KR960015614A - 조절가능한 인덕턴스 소자를 사용하는 전자 동조 매칭 네트워크 - Google Patents

Abstract

전자장치를 제조할 때 사용하기 위한 플라즈마 처리시스템은, RF발생기; RF에 의해 전력이 공급될 때 챔버내에 플라즈마를 생성하는 전기부하를 포함하는 처리챔버; RF발생기 및 처리챔버의 전기부하사이에 접속되며, 동작중 RF발생기에서 처리챔버내의 플라즈마로 전력을 접속시키는 전자적으로 조절가능한 매칭 네트워크; 및 매칭 네트워크에 접속되며, 동작중 RF발생기에서 처리챔버내의 플라즈마로 전력전달을 제어하기 위해서 매칭 네트워크를 전자적으로 조절하는 제어회로를 포함한다. 매칭 네트워크는 자기장의 세기 H 및 자기 플러스밀도 B 사이의 비선형관계를 나타내는 물질로 만들어진 코어를 포함하는 전자적으로 조절가능한 가변 인덕터를 포함한다. 코어는 개구부를 한정하는 폐쇄루프로서 형성된다. 자화코일은 자화코일에 대한 폐쇄 자기 플럭스경로를 형성하도록 코어 둘레에 감긴다. 자화코일은 제어회로에서 자화코일의 권선으로 전기신호를 접속하기 위해 두 개의 입력단자를 포함한다. 또한, 상기 폐쇄루프 코어의 외부 둘레에 생성되며 RF발생기로부터 고주파수 전류신호를 수신하기 위한 입력단자를 가진 1차코일이 존재한다.

Description

조절가능한 인덕턴스 소자를 사용하는 전자 동조 매칭 네트워크

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제4도는 본 발명에 따르는 가변 인덕터에 대한 단면도,

제5도는 가변 인덕터와 자기 플럭스 밀도의 분포에 대한 단면도,

제6도는 제4도의 가변 인덕터에 대한 분해 조립도.

Claims (34)

