KR940009677B1 - Baths and process for chemically polishing stainless steel surfaces - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 스테인레스강 표면을 화학연마 하기위한 연마욕의 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a composition of a polishing bath for chemical polishing a stainless steel surface.
금속표면의 화학연마는 [금속의 전해와 화학연마]-W. J. Teg. Tegart-Dunod-1960-P.122등에 잘 알려진 기술이며 ; 이는 연마되는 금속표면을 산화성 연마욕에서 처리하는 것이다. 수용액에 염산, 인산과질산 혼합물을 함유하는 연마욕(미국특허 제2,662,814호)은 일반적으로 오스테나이트 스테인레스강의 화학연마에 사용된다. 연마질을 개량하기 위하여, 통상 계면활성제, 점도조절제와, 광택제와 같은 적합한 첨가제를 이들 연마욕에 혼합한다. 따라서, 미국특허 제 3,709,824호에서, 스테인레스강 표면의 화학연마용 연마욕의 조성물은 수용액에 인산, 질산과 염산의 혼합물, 수용성 중합체에서 선택된 점성조절제, 계면활성제와 광택제인 술포살리실산을 함유시킨 것을 제공하고 있다.The chemical polishing of the metal surface is [electrolytic and chemical polishing of metal] -W. J. Teg. Tegart-Dunod-1960-P. 122 is a well-known technique; This is to treat the metal surface to be polished in an oxidative polishing bath. Polishing baths (US Pat. No. 2,662,814) containing a mixture of hydrochloric acid, phosphoric acid and nitric acid in an aqueous solution are generally used for chemical polishing of austenitic stainless steels. In order to improve the abrasive, suitable additives such as surfactants, viscosity modifiers and brightening agents are usually mixed in these polishing baths. Thus, in US Pat. No. 3,709,824, the composition of a polishing bath for chemical polishing on stainless steel surfaces provides that the aqueous solution contains a phosphoric acid, a mixture of nitric acid and hydrochloric acid, a viscosity modifier selected from a water soluble polymer, a sulfosalicylic acid surfactant and a polishing agent. Doing.
이들 공지 연마욕은 매우 높은 속도로 금속을 부식하는 특성을 가지고 있다. 이러한 연마욕에 의하여 스테인레스강 표면을 연마처리 하는 것은 부분부식을 일으키는 위험때문에, 통상 수분이상을 초과할 수 없다. 공지된 연마욕의 이러한 고속도의 작용은 어떠한 용도에 있어서, 특히 보일러, 오토클레이브 또는 결정 장치와 같은 대형용기의 내벽면을 연마하는데 사용할 수 없기 때문에 불리하다. 이러한 용기를 충전하고 배출하는데 필요한 시간이 화학연마 처리의 최적지속시간보다 통상 더 길기 때문에, 사실상 벽면을 균일하게 연마하는 것은 불가능하며, 벽의 어떠한 부분은 불완전하게 연마되고, 다른 부분은 깊히 부식된다. 더욱이 공지의 화학연마 연마욕의 고속도의 작용은 연마의 제어를 어렵게 한다. 또한 이들 공지의 연마욕은 이것이 연마욕의 일부 조성에게 급격한 변화를 가져오기 때문에, 연마욕의 회복이 어려워서 접촉표면 연마용으로 사용할 수 없다. 이들은 연마될 표면의 표면적이 연마욕에서 이용할 수 있는 용량과 비교하여 대형연마장치, 예를들어 대형교환면적을 갖는 열교환기의 연마에 적합하지 않다.These known polishing baths have the property of corroding metal at a very high rate. Polishing the stainless steel surface by such a polishing bath usually cannot exceed more than a few minutes because of the risk of causing partial corrosion. This high speed action of known polishing baths is disadvantageous in some applications, in particular because they cannot be used to polish the inner wall surfaces of large vessels such as boilers, autoclaves or crystallizers. Since the time required for filling and discharging these containers is usually longer than the optimum duration of chemical polishing, it is virtually impossible to polish the walls evenly, and some parts of the walls are incompletely polished and others are deeply corroded. . Moreover, the high speed action of the known chemical polishing polishing bath makes the control of polishing difficult. In addition, these known polishing baths have a drastic change in some compositions of the polishing bath, so that the recovery of the polishing bath is difficult and cannot be used for contact surface polishing. They are not suitable for polishing large polishing devices, for example heat exchangers with large exchange areas, in comparison with the capacity of the surface to be polished in the polishing bath.
