KR960013467B1 - 세척장치를 갖춘 염색장치 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

세척장치를 갖춘 염색장치

제1도는 본 발명이 적용되어지는 염색장치의 어레이(array) 형태를 나타낸 개략적 측면도로서, 염색되어질 기질(substrate)웹 부분위에 위치되어진 여덟개의 염료분출 어레이들이 도시되어진 도면.

제2도는 제1도의 염색장치 부분의 개략도.

제3도는 제1도에 나타내진 어레이들중의 두개를 도시한 개략 측면도로서, 우측 어레이는 본 발명의 셔터장치에 의해 폐쇄 또는 결합되어진 상태를 나타내고, 좌측 어레이는 셔터장치에 의해 개방 또는 풀려진 상태를 나타내며, 또한 셔터장치의 위치를 검출하기 위한 한 세트의 프록시미티센서(proximity sensor)들이 도시되어진 도면.

제4도는 제3도와 유사한 도면이지만 제8도에서 선 Ⅳ-Ⅵ을 따라 나타내진 것과 같이 어레이들의 내부를 나타내기 위하여 내부 위치에서 어레이와 교차되는 적립 평면을 따라 나타낸 도면.

제5도는 제4도의 우측 어레이의 확대도로서, 세척공정중에 어레이안으로 가상의 물의 흐름을 상세하게 나타내고, 본 발명의 셔터부 주위로의 상기 물의 흐름을 나타낸 도면.

제6도는 제5도의 일부분에 대한 확대도.

제7도는 제5도의 어레이에서 임시 정비용으로 하부 위치에 위치되어진 이차 드레인 트레이를 나타낸 도면이다.

제8도는 본 발명의 셔터/밀폐장치의 부분단면을 취한 배면도(즉, 제5도의 우측에서 좌측으로 본 도면).

제9도는 본 발명의 셔터/밀폐장치의 사시도이고, 또한 셔터가 작동되어질 수 있게 하는 바람직한 장치를 나타낸 도면.

제10도는 제9도의 선 Ⅹ-Ⅹ를 따라 나타낸 도면으로서, 좌측 셔터 셔틀 어셈블리를 단면을 취해 나타낸 도면.

제11도는 제9도의 선 ⅩⅠ-ⅩⅠ을 따라 나타낸 도면으로서, 기억박스들을 단면을 취해 나타낸 도면이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명

10 : 롤(roll) 12 : 기질(substrate)

14 : 컨베이어 18 : 변환장치(또는 회전운동센서)

20 : 패턴제어장치 22 : 프레임

24 : 프레임부재 26 : 어레이

30 : 염료저장탱크 32 : 펌프

34 : 염료공급통로 36 : 주 염료메니포울드 어셈블리

40 : 보조 염료메니포울드 어셈블리 42 : 보조메니포울드모듈부

46 : 보조메니포울드 50 : 염료배출모듈

51 : 채널 52 : 염료배출구

54 : 바이패스메니포울드통로 56 : 염료바이패스메니포울드

60 : 전향공기제트어셈블리 62 : 공기전향튜브

66 : 공기공급튜브지지플레이트 67 : 튜브클램프어셈블리

68 : 공기튜브클램프 69 : 시일브라켓트

72 : 에어포일(airfoil) 74 : 압축공기공급메니포울드

76 : 공기압콤프레서 80 : 일차콜렉션챔버

82 : 염료콜렉션챔버 84 : 일차염료콜렉터플레이트

86 : 콜렉터플레이트지지부재 90 : 미스트실드

93 : 탄성시일 94 : 세척수메니포울드

96 : 세척수노즐 100 : 밸브박스

102 : 지지비임 104 : 마운팅브라켓트

110 : 이차드레인트레이 114 : 드레인파이프

120 : 시일드(셔터) 122 : 압력플레이트

124 : 스프링와셔 125 : 신장볼트

128 : 웨어플레이트 130 : 시일드셔틀

131 : 유도플록시미티스위치 132 : 셔틀가이드축

134 : 베어링 135 : 기어박스마운팅플레이트

140 : 기억박스 141 : 워엄

142 : 구동축 143 : 워엄기어

145 : 케이싱 147 : 축 정렬칼라

160 : 모터

본 발명은 직물(textile materials)에 염료를 염착하는 염색장치에 관한 것으로서, 특히, 이러한 장치내의 염료방출 오리피스(orifice)들 및 다른 염료처리부품들을 세척하는데 유용한 장치에 관한 것이다.

종래에 직물 기질(textile substrates)에 염료를 입히는, 특히 기질에 일정한 패턴 형태로 염료를 입히는데에 대한 여러가지의 많은 기술들이 공지되어 있다.

이러한 기술들중에서, 다수개의 염료방출 오리피스들에 의해 형성되어지고 안내되어지는 염료의 불연속 흐름형태로 염료를 염착시키는 방법이 잇점이 있다는 것이 알려져 왔다.

이상적으로, 각각의 염료의 흐름은 패턴정보에 따라 단속적으로 중단되어지고 그 방향이 바뀌어질 수 있게 되어 있다.

이와같은 타입의 염색 시스템들은 일반적으로, 예를 들어, 미합중국 특허 제3,894,413호, 제3,942,343호, 제4,033,154호, 제4,034,584호, 제4,116,626호, 제4,309,881호, 제4,434,632호 및 제4,584,854호에 보다 상세하게 기술되어져 있다.

