KR950023659A - 양이온 중합성 조성물, 중합촉매 및 중합방법 - Google Patents

양이온 중합성 조성물, 중합촉매 및 중합방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 양이온 중합성 물질을 열에 의해 단시간에 중합시켜 양호한 물성을 갖는 경화물이나 실용성 있는 양이온 중합성 화합물의 올리고머를 얻기 위한 중합조성물과 이를 중합하기 위한 중합촉매 및 중합방법에 관한 것으로서, 다음의 일반식(I)으로 나타내어지는 양이온 중합개시제 및 양이온 중합성 물질의 하나 또는 둘 이상과, 하기의 일반식(I)으로 나타내어지는 히드라지늄염을 포함하는 중합조성물임.
(여기에 있어서, R1은 메틸기, 벤질기, 파라-메톡시벤질기, 또는 파라-니트로 벤질기이며, R2는 수소원자이며, R3은 메틸기, 페닐기, 또는 파라-니트로 페닐기이다.)

Description

양이온 중합성 조성물, 중합촉매 및 중합방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

  1. 다음의 일반식(I)으로 나타내어지는 양이온 중합개시제
    (여기에 있어서, R1은 메틸기, 벤질기, 파라-메톡시벤질기, 또는 파라-니트로 벤질기이며, R2는 수소원자이며, R3은 메틸기, 페닐기, 또는 파라-니트로 페닐기이다.)
  2. 제1항에 있어서, 1, 1, 1-트리메틸-2-벤조일히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트, 1, 1-디메틸-1-벤질-2-P-니트로벤조일히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트, 1, 1-디메틸-1-P-메톡시벤질-2-P-니트로벤조일히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트로 이루어지는 군에서 선택되어지는 것을 특징으로 하는 양이온 중합개시제.
  3. 양이온 중합성 물질의 하나 또는 둘 이상과, 하기의 일반식(I)으로 나타내어지는 히드라지늄염을 포함하는 중합조성물임.
    (여기에 있어서, R1은 메틸기, 벤질기, 파라-메톡시벤질기, 또는 파라-니트로 벤질기이며, R2는 수소원자이며, R3은 메틸기, 페닐기, 또는 파라-니트로 페닐기이다.)
  4. 제3항에 있어서, 상기한 양이온 중합성 물질은 에폭시드 단량체류, 에폭시수지, 페놀/포름알데히드수지, 멜라민/포름알데히드 수지, 요소/포름알데히드 수지, 스피로오르토에스테르와 같은 환상 에테르 및 환상티오에테르(에폭시드 및 에피설파이드 이외의 물질) 및 이들의 중합체, 락톤, 스틸렌, 비닐에테르 및 비닐티오에테르와 산처리의 경우 가교 혹은 경화시 가능한 관능기를 갖는 수지 등이고, 단독, 혹은 두 종류 이상의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되어짐을 특징으로 하는 중합조성물.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기한 양이온 중합성 물질은 에폭시수지 임을 특징으로 하는 중합조성물.
  6. 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기한 양이온 중합성 물질은 비닐화합물임을 특징으로 하는 중합조성물.
  7. 제3항에 있어서, 상기한 양이온 중합성개시제는 양이온 중합성 물질에 대하여 0.1~10중량% 첨가됨을 특징으로 하는 중합조성물.
  8. 제3항 또는 제7항에 있어서, 상기한 양이온 중합개시제는 1, 1, 1-트리메틸-2-벤조일히드라지늄헥사플루오로 안티모네이트, 1, 1-디메틸-1-벤질-2-벤조일히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트, 1, 1-디메틸-1-벤질-2-P-니트로벤조일 히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트, 1, 1-디메틸-1-P-메톡시벤질-2-P-니트로벤조일 히드라지늄 헥사플루오로 안티모네이트로 이루어지는 군에서 선택되어짐을 특징으로 하는 중합조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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