KR950704644A - 유동상 반응기내의 열 회수 방법 및 장치(method and apparatus for recovering heat in a fluidized bed reactor) - Google Patents

유동상 반응기내의 열 회수 방법 및 장치(method and apparatus for recovering heat in a fluidized bed reactor) Download PDF

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Abstract

열 전달 표면이 그 안에 배치된 열 전달 챔버를 이용하여 유동상 반응기내의 고체입자로부터 열을 회수하는 방법 및 장치가 개시된다. 고온의 고체 입자들이 연속적으로 열 전달 챔버로 공급되며, 개스는 열 전달 챔버로 공급되고 그로부터 배출된다. 개스는 고체 입자의 유동을 조절하도록 열 전달 챔버내로 도입된다. 열 전달 챔버는, 고체 입자 이송 영역보다도 열 이송 영역에 많은 열 전달 표면을 제공함으로써, 최소한 하나의 열 전달 영역(46, 46′)과 최소한 하나의 고체 입자 이송 영역(48)으로 분할된다. 열의 전달은 분리 조절되는 개스 유동(50, 50′,50″)을 열 전달 영역 및 고체 입자 이송 영역으로 도입시킴으로써 조절된다.

Description

유동상 반응기내의 열 회수 방법 및 장치(METHOD AND APPARATUS FOR RECOVERING HEAT IN A FLUIDIZED BED REACTOR)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 귀환덕트내에 열 전달 챔버를 지닌 순환 유동상 반응기의 개략적인 수직 단면도이다, 제2도는 제1도의 AA선을 따라 취한 귀환덕트의 저부에 대한 부분적인 단면도이다, 제3도는 처리 챔버내에 열 전달 챔버를 지닌 유동상 반응기의 저부에 대한 개략적인 수직 단면도이다, 제4도는 제3도의 BB선을 따라 취한 열 전달 챔버의 부분적인 단면도이다.

Claims (20)