이러한 시스템들은 보통 염색되어질 기질을 다수개의 지속적으로 흐르는 염료의 불연속 스트림(stream)들 아래로 운반하는 컨베이어 형태로 배치되어진다.

바람직한 구체적 실시예에서, 각각 기질로 향해서 있는 다수개의 염료 오리피스들이 기질 경로위에 가로질러 별개의 서로 다른 색깔의 액체염료원과 결합되어지는 각 어레이(array)가 소정간격으로 평행하게 정렬되어 있는 여러개의 별개 선형 어레이들내에 구성 배치되어진다.

일반적으로, 각 어레이들은 염색되어질 기질에 가깝게 인접하여 위치되어지는데, 어레이와 기질표면 사이의 간격은 1인치 미만이 된다.

해당 어레이내의 각각의 지속적으로 흐르는 염료의 스트림들은 일반적으로 기질 표면위로 향하여진다.

그러나, 각 염료 스트림과 정렬되어지고, 외부에서 가해지는 패턴정보에 따라 작동되어지거나 중단되어지는, 전향공기의 횡단교차스트림에 의해, 지속적으로 흐르는 스트림이 염료가 기질과 접촉되는 것을 방지하기 위하여 콜렉션 챔버(collection chamber) 또는 캐치 베이슨(catch basin) 안으로 향하게 된다.

염색 작업중에 기질의 해당 위치에 가해지는 염료의 양을 정확하게 조절하고, 매우 좁고 정확한 지점에 염료가 떨어지도록 하기 위하여, 콜렉션 챔버의 하부에는 콜렉션 챔버의 하부벽위에 간격이 떨어져 지지가능하게 위치된 콜렉션 플레이트(collector plate)가 형성되어져 있다.

이 콜렉션 플레이트는 콜렉션 챔버의 하부벽이 신장되어 형성된 가느다랗게 늘어간 긴 콜렉터 플레이트 지지부재를 통해 콜챔버의 하부벽에 조정가능하게 부착되어 있다.

콜렉터 플레이트 지지부재에 관하여 콜렉터 플레이트의 위치를 조심스럽게 조정함으로써, 전향되어진 스트림의 신속하고도 정확한 차단이 이루어지도록 콜렉터 플레이트의 선단부(leaging edge)가 어레이의 염료배출 축선에 대해 정확하게 위치되어질 수 있다.

이와같은 염색장치 및 콜렉션 챔버 구조에 대한 상세한 내용이 전술한 미합중국 특허 제3,942,343호에 기술되어져 있다.

상기 특허에 기술되어진 바와 같이, 전향되어진 각 염료 스트림은 콜렉터 플레이트의 선단부를 통과하여 콜렉션 챔버안으로 흐르게 된다. 전향되어진 공기 스트림을 제거함에 따라, 스트림은 플레이트 에지부 뒤쪽으로 되돌아가게 되어 염색되어질 직물쪽으로의 정상적인 이동 결로로 다시 흐르게 된다.

각 어레이에 별개의 서로 다른 염료가 공급되어지기 때문에, 여러개의 각 어레이들로부터 여러가지 색깔의 염료가 기질의 동일영역상에 가해지고 폭넓고 다양한 색상 및 패턴을 만들어내도록 기질상에서 혼합되어지게 된다.

이와같은 시스템들에 있어서 하나의 내재된 결점은 서로 다른 별개의 색상 또는 일련의 색상들을 사용하는 패턴을 만들기 위하여는 하나 이상의 각 어레이들 내의 염료를 바꾸어 주어야 하는 점이다.

이전에 어레이안에 담겨있던 모든 염료들은 새롭게 선택되어진 염료의 원하지 않는 색상 변화를 방지하기 위하여 새롭게 선택되어진 염료를 담기전에 장치로부터 깨끗이 세척되어 제거되어져야만 한다.

이러한 긍정은 보통 해당 어레이와 결합된 메니포울드 및 염료용기를 물이 염료가 아닌 작동유체로서 사용되어지는 세척작업에 의해 깨끗하게 비우는 공정을 포함한다.

또한, 물의 스프레이(spray)들의 어레이 안에 가해져 이전에 사용된 염료에 노출되었던 모든 표면들을 세척하게 된다. 세척수내에 허용 가능한 만큼의 잔류 염료량만 남게되면, 세척 작업이 중단되고, 새롭게 선택되어진 염료가 담겨지게 된다.

이제까지 이러한 세척공정은 색상변호를 필요로 하는 단 하나의 어레이 경우에도 모든 염색작업을 중단시켜야 하고 세척수에 의해 기질이 얼룩지게 되는 것을 피하기 위하여 장치로부터 기질을 제거할 것을 필요로 해왔다.

또한 상기 시스템들에 있어서 그 고유한 다른 결점은 해당 어레이내의 염료 방출 오리피스들을 부분적으로 또는 전체를 봉쇄해야 하는 것이다.

이와같이 오리피스들을 봉쇄하게 되면, 염료 스트림이 패턴정보에 따라 기질상에 염료의 원하는 품질 또는 형태로 염착될 수 없고, 원하지 않는 패턴이 변칙적으로 염착되어지게 된다. 따라서 상기 오리피스들을 세척하기 위한 종래의 노력들은 제한성이 있었다.

