KR940701464A - 화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치 - Google Patents

화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치

Info

Publication number
KR940701464A
KR940701464A KR1019930703851A KR930703851A KR940701464A KR 940701464 A KR940701464 A KR 940701464A KR 1019930703851 A KR1019930703851 A KR 1019930703851A KR 930703851 A KR930703851 A KR 930703851A KR 940701464 A KR940701464 A KR 940701464A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
concentration
chemical treatment
treatment liquid
analysis
predetermined
Prior art date
Application number
KR1019930703851A
Other languages
English (en)
Inventor
마꼬도 스가
마사시 니와
후미오 고지마
노부마사 이시다
고오지 곤도오
Original Assignee
이시마루 쓰네오
닛뽕 덴소오 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP9815492A external-priority patent/JPH05295555A/ja
Priority claimed from JP13895092A external-priority patent/JPH05331651A/ja
Application filed by 이시마루 쓰네오, 닛뽕 덴소오 가부시기가이샤 filed Critical 이시마루 쓰네오
Publication of KR940701464A publication Critical patent/KR940701464A/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601—Process or apparatus
    • C23C18/1633—Process of electroless plating
    • C23C18/1675—Process conditions
    • C23C18/1683—Control of electrolyte composition, e.g. measurement, adjustment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/1601—Process or apparatus
    • C23C18/1619—Apparatus for electroless plating
    • C23C18/1628—Specific elements or parts of the apparatus
    • G—PHYSICS
    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
    • G05D21/00—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value
    • G05D21/02—Control of chemical or physico-chemical variables, e.g. pH value characterised by the use of electric means
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/0318—Processes
    • Y10T137/0324—With control of flow by a condition or characteristic of a fluid
    • Y10T137/0329—Mixing of plural fluids of diverse characteristics or conditions
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T137/00—Fluid handling
    • Y10T137/2496—Self-proportioning or correlating systems
    • Y10T137/2499—Mixture condition maintaining or sensing
    • Y10T137/2509—By optical or chemical property

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

분석장치로 이번회에 분석된 화학적 처리액(도금액)중의 소정 성분 농도와 전회에 분석 소정 성분 농도와의 차이를 구하고, 이 차이와, 분석장치가 이들 각 성분 농도를 분석하기 위하여 도금액을 샘프링한 각 시각의 시간차로부터 소정 성분 농도의 변화 속도를 구한다(140).
그리고 이 변화 속도와, 분석 장치가 도금액의 분석을 위해 이번회의 도금액을 샘플링한 시각부터 현재시각 까지의 경과시간으로부터 이번회의 분석 결과에 대한 보정량을 구하고(150), 그 보정량에 의거하여 분석 결과를 보정하여 현재 농도를 산출한다(150). 이 결과, 분석 장치에 의한 도금액의 분석 시간에 관계없이 현재 농도를 정확하게 검출할 수 있다.

Description

화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예 1의 구성을 예시한 블록도,
제2도는 본 발명의 실시예 2의 구성을 예시한 블록도,
제3도는 실시예의 도금액의 자동 관리장치 전체의 구성을 나타낸 개략 구성도,
제4도는 실시예 1의 제어장치에 있어서 실행되는 도금액 농도 제어 처리를 나타낸 플로우 차아트.

Claims (11)

