KR940702877A - 수용성 및 소수성 잔기를 갖는 실란(silanes carrying water-solubilizing and hydrophobic moieties) - Google Patents
수용성 및 소수성 잔기를 갖는 실란(silanes carrying water-solubilizing and hydrophobic moieties)Info
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Abstract
하나이상의 수용성 잔기 및 하나이상의 소수성 그룹을 갖는 실란을 약 5 중량% 과량으로 함유하는 안정한 용액 또는 분산액의 제조에 적합한 상기 신규한 유기 실란이 특허청구되어 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (17)
- 하나이상의 음이온성 또는 비이온성 수용성 잔기 및 하나이상의 소수성 잔기를 갖는 하기 일반식(Ⅰ)의 신규한 실란 :상기식에서, R1은 탄소수 6 내지 30의 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 알크 아릴 및 아르알킬 라디칼로 이루어진 그룹중에서 선택된 1가의 유기 잔기이고; R2는 알킬리덴, 사이클로알킬리덴, 아릴리덴, 알크아릴리덴 및 아르알킬리덴으로 이루어진 그룹중에서 선택된 2가의 유기 잔기이고, 이때 R1+R2의 총 탄소수는 5 이상이고; R3는 실리콘에 직접 결합된 탄소를 갖는 2가의 유기 라디칼이고; R4는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; W는 AZ 및 O(CH2CHR5O)m(여기에서 R5는 H 또는 저급 알킬이다)으로 이루어진 그룹중에서 선택된 잔기이고; A는 CO2및 SO3로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; Z는 알칼리금속 및 NR6R7R8R9(여기에서 R6은 H 또는 저급 알킬이고, R7, R8및 R9는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고, 이때 R7+R8+R9의 식량은 약 300미만이다)로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; X는 할라이드 또는 OR10라디칼(여기에서 R10은 H, 저급알킬, 아릴 또는 알크아릴 유기 라디칼 또는이고, 이때 R11은 저급 알킬이다)이고; n1은 0 또는 1의 정수이고; n2은 1 또는 3의 정수이고; n3은 0 또는 1의 정수이고; n4은 1 또는 2의 정수이고; n5은 0 또는 1의 정수이고; a는 0 또는 1의 정수이고; m은 5 내지 약 70 범위의 정수이다.
- 제1항에 있어서, R1, R2및 R3중 적어도 하나가 하나이상의 헤테로원자 및 하나이상의 작용기를 함유하는 실란.
- 제2항에 있어서, 상기 헤테로원자가 O, N 및 S로 이루어진 그룹중에서 선택되고, 상기 작용기가 OH, CO2,에테르, 아민, 아미드 및 탄소-탄소 결합으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 실란.
- 제1항에 있어서, R1+R2의 총 탄소수가 7 이상인 실란.
- 제1항에 있어서, R1+R2의 총 탄소수가 7 내지 26인 실란.
- 제1항에 있어서, W가 AZ 잔기인 실란.
- 제1항에 있어서, W가 O(CH2CHR5O)2잔기인 실란.
- 제6항에 있어서, Z가 NR6R7R8R9라디칼인 실란.
- 제6항에 있어서, Z가 알칼리 금속인 실란.
- 제6항에 있어서, A가 CO2및 SO3로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼인 실란.
- 하나이상의 음이온성 또는 비이온성 수용성 잔기 및 하나이상의 소수성 잔기를 갖는 하기 일반식(Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 신규한 실란 :상기식에서, R3은 실리콘에 직접 결합된 탄소를 갖는 2가 유기 라디칼이고; R4는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; R5는 H 또는 저급알킬이고; R12는 H, 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 알크아릴 및 아르알킬 라디칼이고; R13은 알킬리덴, 사이클로알킬리덴, 아릴리덴, 알크아릴리덴 및 아르알킬리덴으로 이루어진 그룹중에서 선택된 2가의 유기 잔기이고; R1+R2의 총 탄소수는 약 30미만이고; R14는 소수성 1가 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 알크아릴 및 아르알킬 유기 라디칼이고; R15는 H 또는 저급알킬이고; A는 CO2및 SO3로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; Z는 알칼리금속 및 NR6R7R8R9(여기에서 R6은 H 또는 저급 알킬이고, R7, R8및 R9는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고, 이때 R7+R8+R9의 식량은 약 300미만이다)로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; X는 할라이드 또는 OR10라디칼(여기에서 R10은 H, 저급알킬, 아릴 또는알크아릴 유기 라디칼 또는이고, 이때 R11은 저급 알킬이다)이고; n1은 1 내지 3의 정수이고; n4은 1 또는 2의 정수이고; a는 0 또는 1의 정수이고; b는 0 또는 1의 정수이고; m은 5 내지 약 70 범위의 정수이다.
- 제11항에 있어서, 하기 일반식으로 정의되는 실란;상기식에서, R12는 H, 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 알크아릴 및 아르알킬 라디칼이고; R13은 지방족 라디칼, 방향족 2가 유기 라디칼, 아르알킬 라디칼 또는 알크아릴 라디칼이고; R3은 실리콘에 직접 결합된 탄소를 갖는 2가 유기 라디칼이고; R4는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; A는 CO2및 SO3로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; Z는 알칼리금속 및 NR6R7R8R9(여기에서 R6은 H 또는 저급 알킬이고, R7, R8및 R9는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고, 이때 R7+R8+R9의 식량은 약 300미만이다)로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; X는 할라이드 또는 OR10라디칼(여기에서 R10은 H, 저급알킬, 아릴 또는 알크아릴 유기 라디칼 또는이고, 이때 R11은 저급 알킬이다)이고; n1은 1 또는 3의 정수이고; n4는 1 또는 2의 정수이고; a는 0 또는 1의 정수이고; b는 0 또는 1의 정수이다.
- 제12항에 있어서, R12및 R13중 적어도 하나가 하나이상의 헤테로원자 및 하나이상의 적용기를 함유하는 실란.
- 제13항에 있어서, 상기 헤테로원자가 O, N 및 S로 이루어진 그룹중에서 선택되고, 상기 작용기가 OH, CO2에테르, 아민, 아미드 및 탄소-탄소 이중 결합으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 실란.
- 제11항에 있어서, 하기 일반식(Ⅲ)에 의해 정의되는 실란;상기식에서, R14는 소수성 1가 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 알크아릴 및 아르알킬 유기 라디칼이고; R5는 H 또는 저급알킬이고; R15는 H 또는 저급알킬이고; R3은 실리콘에 직접 결합된 탄소를 갖는 2가 유기 라디칼이고; R4는 H 및 저급 알킬로 이루어진 그룹중에서 선택된 라디칼이고; X는 할라이드 또는 OR10은 H, 저급알 킬, 아릴 또는 아크아릴 유기 라디칼 또는이고, 이때 R11은 저급 알킬이다)이고; n4은 1 또는 2의 정수이고; a는 0 또는 1의 정수이고; b는 0 또는 1의 정수이고; m은 5 내지 약 70 범위의 정수이다.
- 제15항에 있어서, R14가 하나이상의 헤테로원자 및 하나이상의 적용기를 함유하는 실란.
- 제16항에 있어서, 상기 헤테로원자가 O, N 및 S로 이루어진 그룹중에서 선택되고, 상기 작용기가 OH, CO2에테르, 아민, 아미드 및 탄소-탄소 결합으로 이루어진 그룹중에서 선택되는 실란.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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