여기서, 미합중국 특허제3,892,109호 및 제4,148,668호에는 각 와서(washer)들이 염료배출 오리피스들과 마주보고 축선 정렬되어 수동으로 위치되어지도록 하는 캐리지(carriage) 장치내에 제트 와셔(jet washer)들의 어레이가 설치되어지도록 하는 세척방법의 시도가 설명되어져 있다.

압축수 또는 기타 유체가 와셔 오리피스들로부터 염료 오리피스들 안으로 가해져 오리피스들내의 모든 이물질들을 제거시키게 된다.

이러한 방법은 캐리지를 단독으로 이동시켜 다수개의 오리피스들의 어레이들을 세척하는데 사용되어질 수 있으나, 어레이들과 기질 표면사이의 캐리지용의 적합한 간격을 제공하도록 기질이 어레이들로부터 떨어지도록 이동되어질 것을 필요로 한다.

이것은 염색 또는 패턴 작업을 중단시키게 되고, 어레이로부터 기질위에 염료 제거용 세정수가 떨어져 흐르게 됨으로, 통상적으로 세척시 어레이들 밑의 기질에 변하지 않고 끝까지 남게 되는 얼룩이 생기게 된다.

조금 소극적이지만, 보다 간편한 기술은 오리피스 구멍안으로 와이어등과 같은 것을 삽입시켜 각 염료 오리피스들을 청소하라는 것이다. 그러나, 이 기술은 또한 염료 오리피스에 접근하기 위하여 기질이 어레이들로부터 떨어지도록 이동되어지는 것이 요구되고, 이로인해 염색 또는 패턴 작업을 정지하게 된다.

전술한 바와 같이, 전술한 어떤 방법도 모두 세척장치를 수용하기 위하여 어레이와 기질 사이의 공간을 넓히는 것을 필요로 한다. 이것은 세척작업을 위해 전 염색 공정을 정지시킬 것을 필요로 하고, 다수개의 어레이장치의 오직 하나의 어레이만을 봉쇄시켜야 하는 경우라도 마찬가지이다.

본 발명은 종래의 기술들에 대해서 염색장치와 관련된 다른 어레이들은 계속 작동을 하고 있으면서 해당 어레이를 교환 또는 세척할 수 있도록 개선시킨 것이다.

어레이와 기질 사이의 간격을 넓히는 것도 필요하지 않다. 본 발명은 또한 어레이의 내측 및 외측 모두를 세척하는 공정을 제공한다.

또한, 본 발명은 세척 또는 염료 교환 작업에 따른 기질에의 어떠한 얼룩의 발생도 방지해 준다.

이와같은 본 발명의 잇점들은 별개의 색상의 염료를 담기 위하여 어레이안의 전 염료 접촉표면들을 세척할 뿐만 아니라 오리피스들을 봉쇄하지 않고 세척시키기 위하여 어레이안으로 물이 분무되고 순환되어질 때 어레이부를 포함하는 봉쇄 인클로져(enclosure)상에 위치되어진 셔터(shutter) 또는 시일드(Shield)가 염료 방출 오리피스들과 기질 사이에 제거 가능하게 설치되어지는 신규한 세척장치를 사용함으로써 성취되어진다.

본 발명의 시일드 및 봉쇄 인클로져는 세정유체가 지속적으로 기지로가 접촉되도록 설계되어진다.

본 발명을 구성하는 이동 가능한 셔터 또는 시일드를 갖는 신규한 봉쇄장치의 세부사항 및 잇점들을 첨부된 도면들을 참고로 상세히 설명하면 다음과 같다.

제1도에는 프레임(frame)(22)에 위치한 8개 1세트의 어레이(26)들이 측면도로 도시되어져 있다.

이 어레이들은 본 발명이 특별히 적합화되어진 패턴 염색 장치의 일부분을 형성한다. 각 어레이(26)는 기질(12)의 폭을 가로질러 그 위에 일정 간격으로 정렬되어 뻗어 있는 다수개의 염료분출구들을 구성하고 있다.

기질(12)은 롤(roll)(10)로부터 공급되어지고, 적합한 모터(16)에 의해 구동되는 컨베이어(14)에 의해 각 어레이(26) 아래로 계속 운반되어진다. 어레이(26)들 아래로 운반되어진 후, 기질(12)은 건조, 고착(fixing) 등과 같은 다른 염색관련 공정들을 통하게 된다.

제2도에는 제1도의 장치의 하나의 염료 방출 어레이의 측면도가 개략적인 형태로 도시되어져 있다.

각 어레이(26)용의 별개의 염료 저장탱크(30)로부터 펌프(32) 및 염료공급통로(34)를 통해 어레이의 주(primary) 염료 메니포울드 어셈블리(manifold assembly)(36)로 압력이 걸린 상태의 유체 염료가 공급되어진다.

주메니포울드 어셈블리(36)는 보조(sub) 염료 메니포울드 어셈블리(40)(제5도 및 제6도에 보다 상세히 도시되어져 있다.)와 통해 있고, 이곳에 염료를 공급한다.

주염료 메니포울드 어셈블리(36) 및 보조염료 메니포울드 어셈블리(40)는 염색되어질 기질이 운반되어지는 컨베이어(14)의 폭을 가로질러 배치되어진다.

