications (1)
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KR1019940030040A KR0144940B1 (ko) | 1994-11-16 | 1994-11-16 | 투영 노광 방법 및 이에 사용되는 마스크 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR0144940B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020063960A (ko) * | 2001-01-31 | 2002-08-07 | 주식회사 하이닉스반도체 | 마스크의 제조방법 |
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1994
- 1994-11-16 KR KR1019940030040A patent/KR0144940B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR0144940B1 (ko) | 1998-07-01 |
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