KR960000937B1 - 액체 상태의 물질을 고온 가스체 유동 내로 분사하는 방법 및 장치 - Google Patents

액체 상태의 물질을 고온 가스체 유동 내로 분사하는 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

내용 없음.

Description

액체 상태의 물질을 고온 가스체 유동 내로 분사하는 방법 및 장치
제1도 내지 제3도는 본 발명의 3가지의 다른 실시예의 개략도.
제4도는 하반부가 1점 쇄선으로 개략적으로 도시된, 본 발명에 따른 장치의 실시예의 축방향 단면도.
제5도는 제4도의 선 V-V에 따른 단면도.
제6도 및 제7도는 제4도의 장칭의 2가지의다른 실시예를 도시하는 도면.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1 : 발생기 2 : 플라즈마 제트
3 : 분사 장치 4 : 유체 물질
5 : 안내 장치 6,9 : 플라즈마 외피
7,8,10,11 : 제트 12 : 주연부 본체
13 : 중심본체 14 : 회전 통로
15,23 : 아암 16 : 환상 노즐
17 : 환상 통로 18 : 노즐
19,20 : 도관 21: 인입관
2 : 복귀관
본 발명은 유체 상태의 물질의 하나 이상(at least one)의 분류(stream)를 플라즈마 제트(plasma jet)와 같은 고온 가스체 유동으로 분사하는 방법 및 장치에 관한 것이다. 본 발명은 또한 상기 방법을 수행하고, 고온 가스체 유동에 의한 모든 종류의 작용들 및 반응들에 사용하는 장치에 관한 것이다.
최근, 가스 또는 분말과 같은 세분된 물질, 가능하게는 가스에 의해 추진되게 되는 액체 및 플라즈마 제트를 사용하는, 종종 플라즈마 화학이라 칭해지는 화학 반응들 및 여러 작용들(융합, 재결정, 열분해등)의 기술들이 발전되어 왔다. 상기 기술들에 따라서, 일반적으로 시약(reagent)이라 칭해지는 상기와 같은 물질들이 플라즈마 제트에 의해 형성된 고온 유동 내로 분사된다.
양질의 결과를 얻기 위해 중요한 것은, 시약들을 상기 유동 내에서 균질 분포되고 완전 용해되도록 시약들을 분사하여야 하는 것이다. 플라즈마 제트는 고점도를 갖는 것으로 알려져 있으며, 이에 따라 시약들의 분사는 해결하기 복잡한 문제로 되는데, 이는 상기 시약들의 입자들이 플라즈마 세트 상에서 반동하기 때문이다. 이는 액체 또는 입자들의 방울들(이들의 크기는 수 미크론 내지 1,000미크론 임)을 온도 및 압력이 각각 2,000℃ 내지 10,000℃ 및 1 내지 20bar인 플라즈마 제트내로 침투시킬 때 특히 그러하다.
시약들을 플라즈마 제트내로 분사하는 상이한 방법들이 제안되어 왔다. 일반적으로 상기 방법들은 플라즈마 발생기의 상류 또는 동일높이, 또는 하류에서 시약들을 분사하는 방법을 사용한다.
제1의 경우에서는, 특히, 고온 플라즈마 제트의 큰 점도로 인한 저온 시약들과 고온 플라즈마 제트의 혼합에 관한 몇몇의 난점들은 피할 수 있다. 반면, 시약이 플라즈마 발생기를 통과해야 되기 때문에, 이 방법은 전극 또는 발생기의 벽과 반응할 위험이 있는 시약에 대해서는 수행될 수 없다. 나아가서, 그 자체의 구조가 상기와 같은 분사를 하게 되는 플라즈마 발생기들에만 상기 방법이 사용될 수 있다.
발생기의 하류에 분사하는 경우에는 상이한 방법으로 작용한다. 유동층이 형성되고, 그 내부에서 시약들의 입자들은 부가된 저장기 내에서 부유되고, 상기 입자들은 고온 유동을 향해 포획되게 된다. 상기 경우에, 고온 유동의 점도로 인해 상기 설명한 난점들이 발생된다. 입자들은 또한 중력에 의해 고온 유동내로 낙하 되게 할 수 있다. 그러나, 다시, 시약의 소량만이 고온 유동과 혼합되고, 시약의 입자들의 상당한 양은 유동상에서 반동하게 된다.