보조염료 메니포울드 어셈블리(40)에는 무늬가 넣어지게 될 기질 표면위로 향해지는 다수의 평행한 염료 스트림들을 일으키는 다수개의 염료배출구(52)(제6도에 도시됨)들이 일정간격으로 아랫쪽으로 향하여져 컨베이어(14)의 폭을 가로질러 위치되어져 있다.

제2도 및 제6도에 도시된 바와 같이, 공기전향튜브(62)의 배출구가 보조메니포울드 어셈블리(40)내의 염료배출구(52)와 직각을 이루어 배치되어져 있다.

각 공기전향튜브(62)는 제2도에서 V로 표시되어진 공기밸브가 설치된 공기전환통로(64)가 연결되어지고, 공기밸브(V)는 패턴 제어장치(20)로부터 가해지는 패턴정보에 따라 공기전향튜브(62)로 흐르는 공기의 흐름을 선택적으로 차단한다.

각 밸브는 다시 공기 콤프레서(76)에 의해 압축공기가 공급되어지는 압축공기 공급 메니포울드(74)로 통하는 공기공급통로와 연결되어진다.

전자기 솔레노이드 타입의 각 밸브(V)는 패턴 제어장치(20)로부터의 전기 시그널에 의해 제각기 제어되어진다.

공기전향튜브(62)로부터 분출되는 공기의 스트림이 염료배출구(52)로부터 분출되는 염료의 지속적인 스트림과 충돌하게 되어, 이 염료 스트림을 일차 콜렉션 챔버(80)안으로 전향시키게 되고, 염료 스트림은 적합한 염료 콜렉션통로(82)를 통하여 염료저장탱크(30)로 재순환되어 들어감으로써 제거되어지게 된다.

전자기 솔레노이드 밸브(V)를 작동시키는 패턴 제어장치(20)는 패턴정보 저장능력이 있는 컴퓨터와 같은 다양한 패턴 제어장치로 구성되어 있다.

패턴 제어장치(20)로부터 필요한 패턴정보가 컨베이어(14)와 결합되어 작동하고, 패턴 제어장치(20)와 연결되어진 적합한 회전운동센서 또는 변환장치(18)에 의해 검출되어지는 컨베이어(14)에 의한 운동에 대하여 적합한 시간마다 각 어레이의 솔레노이드 밸브 등에 전달되어진다.

이와같은 기능을 수행하는 하나의 장치에 대한 상세한 내용이 미합중국 특허 제4,033,154호에 기술되어져 있다.

상기 장치를 이용하는 전형적인 염색작업에 있어서, 패턴 제어장치(20)로부터 해당 염료배출구(52)가 있는 어레이의 공기밸브(V)에 패턴정보가 가해지지 않는 한, 공기밸브는 개방된 채로 유지되어 압축공기 공급 메니포울드(74)로부터 공기전향통로(64)를 통한 압축공기의 흐름이 염료배출구(52)로부터의 지속적인 염료흐름 스트림을 일차 콜렉션 챔버(80) 안으로 계속 전향시켜 재순환되도록 하게 한다.

기질(12)의 각 어레이(26)의 염료배출구(52) 아래를 처음 통과하게 되면, 패턴 제어장치(20)가 운전자에 의해 수동으로 작동되어지게 된다.

그런 다음, 변환장치(18)로부터의 신호가 패턴 제어장치(20)로부터 패턴정보를 발생시키게 한다. 패턴정보가 지시되어짐에 따라, 패턴 제어장치(20)는 제어신호들을 발생시켜, 해당 에어밸브들을 선택적으로 폐쇄시켜 원하는 패턴에 따라서 어레이(26)들을 따라 지전된 해당 염료배출구(52)들에서 전향공기 스트림이 중단되어져 해당 염료 스트림은 전향되어지지 않게 되고, 그 대신에 해당 염료 스트림은 그의 정상 분출 경로를 따라서 흘러 기질(12)에 떨어지게 된다.

즉, 원하는 패턴 순서에 따라 각 어레이의 솔레노이드 공기밸브들을 작동시켜 염료의 색상 패턴이 기질의 이동중에 기질에 염착되어지게 된다.

제3도 내지 제7도는 본 발명을 적용시킨 제1도 및 제2도의 어레이(26)들의 측면도들이다.

각 어레이(26)용의 지지비임(support beam)(102)들이 컨베이어(14)를 가로질러 뻗어 경사진 프레임부재(24)들의 각끝 부분에 부착되어진다.

플레이트등과 같은 마운팅 브라켓트(mounting braket)(104)들이 각 지지비임(102)들을 따라 일정간격의 위치에 직립되어 부착되어 있어 1차 염료 메니포울드 어셈블리(36) 및 관련장치, 일차 염료 콜렉션 챔버(80) 및 관련장치, 및 본 발명과 관련된 장치등을 지지한다.

바람직한 구체적 실시예에서, 지지비임(102)에 의해 지지되는 밸브박스(100)들이 다수의 공기밸브(V) 및 각 어레이와 결합된 공기 메니포울드(74)를 수용하기 위하여 사용되어진다.