  1. 화학적 처리액을 샘플링하여 제1분석시에서의 화학적 처리액중의 소정 성분의 제1농도에 대응하는 제1농도 정보와 제1분석시로부터 소정 시간 경과한 제2분석시에서의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 제1농도에 대응하는 제2농도 정보를 분석하고, 이 분석에 의하여 얻어진 상기 제1분석시와 상기 제2분석시의 소요시간으로부터 제2분석시보다 소정시간 경과한 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도를 산출하는 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도는 상기 제2분석시로부터 상기 제2농도 정보가 얻어지는데 필요한 시간이 경과한 시간에서의 농도인 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출 방법.
  3. 화학적 처리액을 샘플링하여 제1분석시에서의 화학적 처리액중의 소정 성분의 제1농도에 대응하는 제1농도 정보와 제1분석시로부터 소정시간 경과한 제2분석시에서의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 제2농도에 대응하는 제2농도 정보를 분석하는 분석 수단과, 이 분석 수단에 의해 얻어진 상기 제1분석시와 상기 제2분석시의 소요시간으로부터 상기 제2분석시보다 소정시간 경과한 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도를 산출하는 농도 산출 수단을 가진 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출 장치.
  4. 제3항에 있어서, 상기 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도는 상기 제2분석시로부터 상기 제2농도 정보가 얻어지는데 필요한 시간이 경과한 시간에서의 농도인 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출장치.
  5. (가)주기적으로 화학적 처리액을 샘플링하여 화학적 처리액중의 소정성분 농도를 분석하는 분석 수단과, (나)이 분석 수단에 의해 얻어진 상기 소정 성분의 제1농도와 상기 제1농도 보다도 소정 시간 경과한 상기 소정 성분의 제2농도와의 차이와, 상기 제1농도를 얻기 위하여 상기 화학적 처리액을 채취한 제1소정 시간과 살기 제2농도를 얻기 위하여 상기 화학적 처리액을 채취한 제2소정 시간과의 시간차로부터 상기 화학적 처리액중의 소정 성분농도의 변화 속도를 산출하는 변화 속도 산출 수단과, (다)이 변화 속도 산출 수단에서 산출된 변화 속도와, 상기 제2소정 시간과 상기 제2소정 시간 보다 소정 시간 경과한 제3소정 시간과의 시간차로부터 상기 소정 시간에서의 제3농도를 산출하는 변화량 산출 수단과, (라)이 변화량 산출 수단에서 산출된 상기 제3소정 시간에서의 제3농도결과에 따라 상기 화학적 처리액에 상기 소정 성분 농도로 하여 출력하는 보정 수단으로 됨을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출장치.
  6. (가)주기적으로 화학적 처리액을 샘플링하여 화학적 처리액중의 소정 성분 농도를 분석하는 분석 수단과, 이 분석 수단에 의하여 얻어진 상기 소정 성분의 제1농도와 상기 제1농도보다 소정 시간 경과한 상기 소정 성분의 제2농도와의 차이와, 상기 제1농도를 얻기 위하여 상기 화학적 처리액을 채취한 제1소정 시간과 상기 제2농도를 얻기 위하여 상기 화학적 처리액을 채취한 제2소정 시간과의 시간차로부터 상기 화학적 처리액중의 소정 성분 농도의 변화 속도를 산출하는 변화 속도 산출 수단과, 이 변화 속도 산출 수단에서 산출된 변화 속도와 상기 제2소정시간과 상기 제2소정 시간보다 소정 시간 경과한 제3소정 시간차로부터 상기 제3소정 시간에서의 제3농도를 산출하는 변화량 산출 수단과, 이 변화량 산출 수단에서 산출된 상기 제3소정 시간에서의 제3농도 결과에 따라 상기 화학적 처리액에 상기 소정 성분 농도로 하여 출력하는 보정 수단으로 되어 있고, 화학적 처리조에 수용된 화학적 처리액중의 화학적 처리에 의하여 소비되는 소정 성분의 제2농도 정보를 검출하는 농도 검출 수단과, (나)이 농도 검출 수단으로 농도검출되는 소정 성분을 보급제로 하여 상기 화학적 처리조에 보급하는 보급 수단과, (다)상기 변화량 산출 수단에 의해 산출된 상기 소정 성분의 제2농도와 상기 변화량 산출 수단에 의해 산출된 소정 성분의 상기 제3농도에 의거하여 상기 보급 수단에 의한 보급제의 보급 속도 또는 보급량을 산출하는 제어량 산출 수단과, (라)이 제어량 산출 수단으로 산출된 보급 속도 또는 보급량에 따라 상기 보급 수단을 구동제어하는 보급 제어 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 자동 관리장치.
  7. (가)제1분석시에서의 화학적 처리액중의 소정 성분의 제1농도에 대응하는 제1농도 정보와, 상기 제1분석시로부터 소정 시간 경과한 제2분석시에서의 화학적 처리액중의 상기 소정성분의 제2농도에 대응하는 제2농도 정보를 검출하고, (나)상기 제2분석시로부터 소정 시간 경과한 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도가 되도록 상기 제1농도 정보와 상기 제2농도 정보에 의거하여 설정하는 복수의 루울과, 상기 복수의 루울에서의 상기 제1농도 정보와 제2농도 정보를 소정의 범위의 집합으로 구분함과 아울러 구분된 집합에서의 확신도를 설정하는 함수를 기억하여 상기 복수의 루울에서의 각각의 확신도를 연산하며, (다)이 확신도로부터 상기 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도의 목표치를 설정하고, 상기 제3농도의 목표치에 따라 화학적 처리액에 상기 소정 성분을 보급하는 것을 특징으로 하는 도금액의 농도 검출방법.
