KR950010261A - 레이저 다이오드와 그 제조방법 - Google Patents

레이저 다이오드와 그 제조방법 Download PDF

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KR950010261A
KR950010261A KR1019930019684A KR930019684A KR950010261A KR 950010261 A KR950010261 A KR 950010261A KR 1019930019684 A KR1019930019684 A KR 1019930019684A KR 930019684 A KR930019684 A KR 930019684A KR 950010261 A KR950010261 A KR 950010261A
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KR1019930019684A
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Inventor
김종렬
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김광호
삼성전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 광디스크나 광 자기디스크등에 사용되는 레이저 다이오드에 관한 것으로서, 특히 이종접합계면특성이 이수한 이득도파형 반도체 레이저 다이오드와 그 제작방법에 관한 것이다.
본 발명 레이저 다이오드는 저면에 하부전극이 형성된 기판; 상기 기판의 상면에 형성되어 발진 영역을 갖는 레이저 발진층: 상기 레이저 발진층의 상부에 마련되는 금속전극; 상기 기판과 상기 레이저 발진층의 사이에 개재되어 상기 레이저 발진 영역에 전류를 제한 공급되게 하는 통전 영역을 제공하는 전류제한층을 갖추는 것을 특징으로 한다.
이상과 같은 본 발명은 제작이 간편하고 이종접합계면의 굴곡(abruptness)특성이 우수하여 신뢰성있는 레이저 다이오드를 제작할 수 있다.

Description

레이저 다이오드와 그 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도 내지 제4도는 본 발명에 따른 레이저 다이오드의 제조단계별 개략적 단면도.

Claims (7)

  1. 저면에 하부전극이 형성된 기판; 상기 기판의 상면에 형성되어 발진 영역을 갖는레이저 발진층; 상기 레이저 발진층의 상부에 마련되는 금속전극; 상기 기판과 상기 레이저 발진층의 사이에 개재되어 상기 레이저 발진 영역에 전류를 제한 공급되게 하는 통전영역을 제공하는 전류제한층를 갖추는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판의 상부에 소정 높이로 돌출되는 리지가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드.
  3. 제2항에 있어서, 상기 리지의 양측면에 전류제한층이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드.
  4. 저면에 하부전극이 형성된 p-GaAs기판; 상기 p-기판의 상면에 형성되는 p-AlGaInP하부클래드층; 상기 하부클래드층 상에 형성되고 레이저 발진영역르 갖는 GaInP활성층; 상기 활성층상에 형성되는 n-AlGaInP상부클래드층; 상기 클래드층 사이에 형성된 n-GaInP버퍼층; 상기 버퍼층상에 형성된 n+-GaAs캡층; 상기 캡층에 형성된 n-금속전극 상기 기판과 하부클래드층 사이에 개재되어 상기 레이저 발진 영역에 전류가 제한 공급되게하는 통전영역을 제공하는 n-GaAs전류제한층을 갖추는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드.
  5. 저면에 하부전극이 형성된 p-GaAs기판을 사진식각공정에 의하여 리지형태로 패터닝한 후 상기 리지의 상면 및 측면에 n+-GaInP전류제한층을 성정시키는 단계; 상기 리지상부의 전류제한층을 에칭하여 통전영역을 형성하는 단계; 상기 전류제한층과 통전영역의 전면에 p-AlGaInP하브클래드층, GaInP활성층, n-AlGaInP상부클래드층, n-GaInP, n+-GaAs캡층, 상부전극을 순차적으로 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 리지상부의 전류제한층은 결정성장법(MBE)의 챔버안에서 AS4플럭스를 조사하여 식각하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서, 리지상부의 전류제한층은 리지상면보다 약 0.1Um높게 형성하는 것을 특징으로 하는 레이저 다이오드의 제조방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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