  1. 고체 입자의 유동상을 지닌 처리 챔버는 포함하는 유동상 반응기에서, 상기 처리 챔버에 연결되고 그 안에 배치된 열 전달 표면을 지닌 열 전달 챔버를 이용하여 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법에 있어서, 고온의 고체 입자를 처리 챔버로부터 열 전달 챔버로 연속적으로 도입시키는 단계, 열 전달 챔버내의 고체 입자의 유동을 조절하도록 개스를 열 전달 챔버로 도입시키는 단계, 열 전달 챔버내에 배치된 열 전달 표면으로써 열을 회수하는 단계 및, 열 전달 챔버로부터 연소 챔버내로 배출된 고체 입자를 연속적으로 재순환하는 단계를 포함하고, 고체 입자 이송 영역보다도 열 전달 영역에 많은 열 전달 표면을 제공함으로써, 열 전달 챔버를 최소한 하나의 열 전달 영역 및 최소한 하나의 고체 입자 이송 영역으로 분활하는 단계 및, 분리 조절된 개스 유동을 열 전달 영역 및 고체 입자 이송 영역으로 도입시킴으로써 열 전달 챔버에서 열 전달을 조절하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 열 전달 영역 및 고체 입자 이송 영역으로 분리 조절된 유동화 개스를 도입하여 상기 영역들 사이의 고체 입자의 내측 유동을 조절하도록 하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  3. 제1항에 있어서, 순환 유동상 반응기의 귀환덕트내에 배치된 열 전달 챔버에서, 분리 조절된 개스 유동을 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역으로 도입하여, 상기 열 전달 챔버내에 있는 하나 또는 그 이상의 유입구와 하나 또는 그 이상의 유출구 사이에서 고체 입자의 경로를 조절하도록 하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  4. 제1항에 있어서, 처리 챔버내에 배치된 열 전달 챔버에서, 분리 조절된 개스의 유동을 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역으로 도입하여, 상기 열 전달 챔버내에 있는 하나 또는 그 이상의 유입부와 하나 또는 그 이상의 유출부 사이에 있는 고체 입자의 경로를 조절하도록 하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  5. 제1항에 있어서, 열 전달 영역 및 고체 입자 이송 영역내로 분리 조절된 유동화 개스를 도입하여, 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역을 통한 고체 입자의 내측 수평 이동을 조절하고, 상기 열 전달 영역은 고체 입자 이송 영역에 의해 서로로부터 분리되어 있으며 고체 이송 영역과 실질적으로 동일한 수평 높이에 배치된 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  6. 제1항에 있어서, 열 전달 챔버에서 유동화 개스를 열 전달 영역으로 도입하는 단계 및, 유동화 개스의 유동을 조절함으로써 열 전달을 조절하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  7. 제1항에 있어서, 열 전달 챔버내 고체 입자 이송 영역에 이송 개스 유동을 도입하는 단계, 및 상기 이송 개스 유동을 조절함으로써 열 전달을 조절하는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  8. 제1항에 있어서, 넘쳐흐름에 의해 열 전달 챔버로부터 고체를 배출시키는 단계를 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  9. 제1항에 있어서, 유동상 표면 높이 아래에 배치된 개구부에 의해 열 전달 챔버로부터 고체를 배출시키며, 바람직스럽게는 상기 개구부가 고체 유동 시일을 형성하는 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  10. 제1항에 있어서, 처리 챔버로부터 실질적으로 열 전달 챔버의 전체적인 수평 단면에 걸쳐서 고온의 고체입자를 도입하는 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 방법.
  11. 고체 입자의 유동상이 그안에 있는 처리 챔버를 지닌 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치에 있어서, 처리 챔버에 연결되고 고체 입자의 유동상을 그안에 지닌 열 전달 챔버, 열 전달 챔버내에 배치된 열 전달 표면, 처리 챔버로부터 열 전달 챔버내로 고온의 고체 입자의 연속적인 유동을 도입시키는 유입 수단, 열 전달 챔버로부터 처리 챔버로 고체 입자를 연속적으로 재순환시키는 유출 수단 및, 개스를 열 전달 챔버로 도입시키는 노즐 수단을 포함하고, 고체 입자 이송 영역에 배치된 것보다 열 전달 영역에 배치된 것이 많은 열 전달표면을 포함하며, 상기 열 전달 챔버를 최소한 하나의 열 전달 영역과 최소한 하나의 고체입자 이송 영역으로 분할하는 수단 및, 개스의 유동을 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역으로 도입시키는 분리 조절 수단을 포함하며, 열 전달 챔버에서 열 전달을 조절하는 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는, 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  12. 제 11항에 있어서, 열 전달 챔버에서 동일한 수평 높이에 배치되며, 고체 입자 이송 영역에 의해 서로로부터 분리된 두 개 또는 그 이상의 열 전달 영역을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  13. 제11항에 있어서, 유출 수단이 넘쳐흐름에 의해 고체 입자를 배출시키는 개구부를 포함하는 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  14. 제11항에 있어서, 유출 수단이 열 전달 챔버내의 유동상의 표면 높이 아래에 배치된 개구부와 같은 몇개의 협소한 수평 슬롯을 포함하고, 상기 개구부는 열 전달 챔버내에 고체 유동 시일을 형성하는 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  15. 제11항에 있어서, 순환 유동상 반응기에 있어서, 열 전달 챔버는 귀환덕트의 저부에 배치된 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  16. 제15항에 있어서, 귀환덕트는 처리 챔버의 벽과 평행한 2개의 실질적으로 평면인 관의 벽면 사이에서 형성되며, 귀환덕트는 실질적으로 유출 개구부와 같은 사각형 슬롯을 지니며, 상기 귀환덕트내의 유출 개구부는 열 전달 챔버내에서 유입 개구부를 형성하는 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  17. 제11항에 있어서, 열 전달 챔버는 연소 챔버내에 내측으로 배치된 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  18. 제11항에 있어서, 열 전달 표면은 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역내에 평탄하게 배치되며, 고체 입자 영역은 열 이송 영역보다 실질적으로 작으며, 그에 의해 합쳐진 열 전달 영역에서의 합쳐진 열 전달 표면적은 합쳐진 고체 입자 이송 영역에서의 합쳐진 열 전달 표면적보다 실질적으로 큰 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  19. 제18항에 있어서, 고체 입자 이송 영역에서 합쳐진 열 이송 표면적은 열 전달 영역에서 합쳐진 열 전달 표면과 비교하여 매우 작은 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
  20. 제11항에 있어서, 열 전달 챔버는 열 전달 영역과 고체 입자 이송 영역에 평탄하게 배치된 열 전달 표면을 포함하고, 고체 입자 이송 영역에서 합쳐진 열 전달이 열 전달 영역에서 합쳐진 열 전달의 10%보다 작도록, 합쳐진 열 전달 영역이 실질적으로 합쳐진 고체 입자 이송 영역보다 작은 것을 특징으로 하는 유동상 반응기에서 고체 입자로부터 열을 회수하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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