  8. 제7항에 있어서, 상기 루울은 복수의 소정 성분의 농도 정보로 되어 있음과 아울러 상기 루울에서의 복수의 상기 제1농도 정보와 제2농도 정보를 소정의 범위의 집합으로 구분하여 구분된 집합에서의 확신도가 설정된 함수를 기억하는 것을 특징으로 하는 도금액의 농도 검출 방법.
  9. (가)제1분석시에서의 화학적 처리액중의 소정 성분의 제1농도에 대응하는 제1농도 정보와, 상기 제1분석시로부터 소정 시간 경과한 제2분석시에서의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 제2농도에 대응하는 제2농도 정보를 검출하는 분석 수단과, (나)상기 제2분석시로부터 소정 시간 경과한 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도가 되도록 상기 제1농도 정보와 상기 제2농도 정보에 의거하여 설정하는 복수의 루울과, 상기 복수의 루울에서의 상기 제1농도 정보와 제2농도 정보를 소정의 범위의 집합으로 구분함과 아울러 구분된 집합에서의 확신도를 설정하는 함수를 기억하는 기억수단과, (다)상기 복수의 루울에서의 각각의 확신도를 연산하여 이 확신도로부터 상기 제3의 화학적 처리액중의 상기 소정 성분의 농도의 목표치를 설정하는 설정 수단으로 되는 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출장치.
  10. 제9항에 있어서, 상기 기억수단에 기억된 루울은 복수의 소정 성분의 농도 정보로 되어 있음과 아울러 상기 기억수단은 상기 루울과, 상기 루울에서의 복수의 상기 제1농도 정보와 제2농도 정보를 소정의 범위의 집합으로 구분하여, 구분된 집합에서의 확신도가 설정된 함수를 기억하고 있는 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 농도 검출장치.
  11. (가)복수의 성분으로 된 화학적 처리액을 수용한 화학적 처리액조에 화학적 처리에 의하여 소비되는 화학적 처리액중의 각종 성분을 보급제로 하여 각종 성분을 독립적으로 보급하는 보급 수단과, (나)상기 화학적 처리액중의 상기 보급제의 목표 농도와 피화학 처래재의 화학적 처리 조건을 기억하는 조건 입력 수단과, (다)이 조건 입력 수단에 기억된 화학적 처리액중의 상기 각종 보급제의 목표 농도와 피화학적 처리재의 화학 처리 조건에 의거하여 상기 보급수단이 보급하는 상기 보급제의 보급 속도 또는 보급량을 산출하는 제어량 산출 수단과, (라)이 제어량 산출 수단으로 산출된 보급 속도 또는 보급량에 따라 상기 보급 수단으로부터 상기 화학적 처리조에 대한 각종 보급제의 보급속도 또는 보급량을 제어하는 보급 제어 수단과, (마)상기 화학적 처리액조의 농도를 상기 각종 보급제를 독립적으로 분석하는 농도 분석 수단과, (바)이 농도 분석 수단에 의한 분석 결과에 의하여 각종 보급제 농도의 단위 시간당의 변화량을 산출하는 농도 변화량 산출 수단과, (사)상기 농도분석 수단으로 분석된 각 보급제의 농도와 목표 농도와의 편차 및 상기 농도 변화량 산출 수단으로 산출된 각 보급제 농도의 변화량과, 상기 각 보급제의 보급 속도 또는 보급량의 보정량에 의거하여 설정하는 루울과, 상기 복수의 루울에서의 상기 농도 분석 수단으로 분석된 각 보급제의 농도와 목표 농도와의 편차 및 상기 농도 변화량 산출 수단으로 산출된 각 보급제 농도의 변화량과 상기 각 보급제의 보급 속도 또는 보급량의 보급량을 소정의 범위의 집합으로 구분함과 아울러 구분된 집합에서의 확신도를 설정하는 함수를 기억하는 기억 수단과, (아)상기 복수의 루울에서의 각각의 확신도를 연산하여 이 확신도로부터 상기 각 보급제의 보급 속도 또는 보급량의 보정량을 산출하는 보정량 산출 수단과, (자)이 설정된 보정량에 의하여 상기 제어량 산출 수단에서 산출된 보급속도 또는 보급량을 보정하여 상기 보급 제어 수단이 제어하는 각 보급제의 보급 속도 또는 보급량을 변경하는 제어량 갱신 수단으로 되는 것을 특징으로 하는 화학적 처리액의 자동 관리 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019930703851A 1992-04-17 1993-04-16 화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치 KR940701464A (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP92-98154 1992-04-17
JP9815492A JPH05295555A (ja) 1992-04-17 1992-04-17 めっき液の自動管理装置
JP13895092A JPH05331651A (ja) 1992-05-29 1992-05-29 化学的処理液の濃度検出装置及び自動管理装置
JP92-138950 1992-05-29
PCT/JP1993/000486 WO1993021359A1 (en) 1992-04-17 1993-04-16 Method of and apparatus for detecting concentration of chemical processing liquid and automatic control apparatus for the same method and apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR940701464A true KR940701464A (ko) 1994-05-28

