KR950032488A - 2개의 시아누르산 염화물 메카니즘을 갖는 반응성 디아조 염료 - Google Patents

2개의 시아누르산 염화물 메카니즘을 갖는 반응성 디아조 염료 Download PDF

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랑핑어, 슈타인호프
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Abstract

본 발명은 셀룰로오즈-함유 재료로 날염시키기 위해 사용되는 하기 일반식의 디아조 염료에 관한 것이다:
상기 식에서, n은 0,1 또는 2이고, D는 섬유-반응성 기가 없는 디아조 성분의 라디칼이고, R1, R2및 R3는 각각 수소 또는 비치환된 C1-C4-알킬이고, Z는 염소 또는 비치환 또는 치환된 아미노이고, ℓ는 히드록시술포닐페닐렌이다.

Description

2개의 시아누르산 염화물 메카니즘을 갖는 반응성 디아조 염료
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 하기 일반식(1)의 디아조 염료;
    상기 식에서, n은 0,1 또는 2이고, D는 섬유-반응성 기가 없는 비치환 또는 치환 페닐 또는 비치환 또는 치환 나프틸이고, R1, R2, 및 R3는 서로 무관하게, 각각 수소 또는 비치환 또는 치환 C1-C4알킬이고, Z는 염소 또는 일반식 NR4R5의 라디칼이며, R4은 수소 또는 비치환 또는 치환 C1-C4-알킬이고, R5은 수소, 비치환 또는 치환 C1-C4-알킬 또는 치환 페닐이고 , Q은 일반식의 라디칼이며, 단, (a) 수용성을 제공하는 5 내지 7개의 기가 분자내에 존재하고, (b)Z가 NR4R5인 경우에, R3는 비치환 또는 치환 C1-C4-알킬이고, R1,R2및 R4는 각각 수소이며, NR2-Q-NR3는 하기 구조를 갖지 않는다.
  2. 제1항에 있어서, 수용성을 제공하는 6개 또는 7개의 기가 분자내에 존재함을 특징으로 하는 디아조 염료.
  3. 제1항에 있어서, z가 일반식 NR4R5의 라디칼임을 특징으로 하는 디아조 염료.
  4. 제1항에 있어서, z가 염소임을 특징으로 하는 디아조 염료.
  5. 제1항에 있어서, R1, R2, R3및 R4가 서로 무관하게 각각 수소 또는 C1-C4-알킬임을 특징으로 하는 디아조 염료.
  6. 제1항에 있어서, R5가 비치환 또는 치환된 C1-C4알킬이거나, 또는 비치환되거나 또는 메틸, 메톡시, 카르보닐 또는 히드록시술포닐에 의해 단일 치환 내지 심중 치환된 페닐임을 특징으로 하는 디아조 염료.
  7. 제1항에 있어서, D가 비치환 또는 치환된 페닐임을 특징으로 하는 디아조 염료.
  8. 제1항에 있어서, 하기 일반식(Ⅰa)의 가짐을 특징으로 하는 디아조 염료:
    상기 식에서 P는 1 또는 2이고, Q, R1, R2, R3, R4및 R5는 각각 제1항에서 정의 한 바와 같다.
  9. 제1항에 있어서, 하기 일반식 (Ⅰb)을 가짐을 특징으로 하는 디아조 염료.
    상기 식에서, P는 1 또는 2이고, X1는 수소, 카르복실 또는 히드록시술포닐이고, X2는 수소, 메틸, 메톡시, 카르복실 또는 히드록시술포닐이고, R1, R2, R3,및 R4는 각각 제1항에서 정의한 바와 같다.
  10. 셀룰로오스-함유 재료를 날염시키기 위한 제1항에 따르는 디아조 염료의 사용방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019950005182A 1994-03-11 1995-03-10 2개의 시아누르산 염화물 메카니즘을 갖는 반응성 디아조 염료 KR950032488A (ko)

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