상기와 같은 플라즈마 발생기의 하류 분사에서의 수율을 개선하고, 고온 가스체 유동내의 시약들을 균일하고 만족하게 용해시키기 위해, 미합중국 특허 제4,616,779호에 세분된 물질의 하나 이상의 분류를 플라즈마 제트와 같은 고온 가스체 유동의축에 대해 공간적으로 분포된 다수의오리피스들이 천공된 스크린을 삽입하여, 상기 고온 가스체 유동내로 분사하여, 상기 고온 가스체 유동의 경로상에 상기 고온 가스체 유동을 거의 동일한 방향의 다수의 소분류(elementary flow)들로 분할시키고, 상기 소 고온 가스체 유동들과 거의 유사한 방향으로 되고 최소한 특정 상기 유동들에 의해 둘러싸인 세분된 물질의 하나 이상의 분류를 형성하기 위해, 세분된 물질의 상기 분류된 상기 오리피스들에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸인 하나 이상의 노즐로 안내되도록 하는 방법이 기재되어 있다.
따라서 사실상 동축인 분사가 고온 가스체 유동 내로의 세분된 물질의 유동으로 되어, 고온 제트와 시약 사이의 이동 조건 및 혼합물의 균질화를 촉진시키며, 이때 시약의 모든 입자들은 고온 유동에 의해 반송되어 따라서 반응될 수 있다.
본 발명의 목적은 상기 언급한 특허의 방법을 개선하여 그의 기능을 더욱 개선하기 위함이다.
상기 목적을 위해, 본 발명은 고온 가스체 유동의 경로상에, 상기 고온 가스체 유동을 성형하는 장치를 삽입하고, 유체 물질이 하나 이상의 노즐에 안내되어, 상기 장치에 의해 성형된 상기 고온 가스체 유동의 일반적인 방향과 거의 유사한 방향의 유체 물질의 분류를 형성하고, 회전 외피 형체가 상기 고온 가스체 유동에 형성되고, 또한 상기 분사 노즐이 상기 회전 외피의 축과 동축으로 배치되어 있다는 점에서 특징을 갖는, 유체 물질의 하나 이상의 분류를 플라즈마와 같은 고온 가스체 유동내로 분사하는 방법을 제공한다.
이런 식으로, 본 발명에 의하면, 상기 유체 물질은 고온 가스체 유동 내부로 분사되고, 고온 가스체의 고점도로 인해 상기 물질의 입자들은 이탈될 수 없고 플라즈마에 잔류된 상태로 유지되며, 이에 따라 이들은 결국 친밀하게 혼합된다. 따라서 플라즈마의 점도로 인한 선행 기술이 결점은 장점으로 전환된다.
미합중극 특허 제4,616,779호에서, 플라즈마의 소분류들은 세분된 물질의 입자들의 출구 노즐을 부분적으로 감싸므로, 세분된 물질의 입자들이 플라즈마에 의해 포획되는 효과의 장점은 어느 정도까지는 이미 이루어지게 된다. 그러나 상기의 경우, 2개의 주연부 방향으로 연속적인 2개의 소분류들 사이에 자유 공간들이 존재하므로, 입자들은 상기 공간들을 통해 탈출하여 플라즈마를 이탈할 수 있다. 본 발명에 따르면, 플라즈마의 내부로부터 외부까지의 입자들의 통로가 없으므로 미합중국 특허 제4,616,779호의 방법의 기능을 더욱 개선하게 된다.
본 발명의 제1의 실시예에서, 플라즈마의 상기 회전 외피는 거의 원통형이다. 상기의 경우, 플라즈마 및 유체 물질은 고온 가스체 유동의 직경의 수배 예컨대, 20배의 거리에서 성형 장치의 하류에서 친밀하게 혼합된다.
플라즈마 내에서의 유체 물질의 입자 혼합을 가속하기 위해, 제2의 실시예에서 상기 회전 외피가 거의 원추형인 것이 좋다. 이런 식으로, 상기 입자들은 플라즈마 원추내에 포획되고 함께 혼합되게 된다. 유체 물질은 균일한 원형 단면의 분류 형태로 노즐을 이탈할 수 있다. 그러나, 고온 가스체 유동과 같이, 노즐을 이탈하는 유체 물질의 분류는 환상 단면으로 되는 것이 좋다.