Family

ID=26439358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019930703851A KR940701464A (ko) 1992-04-17 1993-04-16 화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5450870A (ko)
KR (1) KR940701464A (ko)
DE (1) DE4391640T1 (ko)
WO (1) WO1993021359A1 (ko)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5631845A (en) * 1995-10-10 1997-05-20 Ford Motor Company Method and system for controlling phosphate bath constituents
DE19539760C2 (de) * 1995-10-26 1998-06-04 Manz Galvanotechnik Gmbh Verfahren zur Steuerung des Wasserflusses in einem Spülsystem einer Anlage für die Galvano- und Oberflächentechnik
DE19814500A1 (de) * 1998-04-01 1999-10-14 Henkel Kgaa Automatische Kontrolle und Steuerung des Tensidgehalts in wäßrigen Prozeßlösungen
US6365033B1 (en) * 1999-05-03 2002-04-02 Semitoof, Inc. Methods for controlling and/or measuring additive concentration in an electroplating bath
EP1099013A2 (en) * 1998-07-13 2001-05-16 DJ Parker Company, Inc. d/b/a Parker Systems Paced chemical replenishment system
US6269533B2 (en) * 1999-02-23 2001-08-07 Advanced Research Corporation Method of making a patterned magnetic recording head
US6496328B1 (en) 1999-12-30 2002-12-17 Advanced Research Corporation Low inductance, ferrite sub-gap substrate structure for surface film magnetic recording heads
US7001652B2 (en) * 2002-07-09 2006-02-21 Pinney Steve B Composite fiber-resin tube with diametral fiber truss and method of manufacture
US6986835B2 (en) * 2002-11-04 2006-01-17 Applied Materials Inc. Apparatus for plating solution analysis
US7851222B2 (en) * 2005-07-26 2010-12-14 Applied Materials, Inc. System and methods for measuring chemical concentrations of a plating solution