제4도 내지 제7도에 가장 상세하게 도시된 바와 같이, 일차 염료 메니포울드 어셈블리(36)는 보조메니포울드 어셈블리(40)상의 해당 접촉표면을 제공하는 편평한 접촉표면을 갖고 있는 파이프로 이루어진다.

보조메니포울드 어셈블리(40)는 보조메니포울드 모듈부(42), 홈이 파진 염료배출모듈(50) 및 보조메니포울드 모듈부(42)와 염료배출모듈(50)내의 긴 접촉 채널들에 의해 형성되어진 가늘고 긴 보조메니포울드(46)으로 이루어져 있다.

보조메니포울드 모듈부(42)는 볼트(도시되지 않음) 또는 기타 적합한 수단에 의해 일차 염료 메니포울드 어셈블리(36)에 부착되어져 염료 메니포울드 어셈블리(36)의 접촉표면내의 배출통로(37) 및 보조메니포울드 모듈부(42)의 접촉표면내의 해당 통로(44)가 일직선으로 정렬되어짐으로써 압축된 유체염료가 염료 메니포울드 어셈블리(36)의 내부로부터 긴 서브 메니포울드(46)로 흐르도록 해준다.

염료배출모듈(50)이 볼트 또는 기타 적합한 수단(도시되지 않음)에 의해 보조메니포울드 모듈부(42)와 결합되어질 때, 보조메니포울드(46)로부터의 비균질의 유체염료가 정렬되고 평행한 스트림들의 형태로 기질로 향하도록 염료배출구(52)를 형성하는 다수개의 채널(51)들이 염료배출모듈(50)의 접촉표면과 결합되어져 있다.

일차 염료 콜렉터 플레이트(84) 및 콜렉터 플레이트 지지부재(86)에 관한 염료채널(51)의 관계 위치 또는 정렬상태는 마운팅 브라켓트(104)들이 결합되어진 잭 스크류(jack screw)(106)들을 회전시킴으로써 조정되어질 수 있다.

제6도에 가장 상세하게 도시되어진 전향공기 제트 어셈블리(60)가 공기튜브(62)들로부터의 공기 스트림을 밸브박스(100)내의 밸브들의 어레이를 통하여 공급관(64)을 거쳐 각 염료 스트림들의 경로를 가로지르도록 염료배출모듈(50)과 연결되어진다.

전향공기 제트 어셈블리(60)는 각 공기전향듀브(62)를 바로 염료배출구(52) 외측에 정렬 및 고정시키기 위한 공기 공급튜브 지지플레이트(66) 및 공기튜브 클램프(clamp)(68) 등을 포함하고 있다.

공기튜브 클램프 스크류(clamp screw)(67)를 회전시켜 공기튜브(62)상의 클램프(68)에 의해 가해진 압력을 조정할 수 있다.

공기튜브(62)와 마주보고 위치되어진 에어포일(airfoil)(72)은 공기튜브(62)로부터 발생하는 횡단 공기 스트림의 작용으로 인한 어레이 영역내의 교란현상의 정도를 감소시키게 된다.

도시되지는 않았지만, 공기튜브 클램프(68)가 공기튜브(62)에 압력을 가하도록 하는데 대하여 염료배출모듈(50)의 돌출부가 일련의 V자 형상의 노치(notch)들의 형태를 이루어 공기튜브(62)가 부분적으로 끼워지도록 되어 있다.

이와 유사한 정렬장치의 보다 상세한 내용이 미합중국 특허 제,309,881호에 기술되어져 있다.

제5도에 보다 상세하게 도시되어진, 전체적으로 압력 밸러스트(ballast)로서의 작용을 하고 보조메니포울드(46)안으로의 균일한 압축염료의 공급을 제공하는 염료 바이패스 메니포울드(56) 및 바이패스 메니포울드 통로(54)가 염료배출모듈(50)과 결합되어져 있다.

유체 염료 스트림이 전향되어지는 경우, 염료배출구(52)로부터 분출되는 유체 염료는 바로 일차 염료콜렉션 챔버(80)안으로 들어가고, 일차 염료 콜렉션 챔버는 스테인레스 스틸과 같은 적합한 판재로 형성되어져 어레이(26)의 길이를 따라 뻗게 된다.

염료배출구(52)에 근접시켜 평행하게 위치된 얇은 유연성 있는 블레이드(blade) 부재로 이루어진 일차 염료 콜렉터 플레이트(84)가 콜렉션 챔버(80)와 결합되어져 있다.

일차 염료콜렉터 플레이트(84)는 그의 길이를 따라 일정간격의 위치들에 볼트 및 스페이서(spacer)(85)로써 V자형의 긴 콜렉터 플레이트 지지부재(86)에 조절가능하게 부착되어져, 일차 콜렉션 챔버(80)의 바닥의 연장부를 형성하고, 염료배출채널(51)의 배출구(52)에 가장 인접한 단부를 따라 날카롭게 되어져 어레이(26)의 길이를 따라 뻗어 있다.

얇고 편평한 콜렉터 플레이트(84)가 그의 길이를 따라 연장부 밑에 설치되고, 염료배출모듈홈(51)의 축선과 정렬되어진 적합한 조절기구가 채용되어질 수 있고, 이런 기구가 미합중국 특허 제4,202,189호에 기술되어져 있다.