또한 회전 외피형 고온 가스체 유동 및/또는 유체 물질의 분류가 상기 성형 장치의 직 하류의 난류 상태로 되는 것이 좋다. 그 경우, 유체 물질의 분류가 종종 적합하며, 그 경우, 상기 노즐은 유체 물질의 상기 분류 내에 와류들을 형성하는 베인, 배플, 플랜지 또는 그와 같은 장치들로 구성되는 것이 좋다.
유체 물질의 분류는 대부분 상기 고온 가스체 유동의 하류측, 즉 상기 외피의 내부에 직접 분사된다. 그러나, 유체 물질의 분류는 또한 상류측에도 분사될 수 있는데, 이에 의해 유체 물질은 상기 고온 가스체 유동과 함께 상기 성형 장치를 통과하여, 상기 장치 내에서 혼합되기 시작한다. 또한 유체 물질을 고온 가스체 유동의 상류 및 하류를 향해 분사시킬 수도 있다. 이 변형예는 2가지의 상이한 유체 물질들이 사용될 때 특히 유리하다.
상기 방법을 용이하게 수행하기 위해, 본 발명은 그들 사이에 회전 통로를 형성하는 주연부 본체 및 중심 본체로 구성된 성형 또는 분사 장치를 제공하되, 상기 중심 본체에는 하나 이상의 노즐이 마련된다. 상기 중심 본체는 상기 회전 통로를 통과하는 하나 이상의 아암에 의해 주연부 본체에 대해 견고하게 보유되며, 상기 아암의 하류의 상기 통로의 길이는 상기 장치의 상류의 가스체 유동의 직경의 적어도 1배와 같다. 이런 식으로, 통로의 길이는 상기 장치의 출구에서, 상기 통로내의 상기 아암의 존재와 관련된 유동을 교란을 제거하기에 충분하다.
상기 중심 본체의 노즐에 상기 아암을 가로지르는 도관에 의해 유체 물질을 공급하는 것이 좋다. 상기 장치는 냉각 유체의 순환을 위한 회로를 갖는 것이 좋으며, 이 회로는 중심 본체를 냉각하기 위해 상기 아암을 가로지르는 도관들로 구성된다.
본 발명에 따른 분사 장치는 비다공성 주조(foundry)(세라믹 코어 사용)에 의해 제조할 수 있다. 이는 예컨대, 동 또는 스테인리스강으로 제조될 수 있다. 응력들을 제거하기 위해, 회전 통로의 환상 단면은 입사하는 고온 가스체 유동의 단면과 적어도 같은 면적을 제공한다. 따라서 본 발명에 따른 장치는 그의 열동력이 2.5MW 크기인 플라즈마 토오치에 연결될 수 있으며 1ton/hour까지의 분말상 물질을 분사하는데 사용될 수 있다.
플라즈마와 같은 고온 가스체 유동내에서, 유체 상태인 하나 이상의 물질을 반응 및/또는 처리하여, 상기 고온 가스체 유동의 발생기 및 상기 유체 물질을 공급하는 장치로 구성되는 본 발명에 따른 장치는, 상기 고온 가스체 유동의 경로상에 삽입되고 그들 사이에 회전 통로를 형성하는 주연부 본체 및 중심 본체를 포함하고, 상기 중심 본체에는 상기 통로의 회전축과 동축인 축을 갖는 하나 이상의 노즐이 마련되어 있는 특징을 갖는다.
이하 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명을 상술한다.
제1도 내지 제3도를 참조로 하면, 개략적으로 도시된 본 발명에 따른 장치는, 1점 쇄선의 장방형으로 표시되고 균일한 단면의 축 X-X의 플라즈마 제트(2)를 방출하는 플라즈마 발생기(1)을 포함한다. 화살표 F2의 방향으로 이동하는 플라즈마 제트(2)의 경로상에, 안내 장치(5)를 통해 유체 상태의 물질(4)가 공급되는 분사 장치(3)이 개재된다. 상기 공급 방향은 화살표 F4로 표시되어 있다. 제1도의 장치에서는, 분사 장치(3)이 개재된다. 상기 공급 방향은 화살표 F4로 표시되어 있다. 제1도으 장치에서, 분사 장치(3)은 균일한 단면의 플라즈마 제트(2)를 축 X-X와 동축인 원통형 외피형을 갖는 제트(6)(화살표 F6)으로 변화시킨다. 즉, 분사 장치(3)의 하류의 플라즈마 제트(2)의 단면은 환상으로 제공된다. 또한, 분사 장치(3)은 상기 플라즈마 회피(6) 내부로 이에 대해 동축으로 제트(7)(화살표 F7)을 방출한다. 분사 장치(3)의 하류, 예컨대 이로부터 플라즈마 제트(2)의 직경(D)의 수배가 되는 거리 L에서, 플라즈마 회피(6) 및 동축의 제트(7)의 친밀한 혼합으로 인한 플라즈마 제트(2) 및 유체 물질(4)의 조합, 상호 작용 및/또는 반응에 의해 균질의 제트(8)이 얻어진다(화살표 F8).