1. 전자장치를 제조할 때 사용하기 위한 플라즈마 처리시스템에 있어서, 상기 플라즈마 처리시스템이, RF발생기; RF에 의해 전력이 공급될 때 챔버내에 플라즈마를 생성하는 전기부하를 포함하는 처리챔버; RF발생기 및 처리챔버의 전기부하사이에 접속되며, 동작중 RF발생기에서 처리챔버의 플라즈마로 전력을 접속시키는 전자적으로 조절가능한 매칭 네트워크; 및 매칭 네트워크에 접속되며 제어신호를 발생시키며, 동작중 제어신호를 통해 RF발생기에서 처리챔버내의 플라즈마로 전력전달을 제어하기 위해서 매칭 네트워크를 전자적으로 조절하는 제어회로를 포함하며, 전자적으로 조절가능한 가변인덕터를 포함하는 상기 매칭 네트워크는, 자기장의 세기 H 및 자기 플러스밀도 B 사이의 이선형 관계를 나타내는 물질로 만들어지며, 중심 개구부를 한정하는 폐쇄루프로서 형성되는 코어; 상기 코어가 상기 자화코일에 대한 폐쇄 자기플럭스 경로를 형성하도록, 상기 중심 개구부를 통해 통과하기 위해 상기 코어 주위에 감기며, 제어회로에서 상기 자화코일의 권선으로 [전기] 제어회로를 접속하기 위해 두 개의 입력단자를 포함하는 상기 코어상의 자화코일; 및 폐쇄루프 코어의 자기 투과성을 변화시키는 제어신호에 의해 제어되는 가변 인덕턴스를 나타내도록 상기 폐쇄루프 코어의 외부 주위에 형성되며, RF발생기로부터 고주파수 전류신호를 수신하기 위한 입력단자를 가진 1차 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
2. 제1항에 있어서, 가변 인덕터는 상기 코어가 상기 제2자화코일에 대한 폐쇄 자기플럭스 경로를 형성하도록, 상기 중심개구부를 통해 통과하기 위해 상기 코어 주위에 감긴 제2자화코일을 더 포함하며, 상기 자화코일이 제어회로에서 상기 제2자화코일의 권선으로 제어신호를 접속하기 위해 두 개의 입력단자를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
3. 제2항에 있어서, 1차코일이 상기 중심개구부를 통해 통과하는 임의의 부분을 가지지 않고 상기 폐쇄루프 코어 둘레에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
4. 제3항에 있어서, 제1자화코일이 제1축을 가지며, 제2자화코일이 제2축을 가지며, 1차코일이 1차축을 가지며, 상기 제1 및 제2축이 1차코일의 1차축에 수직하여 자화코일 및 1차코일사이의 자기결합이 최소가 되도록 폐쇄루프 코어상에 어셈블리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
5. 제3항에 있어서, 제1자화코일이 제1축을 가지며, 제2자화코일이 제2축을 가지며 1차코일이 1차축을 가지며, 상기 제1 및 제2축이 l차코일의 1차축과 평행하도록 상기 제1 및 제2자화코일이 폐쇄루프 코어상에 어셈블리되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
6. 제2항에 있어서, 폐쇄루프 코어가 직사각형 모양을 가지며 두 개의 긴 면 및 두개의 짧은 면을 가지며 두 개의 긴 면이 두 개의 짧은 면중의 대응하는 하나에 의해 각각의 단부에 결합되며, 상기 코어의 두 개의 긴 면이 서로 평행하며 상기 코어의 두 개의 짧은 면이 서로 평행하며, 1차코일이 상기 두 개의 긴 면 둘레에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
7. 제6항에 있어서, 각각의 두 개의 자화코일이 상기 코어의 두 개의 짧은 면중의 대응하는 다른 하나 둘레에 감기는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
8. 제7항에 있어서, 가변 인덕터가 1차코일이 감기는 중공 실린더형 슬리브를 더 포함하며, 상기 페쇄루프코어가 상기 슬리브내에 위치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
9. 제8항에 있어서, 상기 중공 실린더형 슬리브가 한 단부에 제1개구부 및 다른 단부에서 제2개구부를 가지며, 제1자화코일이 제1개구부내에 위치하며 상기 제2자화코일이 상기 제2개구부내에 위치하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
10. 제6항에 있어서, 각각의 두 개의 자화코일이 상기 코어의 두개의 긴 면중의 대응하는 다른 하나 둘레에 감기는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
11. 제10항에 있어서, 가변 인덕터가 1차코일이 감기는 중공 실린더형 슬리브를 더 포함하며, 상기 폐쇄루프 코어가 상기 슬리브내에 위치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
12. 제10항에 있어서, 두 개의 자화코일이 병렬로 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
13. 제10항에 있어서, 두 개의 자화코일이 직렬로 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
14. 제10항에 있어서, 두 개의 자화코일이 상기 폐쇄루프 코어내에 공동 자기장을 발생시키기 위해 접속되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
15. 제1항에 있어서, RF발생기가 RF전력을 약 400kHz 주파수로 발생시키는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
16. 제10항에 있어서, 상기 코어가 강자성 물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