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3060950A (en) * 1958-12-27 1962-10-30 Shell Oil Co Buffer vessel with controlled by-pass and method of operating same
JPS53131963A (en) * 1977-04-25 1978-11-17 Kurabo Ind Ltd Device for controlling nitrogen oxide removing device
US4315518A (en) * 1980-06-30 1982-02-16 Western Electric Company, Inc. Methods of and system for controlling copper concentration in a solution
US4372666A (en) * 1981-11-16 1983-02-08 Pako Corporation Automatic variable-quantity/variable-time anti-oxidation replenisher control system
JPS602386B2 (ja) * 1982-03-16 1985-01-21 石原薬品株式会社 めっき液及び化成液の管理方法
JPH0247550B2 (ja) * 1982-08-23 1990-10-22 Chusho Kigyo Jigyodan Mudenkaidometsukiekinokanrihoho
US4464315A (en) * 1982-12-20 1984-08-07 Betz Entec, Inc. Indexing controller system and method of automatic control of cooling water tower systems
PT78888B (en) * 1984-07-11 1986-06-02 Vni Proek I Alum Elek Promy Carbonization control method for aluminate solution
JPS61199069A (ja) * 1985-02-28 1986-09-03 C Uyemura & Co Ltd めっき液濃度自動連続管理装置
JPH01147707A (ja) * 1987-12-04 1989-06-09 Toshiba Corp 薬品注入制御装置
JPH02254181A (ja) * 1989-03-29 1990-10-12 Toyama Nippon Denki Kk エッチング浴の安定剤の管理方法
JP2971512B2 (ja) * 1990-05-19 1999-11-08 バブコツク日立株式会社 湿式排煙脱硫装置の制御方法
GB9108387D0 (en) * 1991-04-19 1991-06-05 Unilever Plc Washing process
US5340468A (en) * 1993-03-31 1994-08-23 Hawthorne Treatment Systems, Inc. System for controlling addition of lime to reduce water alkalinity

Also Published As

Publication number Publication date
US5450870A (en) 1995-09-19
DE4391640T1 (de) 1994-05-05
WO1993021359A1 (en) 1993-10-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5470484A (en) Method and apparatus for controlling the feed of water treatment chemicals using a voltammetric sensor
KR940701464A (ko) 화학적 처리액의 농도 검출 방법, 장치 및 그 자동 관리장치
CN109416338B (zh) 电解质浓度测定装置
US9970919B2 (en) Method and device for monitoring and controlling the state of a process stream
US4804443A (en) Method and apparatus for the determination of electrochemically active components in a process stream
EP3289346B1 (en) Renewable mercury meniscus electrode with mercury circulation system and contaminant removal
RU2001114430A (ru) Устройства и способ измерения аммиака в жидкостях
JP6818336B2 (ja) 洗浄液の汚染度判定装置及び汚染度判定方法
Lassiter et al. Fate of toxic organic substances in the aquatic environment
JP2021109139A (ja) 情報処理装置、情報処理方法及びプログラム
JP3116052B2 (ja) 環境成分測定装置
JPH02243784A (ja) 液管理装置
AU730153B2 (en) A method and apparatus for controlling the feed of water treatment chemicals using a voltammetric sensor
CN111373250A (zh) 使用氯作为活性碱测定塔中游离氯浓度的方法
JP3347802B2 (ja) 溶液濃度管理装置
JP2020020727A (ja) 残留塩素検出装置及び残留塩素検出方法
JPS59214750A (ja) ナトリウムイオン物質濃度の連続モニタ−装置
JPH0634638A (ja) 自動化学分析装置
JPS588744B2 (ja) 水中のアンモニア性窒素分析方法
US20200182756A1 (en) Method for diluting a sample liquid and dilution unit for a subsequent analysis
US4504367A (en) Monitoring of chemical species in solution and apparatus therefor
Morgan et al. Determination of Oxygen Uptake Rate by Polarographic Method
RU2102736C1 (ru) Способ инверсионно-вольтамперометрического определения разновалентных форм мышьяка в водных растворах
RU2094788C1 (ru) Автоматический анализатор остаточного активного хлора
JPH0843338A (ja) 感光材料現像処理用水洗水の監視方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application