제5도에 도시된 바와 같이, 공기전향튜브(62)로부터의 횡단공기 스트림에 의해 염료 스트림들로부터 전향되어지는 유체염료를 모으기 위하여 일차 염료 콜렉션 챔버(80)가 공기전향튜브(62)들의 어레이 맞은 편에 위치되어진다.

일차 콜렉션 챔버(80)는 어레이가 세척되어질 때 즉, 다른 색상의 염료를 사용하게 될 경우마다 부분적으로 메니포울드 어셈블리(36)로부터 고압으로 분무되어진 전환수(diverted water) 뿐만 아니라 세척수 메니포울드(94)와 결합되어진, 엇갈리게 배열된 세척수 노즐(nozzle)(96)들로부터 분무된 물을 모으게 된다.

일차 염료 콜렉션 챔버(80)는 종래의 수단으로 마운팅 브라켓트(104) 및 콜렉터 플레이트 지지부재(86)에 부착되어지고 도시된 바와 같이 챔버(80)의 플로어를 위해 홈을 형성하여 연결되며 염료 또는 세척수가 일차 염료 콜렉션 통로(82)를 거쳐 어레이의 내부로부터 제거되어지고 집합되어지는 캐비티(cavity)를 형성한다.

어레이의 길이를 따라 뻗은 미스트 실드(mist shield)(90)가 도시되지 않은 볼트 또는 다른 적합한 수단을 사용하여 밸브박스(valve box)(100)의 바닥부에 부착되어진다.

미스트 실드(90)는 작은 방울 또는 공중에 떠 있는 미스트 형태의 세척수 또는 염료가 메니포울드(36)와 밸브박스(100) 사이에 떠돌아다니며 어레이 측으로부터 기질상에 적하되고 기질을 얼룩지게 하는 것을 방지해 준다.

또한 밸브박스(100)에 부착되어진 미스트 실드(92)는 염료 콜렉션 챔버(80)에 부착되어 있는 탄성 시일(93)을 압축하기 위하여 스프링력을 사용한다. 미스트 실드(92) 및 탄성시일(93)은 일차적으로 공중에 떠다니는 미스트형태의 세척수가 염료 콜렉션 챔버(80)의 상부로 방출되어 아래의 기질상에 가라앉게 되는 것을 방지해준다.

양 미스트 실드(90) 및 (92) 및 염료 콜렉션 챔버(80)의 양끝은 개방되어 공기전향튜브(62)들로부터 압축된 공기가 과도한 제한조건 없이 배출되어지도록 해준다.

본 발명의 주요 구성부인 이차 드레인 트레이(drain tray)(110)가 일차 염료 콜렉션 챔버트레이(80)의 길이를 따라 뻗어 힌지(hinge)(112)에 의해 부착되어져 있어, 임시 세척 및 정비용으로 이차 드레인 트레이(110)가 어레이(26)의 아랫쪽으로부터 멀리 회전되어질 수 있게 되어 있다.

어레이(26)의 아래 위치에서, 이차 드레인 트레이(110)가 도시되지 않은 볼트 또는 기타 적합한 수단에 의해 일차 염료 콜렉션 챔버(80)내의 도시되지 않은 해당 구멍들과 정렬된, 이차 드레인 트레이(110)의 아랫쪽의 구멍들을 통하여 고정되어진다.

일정한 설치간격의 스페이서들을 사용하여 이차 드레인 트레이(110)와 일차 염료 콜렉션 챔버(80) 사이에서 유지되어진다.

이차 드레인 트레이(110)에 의해 모여진 액체가 제5도에 도시된 바와 같이 중력에 의하여 모여지고 드레인 파이프(114)를 통하여 배출되어진다.

이 액체는 적합한 통로를 통하여 배수 드레인으로 이동되어진다. 바람직한 구체적 실시예에서 장력이 처짐을 감소시키고 적합한 정렬상태 및 끼워 맞춤 상태를 보장하기 위하여 길이방향으로 가해지는 얇고 긴 플레이트로 구성된 이동 가능한 셔터 또는 시일드(120)가 2차 드레인 트레이(110)의 힌지연결되지 않는 끝부분에 결합되어진다.

상기의 장력은 콜렉터 플레이트(84)가 신장되어지는 것과 유사하게, 제10도에 도시된 일련의 스프링 와셔(spring washer)(124)들에 의해 발생되어진다.

제6도에 상세히 도시된 바와 같이, 시일드(120)가 이차 드레인 트레이(110)의 내측 표면과 일차 염료 콜렉터 플레이트 지지부재(86)의 사이의 갭(gap)(121)내에서 자유롭게 이동가능하도록 위치되어져 있다. 신장되어진 상태에서, 세척 작업이 진행중일때 시일드(120)의 선단부는 액체 밀봉 상태가 되도록 관형시일(70)과 밀착된다.

시일(70)는 시일 브라켓트(69)를 통해 튜브 지지플레이트(66) 및 튜브 클램프 스크류(67)와 결합된다.

시일드(120)의 뒷단부는 시일드(120)의 뒷단부쪽으로 콜렉터 플레이트 지지부재(86) 아래에서 시일드(120)의 표면을 따라 흐르는 액체가 갭(121)내에서 힌지(122)쪽을 향하는 2차 드레인 트레이(110)의 내측표면을 따라 흐르고, 시일드(120)와 트레이(110) 사이에는 흐르지 않게 되어 기질(12) 위로 흐르지 않도록 보장하기에 충분한 정도까지 갭(121)내에 남아있게 된다.