제2도에 개략적으로 도시된 실시예는 또한, 플라즈마 발생기(1), 플라즈마 제트(2), 분사 장치(3), 유체 물질(4) 및 유체 물질을 안내하는 장치(5)와 유체 물질의 제트(7)로 구성된다. 이 경우, 분사 장치(3)에 의해 성형되고 그에 대해 제트(7)이 동축으로 분사되는 플라즈마 외피(9)(화살표 F9)는 제1도의 외피(6)과 같이 원통형은 아니고, 원추형이며 축X-X를 향해 수렴된다. 플라즈마 외피(9) 및 유체 물질의 제트(7)의 혼합에 의해 장치(3)의 하류 및 이로부터 약간 이격된 거리에서, 플라즈마 및 물질(4)으 균질 제트(10)이 형성된다.
제1도 및 제2도의 실시예에서, 유체 물질(4)의 제트(7)(화살표 F7)을 플라즈마 제트(2,6 및 9)들과 동일한 방향 즉, 형성된 균질 제트(8) 및 (10)들을 향해, 따라서 하류 방향으로 향하게 된다. 한편, 제3도의 실시예에서, 유체 물질(4)의 제트(11)(화살표 F11)은 플라즈마 제트(2)의 반대 방향 즉, 상기 플라즈마 제트(2)의 상류로 향하는 역류 방향으로 향한다. 이 경우, 제트(11)로부터 유출되는 물질(4)는 분사 장치(3)을 통과하고 플라즈마 외피(6)(또는 9)에 의해 하류를 향해 이송된다.
물론, 도면들에 도시하지는 않았지만, 본 발명에 따른 장치에서, 하류로 향하는 유체 물질의 제트(7) 및 상류로 향하는 유체 물질의 제트(11)이 제공될 수 있다. 이 경우, 제트(7) 및 (11)들의 물질들은 상이할 수 있다.
제4도 및 제5도는 분사 장치(3)의 실시예를 나타낸다. 상기 실시예는 그들 사이에 회전 통로(14)를 형성하는 주연부 본체(12) 및 중심 본체(13)으로 구성되며, 상기 본체(13)은 회전 통로(14)를 부분적으로 폐색하게 되는 하나 이상의 아암(15)를 통해 주연부 본체(12)에 고정되어 있다.
주연부 본체(12)는 플라즈마 발생기(1)의 출구에 고정되어 있고 중심 본체(13) 및 아암(15)는 공기 역학적인 단면으로 되어 있다. 발생기(1)로부터 방출되는 플라즈마 제트(2)(화살표 F2)는 동축의 장치(3)내로 관통되며, 장애물을 형성하며 예컨데 전구형으로 된 중심 본체(13) 주위를 지나는 환상 통로(14)를 통과함으로써 원추 외피형으로 되어진다. 원추 외피형으로 되어진다. 원추 외피형 제트(9)(화살표 F9)는 환상 노즐(16)을 통해 장치(1)로부터 방출된다. 중심 본체(13)은 환상 노즐(16)과 동축이나 이 보다는 작은 환상 노즐(18)에서 종결되는 중심 환상 통로(17)을 포함한다. 아암(16)을 관통하는 도관(19)를 통해, 공급 장치(5)로부터 유체 물질(4)가 하류 환상 통로(17) 및 노즐(18)에 공급된다.
나아가서, 냉각 유체의 순환 회로가 상기 주연부 및 하류 본체(12) 및 (13)들내에 마련되어 있다. 상기 회로들은 아암(15)를 통과하는 도관(20)들을 통해 서로 연결되어 있고 인입관(21)들 및 복귀관(22)를 통해 외부와 연결되어 있다.
제2도의 장치에 대응하는 제4도 및 제5도의 장치(3)에서, 제트(7)을 방출하는 노즐(18)은 플라즈마 제트의 하류로 향한다. 한편, 제6도는, 제3도의 실시예에 부합하는 장치(3)을 개략적으로 나타내며, 여기에서 유체 물질의 제트(11)(화살표 F11)은 플라즈마 상류로 향한다.