유럽특허 B19.964(솔베이 앤드 시에)에는 상기와 같은 결점을 피하는 매우 늦은 작용의 화학연마 연마욕이 제안되고 있다. 이들 연마욕은 적합한 비율의 염산, 인산과 질산의 혼합물, 술포살리실산, 염화알킬피리디놀과 메틸 셀루로오스로 되어 있다.European patent B19.964 (Solvay and Si) proposes a very late acting chemical polishing polishing bath which avoids such drawbacks. These polishing baths consist of a suitable ratio of hydrochloric acid, a mixture of phosphoric acid and nitric acid, sulfosalicylic acid, alkylpyridinol chloride and methyl cellulose.
이들은 특히 크롬과 니켈 합금강인 ASTM-340L 또는 ASTM-316L 등급의 오스테나이트 스테인레스강의 표면을 균질로 서서히 연마하는데 적합함을 알 수 있다.It can be seen that they are particularly suitable for the homogeneous slow grinding of the surface of austenitic stainless steels of ASTM-340L or ASTM-316L grades of chromium and nickel alloy steels.
특히 오스테나이트 급의 스테인레스강 표면의 완만한 화학연마를 위한 연마욕의 다른 조성으로 우수한 연마를 얻을 수 있을 뿐만 아니라, 예를들어 리벳트되고, 용접되거나 볼트 고정된 조립품의 경우와 같은 다른급의 강철표면을 전기부식의 위험없이 동시에 연마하는 것이 가능하다.Not only can a good polishing be achieved with a different composition of the polishing bath for gentle chemical polishing of austenitic stainless steel surfaces, but also for other grades such as, for example, riveted, welded or bolted assemblies. It is possible to polish steel surface at the same time without the risk of electric corrosion.
따라서, 본 발명은 수용액에 염산, 인산과 질산의 혼합물 및 술포살리실산을 함유하는 스테인레스강 표면을 화학연마 하기위한 연마욕에 관한 것이며 ; 본 발명에 의하면 연마욕은 수용액에 최소한 하나의 가용성 아비에트산 화합물을 함유한다.Accordingly, the present invention relates to a polishing bath for chemical polishing a stainless steel surface containing hydrochloric acid, a mixture of phosphoric acid and nitric acid and sulfosalicylic acid in an aqueous solution; According to the present invention, the polishing bath contains at least one soluble abietic acid compound in an aqueous solution.
본 발명에 따른 연마욕에서, 아비에트산 화합물은 다음 일반식의 이비에틸기 ;In the polishing bath according to the present invention, the abidic acid compound is an ibethyl group of the following general formula;
또는 히드로 아비에틸 또는 디히드로 아비에틸기를 함유하는 화합물이다.Or a compound containing a hydrobiethyl or dihydrobiethyl group.
본 발명에 따라서, 아비에트산 화합물은 수용액에 용해될 수 있어야 한다.In accordance with the present invention, the abiotic acid compound should be able to be dissolved in an aqueous solution.
본 발명에 의한 연마욕에 사용할 수 있는 아비에트산 화합물은 아비에트아민이 있다.Abiate acid compounds which can be used in the polishing bath according to the present invention include abiateamine.
