KR950021049A - 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
마스크의 차광 패턴으로인한 0차광의 회절간섭을 줄여 해상도를 높이는 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법을 개시한다. 마스크를 이용한 노광 대상물의 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사되고 상기 마스크를 통과한 광선의 0차 회절광을 제거하여 ±1차 회절광을 발생하는 단계; 및 상기 ±1차 회절광을 이용하여 상기 노광 대상물을 노광하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법을 제공한다. 또한 투영한 기판; 및 상기 기판에 규칙적으로 형성되어 광 경로상의 0차 회절광을 제거하여 ±1차 회절광으로 발생하는 불투명 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크와 그 제조방법을 제공한다. 따라서 본 발명에 따라 0차광 제거 마스크를 사용한 투영 노광방법은 종래의 위상 반전 마스크에서 발생할 확률이 높은 시프트 패턴의 결합과 같은 위험한 결함이 없어서 마스크의 신뢰성을 향상시킬 수 있고, 종래 위상 반전 마스크의 해상도 또한 유지할 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제3도는 본 발명에 따른 0차광 제거 마스크를 이용한 투영 노광 방법을 도시한 도면
제4도는 상기 제3도에 도시한 0차광 제거 마스크의 제조 방법을 순차적으로 도시한 흐름도
제5A도 내지 제5G도는 상기 제3도에 도시한 0차광 제거 마스크의 제조 방법의 제1 실시예를 설명하기 위해 공정 순서대로 도시한 단면도들.
Claims (19)
- 마스크를 이용한 노광 대상물의 투영 노광 방법에 있어서, 광원으로부터 조사되고 상기 마스크를 통과한 광선의 0차 회절광을 제거하여 ±1차 회절광을 발생하는 단계; 및 상기 ±1차 회절광을 이용하여 상기 노광 대상물을 노광하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 0차 회절광을 제거하는 것은, 상기 마스크의 화면에 불투명 패턴층을 형성하여 수행하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 그 하면에 투과물질층이 더 형성된 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 마스크의 노광영역을 한정하는 차광 패턴사이에 대응하여, 상기 투과물질층상에 형성되어 상기 0차 회절광을 제거하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 상기 광원의 파장영역(파장대)에서 5%이상의 투과율을 가지는 불투명 물질을 사용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 불투명 패턴층상에 또다른 불투명 패턴층을 더 형성하여 광의 투과도를 낮추어 상기 0차 회절광을 정밀하게 제거하는 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 제3항 또는 제4항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 크롬의 불투명물질 또는 그외의 금속물질로 형성된 것을 특징으로 하는 투영 노광 방법.
- 투명한 기판; 및 기판에 규칙적으로 형성되어 광 경로상의 0차 회절광을 제거하여 ±1차 회절광으로 발생하는 불투명 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제8항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 그 하면에 상기 불투명 패턴층을 형성할 수 있는 투과물질층이 더 형성된 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제8항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 마스크의 노광영역을 한정하는 차광층 패턴사이에 대응하여, 상기 투과물질층상에 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 투명한 기판; 상기 기판 하부에 노광영역을 한정하기 위해 형성된 차광 패턴층; 상기 차광 패턴층을 매몰하면서 형성된 투과 물질층; 및 상기 투과 물질층상에 형성되고 상기 차광 패턴층 사이에 대응하여 형성되는 불투명 패턴층을 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제11항에 있어서, 상기 투과물질층은 실리콘 산화물, USG(undoped silicate glass), PSG(phospho silicate glass), BPSG(boron-phospho silicate glass) 및 SOG(spin on glass)등의 일군중에서 어느 하나로 구성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
- 제11항에 있어서, 상기 차광 패턴층과 상기 불투명 패턴층은 크롬 또는 그외의 금속물질로 구성된 것임을 특징으로 하는 마스크.
- 제11항에 있어서, 상기 불투명 패턴층은 50~1500Å의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 마스크.
- 제11항에 있어서, 상기 투과물질층은 1000Å의 두께로 형성된 것을 특징으로 하는 마스크.
- 투명한 기판의 하면에 차광 패턴층을 형성하는 단계; 상기 차광 패턴층과 상기 기판의 전면에 투과물질층을 형성하는 단계; 상기 투과물질층상에 불투명 물질을 증착하여 불투명층을 형성하는 단계; 상기 불투명층상에 감광막을 도포하고 노광하여 감광막 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 감광막 패턴을 마스크로 하여, 불투명 패턴층을 형성하는 단계를 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 감광막 패턴은 상기 감광막을 네거티브형으로 상요하고 뒷면 노광(back side)하여 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 불투명 패턴층상에 제2의 불투명층 패턴을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조방법.
- 제16항에 있어서, 상기 감광막 패턴은 상기 감광막을 전자빔이나 레이저 빔으로 전면 노광하여 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크의 제조방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1019930030227A KR0120546B1 (ko) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (1)
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KR1019930030227A KR0120546B1 (ko) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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KR950021049A true KR950021049A (ko) | 1995-07-26 |
KR0120546B1 KR0120546B1 (ko) | 1997-10-20 |
Family
ID=19373237
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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KR1019930030227A KR0120546B1 (ko) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 투영 노광 방법, 이에 사용되는 마스크 및 그 제조방법 |
Country Status (1)
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KR (1) | KR0120546B1 (ko) |
Families Citing this family (2)
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KR100555531B1 (ko) * | 2003-11-26 | 2006-03-03 | 삼성전자주식회사 | 광학 장치 및 이의 제조 방법 |
KR100913329B1 (ko) * | 2007-12-05 | 2009-08-20 | 주식회사 동부하이텍 | 비어 형성을 위한 마스크 패턴과 그 제조 방법 |
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1993
- 1993-12-28 KR KR1019930030227A patent/KR0120546B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
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KR0120546B1 (ko) | 1997-10-20 |
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