17. 제16항에 있어서, 상기 코어가 페라이트 물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
18. 전기적으로 조절가능한 유도성 리액턴스를 고주파수 전류신호로 발생시키기 위한 유도성 소자에 있어서,상기 유도성 소자가, 자기장의 세기 H 및 자기 플럭스밀도 B 사이의 비선형관계를 나타내는 물질로 만들어지며, 중심 개구부를 한정하는 폐쇄루프로서 형성되는 코어; 상기 코어가 상기 자화코일에 대한 폐쇄 자기플럭스 경로를 형성하도록, 상기 중심 개구부를 통해 통과하기 위해 상기 코어 둘레에 감기며, 제어신호를 상기 제1자화코일의 권선에 접속하기 위해 두 개의 입력단자를 포함하는 상기 코어상의 제1자화코일; 및 폐쇄루프 코어의자기 투과성을 변화시키는 제어신호에 의해 제어되는 가변 인덕턴스를 나타내도록 상기 폐쇄루프 코어의 외부둘레에 형성되며 고주파수 전류신호를 수신하기 위한 입력단자를 가진 1차코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
19. 제18항에 있어서, 상기 코어가 상기 제2자화코일에 대한 폐쇄 자기플럭스경로를 형성하도록, 상기 중심 개구부를 통해 통과하기 위해 상기 코어 둘레에 감기며, 제어신호를 상기 제2자화코일의 권선에 접속하기 위해 두 개의 입력단자를 더 포함하는 제2자화코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
20. 제19항에 있어서, 상기 제1 및 제2자화코일의 입력단자에 접속된 제어회로를 더 포함하며, 동작중 상기 제어회로가 코어의 투과성을 변환시켜서 고주파수 전류신호에 의해 나타나는 것처럼 유도성 리액턴스를 변환시키기 위해 상기 제1 및 제2자화코일에 제어전류를 공급하는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
21. 제19항에 있어서, 제1자화코일이 제1축을 가지며, 제2자화코일이 제2축을 가지며 1차코일이 l차 축을 가지며, 상기 제1 및 제2축이 1차코일의 상기 1차 축에 수직한 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
22. 제18항에 있어서, 상기 폐쇄루프 코어가 직사각형 모양을 가지며 두 개의 긴 면 및 두 개의 짧은 면을 가지며, 상기 두 개의 긴 면이 두 개의 짧은 면중의 대응하는 하나에 의해 각각의 단부에 결합되며, 상기 코어의 두 개의 긴 면이 서로 평행하며 상기 코어의 두 개의 짧은 면이 서로 평행하며, 1차코일이 상기 두 개의 긴 면 둘레에 형성되는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
23. 제22항에 있어서, 각각의 두개의 자화코일이 상기 코어의 두 개의 짧은 면중의 대응하는 다른 하나 둘레에 감기는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
24. 제23항에 있어서, 상기 코어가 강자성 물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
25. 제24항에 있어서, 상기 코어가 페라이트 물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
26. 제23항에 있어서, 1차코일이 감기는 중공 실린더형 슬리브를 더 포함하며, 상기 폐쇄루프 코어가 상기 슬리브내에 위치되는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
27. 제26항에 있어서, 상기 중공 실린더형 슬리브가 한 단부에 제1개구부를 가지며 다른 단부에 제2개구부를 가지며, 제1자화코일이 상기 제1개구부내에 위치하며 상기 제2자화코일이 상기 제2개구부내에 위치하는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
28. 제19항에 있어서, 제1자화코일이 제1축을 가지며, 제2자화코일이 제2축을 가지며 1차코일의 1차축을 가지며, 상기 제1 및 제2축의 1차코일이 1차축에 평행하도록 상기 제1 및 제2자화코일이 폐쇄루프 코어상에 어셈블리되는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
29. 제22항에 있어서, 각각의 두 개의 자화코일이 상기 코어의 두 개의 긴 면중의 대응하는 다른 하나 둘레에 감기는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
30. 제29항에 있어서, 각각의 두 개의 자화코일이 상기 폐쇄루프 코어내에 공동 자기장을 발생시키기 위해 접속되는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
31. 제30항에 있어서, 상기 코어가 강자성 물질로 만들어지는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
32. 제31항에 있어서, 상기 코어가 페라이트 물질로 만들어진 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.
33. 제1항에 있어서, 상기 코어의 폐쇄루프가 코어평면에 평행하게 위치하며, 1차코일이 코어평면에 평행한 1차축에 감기는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리시스템.
34. 제18항에 있어서, 상기 페쇄루프가 코어평면에 평행하게 위치하며, 1차 코일이 코어평면에 평행한 1차축에 감기는 것을 특징으로 하는 인덕터 소자.

    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.