세척작업이 종료되고 액체 염료가 다시 기질 위로 떨어지게 될때, 시일드(120)는 제3도 및 제4도의 좌측 어레이에 도시된 바와 같이 이차 드레인 트레이(110)의 내측 표면 및 콜렉터 플레이트 지지부재(86)에 의해 형성된 갭(121)내의 위치로 이동된다.

제9도 및 제10도에 상세히 도시된 바와 같이, 시일드(120)가 일차 염료 콜렉션 챔버(80)의 측면위치(80A)들 아래, 위어 플레이트(wear plate)(128) 아래 및 시일드 셔틀(shield shuttle)(130) 아래로 뻗어 신장볼트(125)에 끼워진 벨빌(Bellville) 타입의 스프링 와셔(124)들을 수용하기에 적합한 내부 챔버를 포함하고 있다.

신장볼트(125)가 또한 종래의 클램프 및 고정장치(126)에 의해 시일드(120)의 최끝단부에 부착된 압력 플레이트(122)를 통하여 지나가게 된다.

이와같은 형태는 스프링 와셔(124)들의 압축에 의해 시일드(120)에 제어되어진 신장상태를 제공하고, 또한 시일드(120)를 이동가능한 셔틀(130)과 결합시킨다.

셔틀(130)이 회전하는 셔틀 가이드축(132)의 길이를 따라 구동되어지면, 시일드(120)가 시일드(120)에 가해진 신장력의 변화 없이 종속되어 따르도록 강요되어진다.

시일드(120)가 폐쇄위치로부터 개방위치로(그 역으로도 같다) 역방향운동이 가능하고 확실하게, 빗나감이 없이 이동되어지도록 해주는 장치가 제3도, 제9도 및 제11도에 나타내져 있다.

어레이(26)의 각 외측 끝에서, 시일드(120)가 셔틀 가이드축(132)과 결합되어지고, 염료배출구(52)의 영역내에서 컨베이어(14)와 정렬된 방향으로 어레이(26) 옆으로 뻗어 있는 이동가능한 셔틀(130)에 부착되어진다.

셔틀 가이드축(32)의 한쪽 끝은 축(132)의 자유회전을 가능하게 하는 베어링(134) 및 지지플레이트로 지지되어져 있다. 셔틀 가이드축(132)의 반대쪽 끝은 기어박스(140)에 지지되어져 있다.

축 지지플레이트(132) 및 기어박스(140)는 일차 염료 콜렉션 챔버(80)의 엔드 플레이트(end plate)(80A)들에 볼트들로 조정가능하게 부착된 기어박스 마운팅 플레이트(gear box mounting plate)(135)에 영구적으로 부착되어진다.

염료 콜렉션 챔버(80)의 양쪽의 기어박스(40)들은 제7도 내지 제9도 및 제11도에 상세히 도시된 바와 같이 종래의 유연성 있는 구동축 어셈블리에 의해 함께 연결되어진다.

유연성 있는 구동축 어셈블리는 물등이 침투되지 않는 케이싱(casing)(145)에 의해 보호되고 그 안에서 회전하는 나선형으로 감겨진 내측 스틸코어(steel core)(146)로 구성된다.

이 스틸코어의 양끝은 축 커플링(shaft coupling)(144)(144a)에 부착되어진다. 유연성 있는 구동축 어셈블리의 중간 지점이 축 정렬칼라(shaft align ment collar)(147)에 의해 지지되어져 있다.

제11도에 도시된 바와 같이, 또한 워엄(worm)(141)과 연결되어진 딱딱한 구동축(142에 모터(160)가 바로 연결되어진다.

모터(160)가 회전되면 바로 워엄(141)이 회전되고 이어서 해당되는 일정속도 감속비로 워엄기어(worm gear)(143)가 차례로 구동된다. 워엄기어(143)는 바로 셔틀 가이드축(shuttle guide shaft)(132)에 연결되어진다.

모터(160)의 토크는 따라서 워엄기어장치 및 셔틀 가이드축(132)상의 나사산들에 의해 주어지는 복합된 기계적 잇점들에 의해 증강되어지고, 나사산들이 셔틀(130)(및 시일드(120))를 원하는 직선 방향으로 구동시킨다.

유연성 있는 구동축 어셈블리에 의해 제공된 연결을 통하여, 어레이(26)의 각 측면의 기어박스들이 가이드축(132)의 회전방향에 적합한 방향으로 어레이의 각 측면상의 셔틀(130)을 동시에 일정속도로 나아가도록 일체로 회전되어지게 된다.

이와같은 구동시스템의 특별한 잇점은 시일드(120)의 양끝이 서로 다른 비유로 이동됨에 따른 시일드(120)의 동요를 최소화 시킨다는 것이다.

다른 잇점은 민감한 염료 메니포울드 어셈블리에 진동 또는 충격을 전달하지 않도록 셔틀(130)이 완만하고 일정하게 이동한다는 것이다. 역전 가능한 모터(160)는 적합한 구동형식의 것을 사용할 수 있는데, 공기압 모터가 크기 및 신뢰성에 있어서 특히 만족할만함을 알 수 있다.