제7도는 유체 물질의 분류(7)(화살표 F7)을 하류를 향해 분사시키고 유체 물질의 분류(11)(화살표 F11)을 상류를 향해 분사시키는 장치(3)을 개략적으로 나타낸다. 중심 본체(13)은 2개의 아암(15) 및 (23)에 의해 주연부 본체(12)에 연결되어 있고 또한 2개의 분류(7) 및 (11)은 각각 아암(15) 및 (23)을 가로지르는 통로(19) 및 (24)를 통과하여 2개의 상이한 공급원으로부터 유입되는 것으로 가정한다.
제4도에서 볼 수 있듯이, 노즐(18)의 근처에, 통로(17)내에 베인(25)들 또는 스포일러(spoiler)(26)들을 마련하여, 상기 입자들의 제트와 외피형의 플라즈마와의 혼합을 보다 용이하게 할 수 있도록, 유체 물질의 제트(7)내에 난류를 발생시킨다.
또한, 유체 물질이 첨가되게 되는 가스체 유동을 완저히 균질로 하기 위해, 아암(15)의 하류 회전 통로의 길이 ι은 제트(2)의 직경 D의 적어도 1배와 같게 한다.

Claims (13)

  1. 분말상 물질의 하나 이상의 분류를 플라즈마 분류내로 분사하는 장치에 있어서, 플라즈마 분류를 위한 축방향 통로를 한정하는 수단을 갖고, 상기 플라즈마 분류의 축방향 입구 및 축방향 출구를 구비한 환형의 제1몸체와, 상기 플라즈마 분류내에서 상이 제1몸체에 동축으로 배치되고, 상기 제1몸체로부터 이격되어 환형 통로를 한정하므로써, 환형 통로를 통과하는 플라즈마 분류를 환형 외피로 성형되게 하는 중심 본체와, 상기 중심 본체내에 동축으로 배치되어 하나 이상의 분말상 물질의 유체 분류를 상기 환형 외피내로 분사하는 노즐을 포함하고, 상기 분말상 물질은 소정의 거리에서 플라즈마 제트와 유체 분류가 환형 통로를 벗어남에 따라 상기 환형 외피내에 포함되고, 그 결과 플라즈마와 분말상 물질의 균일한 분류를 형성하는 것을 특징으로 하는 장치.
  2. 제1항에 있어서, 노즐은 중심 본체의 하류 단부에 배치되는 것을 특징으로 하는 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 중심 본체는 제1몸체로부터 연장되는 하나 이상의 아암에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 분말상 물질의 유체 분류는 상기 아암을 통해 연장되는 도관을 통해 상기 노즐에 공급되는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 노즐은 상기 중심 본체내에 동축 배치된 환형 통로를 한정하고, 이에 의해 상기 분말상 물질의 유체 분류는 환형 유동으로 노즐을 벗어나는 것을 특징으로 하는 장치.
  6. 제5항에 있어서, 환형 통로는 상기 지지 아암으로부터 하류로 상기 제1몸체의 플라즈마 분류 입구의 직경과 동일한 거리로 연장되는 것을 특징으로 하는 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 노즐은 중심 본체의 단부에서 종료되는 하류 단부를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 환형 통로는 원추형이고, 상기 제1몸체의 하류 단부를 향해 수렴하는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 하나 이상의 유체 분류를 플라즈마 분류내로 분사하는 방법에 있어서, 플라즈마 분류로부터 이와 동축으로 배치되는 환형 플라즈마 외피를 성형하는 단계와, 유체 분류를 환형 외피와 동축으로 상기 플라즈마 분류내로 분사하는 단계를 포함하고, 상기 유체 분류는 소정의 거리에서 플라즈마의 환형 외피에 포함되고, 그 결과 플라즈마 및 유체의 균일한 분류를 형성하는 것을 특징으로 하는 방법.
  10. 제9항에 있어서, 상기 유체 분류는 분말상 입자들을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 제9항에 있어서, 상기 플라즈마 외피는 원추형인 것을 특징으로 하는 방법.