제9도에 도시되어진 바와 같이, 한 세트의 유도 프록시미티 스위치(proximity switch)(131) 등이 원하는 이동지점에의 셔틀(130)의 도착을 검출하고 적합하게 모터(160)를 정지시키기 위하여 조정가능하게 위치되어진다.

패턴 제어장치(20)에 연결되어 프록시미티 스위치(131)들 및 모터(160)는 패턴 제어장치(20)가 시일드(120)의 위치를 감지하도록 해준다.

이와같은 스위치(131)들을 사용하여, 패턴 제어장치(20)로부터의 패턴 데이타에 따라 시일드(120)의 움직임(즉, 시작과 정지)이 제어되어짐으로써, 다른 패턴을 생산하기 위해 준비하는 과정에 있어서 주어진 패턴을 생산해 내기 위하여 행해야 했던 어레이들의 세척/색상 변경등을 자동적으로 제공할 수 있게 된다.

하나의 패턴으로부터 다른 패턴으로의 변경을 자동적으로 및 전자적으로 행하는 공정에 대한 내용이 미합중국 특허 제4,170,883호에 기술되어져 있다.

Claims (7)

1. 이동하는 기질에 염료를 염착시키는 장치에 있어서, 예정된 이동경로상에 상기 기질을 이송시키는 이송수단, 상기 기질의 이동경로상에 위치하고 상기 기질의 이동경로에 가로질러 연장되는 배출구 열(row)을 가지면서 상기 기질의 이동경로 쪽으로 향하여진 궤도상에 평행하고 전향되지 않은 액체 스트림의 대응열(corresponding row)을 배출시키도록 하는 액체 배출장치, 전기적으로 코드화된 패턴 데이타 소스(pattern data source), 상기 배출구열에 인접하여 위치하고 상기 배출구의 배출 축(axis)에 정렬하여 상기 데이타 소스의 패턴 데이타에 따라 상기 액체 스트림을 교차하는 개스 스트림에 의하여 상기 배출구에서 나온 상기 액체 스트림의 궤도를 선택적으로 전향시키도록 하는 개스통로수단, 상기 배출구에 인접하고 상기 개스통로수단에 대향되게 위치하며, 상기 배출구열을 따라 연장되고 사익 개스 스트림과 상기 개스 스트림에 의하여 전향되어진 액체 스트림을 수용하도록 위치되어져 상기 스트림들이 상기 기질과 접촉하는 것을 방지하도록하는 구멍이 형성된 액체 콜렉션 챔버, 및 상기 배출구로부터 배출된 상기 평행한 전향되지 않은 스트림이 상기 기질과 접촉하는 것을 방지하기 위하여 상기 배출구열과 상기 기질 사이에 삽입되거나, 또는 상기 평행한 전향되지 않은 스트림이 아기 기질과 접촉하도록 하는 위치에 물러가는 것을 선택적으로 할 수 있는 이동가능한 시일드(shield)가 구비된 액체 봉쇄 장벽(containment barrier)을 포함하는 것을 특징으로 하는 염색장치.
2. 제1항에 있어서, 상기 시일드의 운동은 상기 데이터 소스의 데이터에 응답하여 행해지는 것을 특징으로 하는 염색장치.
3. 제1항에 있어서, 상기 이동가능한 시일드는 길고 얇은 플레이트인 것을 특징으로 하는 염색장치.
4. 제3항에 있어서, 상기 액체 봉쇄 장벽은 상기 긴 플레이트 각 끝에, 단독의 기계적 동력원에 의해 구동되는 유연성 있는 축에 의해 연결되어지는 횡단기어를 더 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 염색장치.
5. 제3항에 있어서, 상기 얇은 플레이트의 적어도 한 끝은 플레이트의 길이를 따라 장력을 유발시키는 신장장치(tensioning device)와 결합하여, 상기 플레이트에 강성(stiffness)을 제공하는 것을 특징으로 하는 염색장치.
6. 제3항에 있어서, 상기 액체 봉쇄 장벽은 상기 얇은 플레이트와 겹쳐져 관계되고 인접하여 위치되어져, 상기 플레이트상에 모여진 액체가 흘러들어오고 상기 기질위에 흐르는 것을 방지하도록 하는 2차 액체 콜렉션 트레이(collection tray)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 염색장치.
7. 제6항에 있어서, 상기 액체 콜렉션 챔버의 한쪽 벽은 실질적으로 평편하고 상기 개스 스트림에 실질적으로 평행하게 위치하며, 상기 2차 액체 콜렉션 트레이의 적어도 한 부분은 실질적으로 평편하고 상기 2차 액체 콜렉션 트레이의 평면부는 상기 액체 콜렉션 챔버의 평면벽과 상기 2차 액체 콜렉션 트레이의 상기 평면부가 슬롯을 형성하도록 인접하여 마주보게 위치되어지며, 상기 이동가능한 시일드를 구비하는 상기 얇은 플레이트는, 상기 배출구와 상기 기질 사이에 상기 시일드가 삽입되어질 때는 상기 슬롯내에 얕게 그리고 사익 시일드가 상기 물러가는 위치에 있는 때에는 상기 슬롯내에 깊게, 위치하는 것을 특징으로 하는 염색장치.

Images