  12. 제9항에 있어서, 유체 분류는 균일한 원형 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
  13. 제9항에 있어서, 유체 분류는 환형 단면을 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
KR1019880004848A 1987-04-29 1988-04-28 액체 상태의 물질을 고온 가스체 유동 내로 분사하는 방법 및 장치 KR960000937B1 (ko)

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3916465A1 (de) * 1989-05-20 1990-11-22 Bayer Ag Herstellung kugelfoermiger dispersionen durch kristallisation von emulsionen
JPH03150341A (ja) * 1989-11-07 1991-06-26 Onoda Cement Co Ltd 複合トーチ型プラズマ発生装置とその装置を用いたプラズマ発生方法
US5233153A (en) * 1992-01-10 1993-08-03 Edo Corporation Method of plasma spraying of polymer compositions onto a target surface
US5520334A (en) * 1993-01-21 1996-05-28 White; Randall R. Air and fuel mixing chamber for a tuneable high velocity thermal spray gun
US5445325A (en) * 1993-01-21 1995-08-29 White; Randall R. Tuneable high velocity thermal spray gun
US5405085A (en) * 1993-01-21 1995-04-11 White; Randall R. Tuneable high velocity thermal spray gun
DE19625539A1 (de) * 1996-06-26 1998-01-02 Entwicklungsgesellschaft Elekt Verfahren zur thermischen Behandlung von Stoffen in einem Plasmaofen
GB9707369D0 (en) * 1997-04-11 1997-05-28 Glaverbel Lance for heating or ceramic welding
US6617538B1 (en) 2000-03-31 2003-09-09 Imad Mahawili Rotating arc plasma jet and method of use for chemical synthesis and chemical by-products abatements
US7591957B2 (en) 2001-01-30 2009-09-22 Rapt Industries, Inc. Method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for surface modification
US7510664B2 (en) * 2001-01-30 2009-03-31 Rapt Industries, Inc. Apparatus and method for atmospheric pressure reactive atom plasma processing for shaping of damage free surfaces
US6660177B2 (en) 2001-11-07 2003-12-09 Rapt Industries Inc. Apparatus and method for reactive atom plasma processing for material deposition
JP4431857B2 (ja) * 2003-05-30 2010-03-17 富士フイルム株式会社 マイクロデバイス
EP1690592A1 (en) * 2005-02-15 2006-08-16 Nestec S.A. Mixing device and method including an injection nozzle
FR2922406A1 (fr) * 2007-10-12 2009-04-17 Commissariat Energie Atomique Dispositif d'injection de charge liquide a melanger/convertir au sein d'un dard plasma ou d'un flux gazeux
GB0904948D0 (en) * 2009-03-23 2009-05-06 Monitor Coatings Ltd Compact HVOF system

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US370538A (en) * 1887-09-27 Friedrich herrmann
GB432831A (en) * 1934-06-08 1935-08-02 Fritz Schori Apparatus for projecting or spraying metals or other pulverized substances
US2992869A (en) * 1957-04-15 1961-07-18 Horst Corp Of America V D Engine piston
US3062451A (en) * 1959-12-28 1962-11-06 Brennan Lab Inc Metal spraying apparatus and method
FR2001694A1 (ko) * 1968-02-10 1969-09-26 Draiswerke Gmbh
US3894209A (en) * 1973-11-23 1975-07-08 Sirius Corp Nozzle for energy beam system
AU506536B2 (en) * 1976-05-24 1980-01-10 Rockwell International Corp. Coal hydrogenation
US4065057A (en) * 1976-07-01 1977-12-27 Durmann George J Apparatus for spraying heat responsive materials
ES8203487A1 (es) * 1980-06-20 1982-04-01 Airoil Flaregas Ltd Metodo y su correspondiente aparato para la eliminacion de gases residuales
US4416421A (en) * 1980-10-09 1983-11-22 Browning Engineering Corporation Highly concentrated supersonic liquified material flame spray method and apparatus
US4540121A (en) * 1981-07-28 1985-09-10 Browning James A Highly concentrated supersonic material flame spray method and apparatus
FR2550467B1 (fr) * 1983-08-08 1989-08-04 Aerospatiale Procede et dispositif pour l'injection d'une matiere finement divisee dans un ecoulement chaud gazeux et appareil mettant en oeuvre ce procede
EP0163776A3 (en) * 1984-01-18 1986-12-30 James A. Browning Highly concentrated supersonic flame spray method and apparatus with improved material feed
SU1199283A2 (ru) * 1984-09-24 1985-12-23 Белорусское республиканское научно-производственное объединение порошковой металлургии Наконечник к пистолету дл газопламенного напылени

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