특히, 본 발명의 연마욕에 적합한 아비에트아민은 다음 일반식으로 표시되는 것이다 ;In particular, abietamine suitable for the polishing bath of the present invention is represented by the following general formula;
(상기 식에서 R1은 전술한 아비에틸, 히드로아비에틸 또는 디히드로아비에틸기를 나타내고, X1은 최소한 하나의 카르보닐기를 함유하는 기를 나타내며, X2는 수소원자 또는 최소한 하나의 카르보닐기를 함유하는 기를 나타낸다.)Wherein R 1 represents an abiethyl, hydroabiethyl or dihydroabiethyl group as described above, X 1 represents a group containing at least one carbonyl group, and X 2 represents a hydrogen atom or a group containing at least one carbonyl group .)
본 발명에 따른 연마욕에 적합한 아비에트아민의 예를들면 X1과 X2기중 최소한 하나가 다음 일반식의 기를 갖는 것이다 ;Examples of suitable aviethamines for the polishing bath according to the present invention are those in which at least one of the groups X 1 and X 2 has a group of the following general formula;
-CH2-R2 -CH 2 -R 2
(상기 식에서 R2는 최소한 하나의 카르보닐기를 함유하는, 포화 또는 불포화, 치환 또는 비치환, 직쇄 또는 환식 알킬부분을 나타낸다)(Wherein R 2 represents a saturated or unsaturated, substituted or unsubstituted, straight chain or cyclic alkyl moiety containing at least one carbonyl group)
이들 화합물중 -CH2-기가 최소한 하나의 수소원자를 갖는 탄소원자를 통하여, R2기의 카르보닐기에 결합되는 것이 바람직하다. 이러한 치환 아비에트 아민과 이를 얻기위한 수단은 영국특허 -A-734,665에 서술되어 있다.It is preferable that the -CH 2 -group in these compounds is bonded to the carbonyl group of the R 2 group via a carbon atom having at least one hydrogen atom. Such substituted abiet amines and the means for obtaining them are described in British Patent -A-734,665.
본 발명에 따른 연마욕에 사용할 수 있는 이러한 형의 아비에트아민의 예를들면, 알킬부분 R2를 아세토닐, 2-케토부틸, 4-메틸-2-케토-3-펜테닐, 4-히드록시-4-메틸-2-케토펜틸, 2-케토시클로펜테닐, 4-히드록시-2-케토-3-펜테닐, 2-케토시클로펜틸, 4-히드록시-2-케토-3-펜테닐, 2-케토시크로헥실, 2, 5-디케토헥실과 2-페닐-2-케토에틸에서 선택한 것이 있다.Examples of abietamines of this type which can be used in the polishing baths according to the invention are the alkyl moieties R 2 , for example, acetonyl, 2-ketobutyl, 4-methyl-2-keto-3-pentenyl, 4-hydride. Hydroxy-4-methyl-2-ketopentyl, 2-ketocyclopentenyl, 4-hydroxy-2-keto-3-pentenyl, 2-ketocyclopentyl, 4-hydroxy-2-keto-3-phene Tenyl, 2-ketocyclohexyl, 2, 5-diketohexyl and 2-phenyl-2-ketoethyl.
본 발명에 따른 화학 연마욕에서 염산, 인산과 질산, 술포살리실산과 아비에트산 화합물의 각 함량은 처리될 금속의 성질, 작업온도, 원하는 연마처리 기간에 따라 선택한다.In the chemical polishing bath according to the invention, the respective amounts of hydrochloric acid, phosphoric acid and nitric acid, sulfosalicylic acid and abiate acid compounds are selected according to the nature of the metal to be treated, the working temperature and the desired polishing period.
크롬과 니켈합금 스테인레스강 표면을 2~24시간의 화학연마를 확실히 하는데 적합한 본 발명에 따른 연마욕은 수용액이 1리터당 1~6몰의 염산, 0.01-~1몰의 인산, 0.005~0.5몰의 질산, 0.05~20g의 술포살리실산과 0.001~3g의 아비에트산 화합물을 함유하는 것이다. 특히, 유리한 연마욕은 염산, 인산과 질산혼합물의 전체 몰농도가 1~7, 바람직하기로는 1.8~6이고, 수용액의 g/로 표시되는 술포살리실산의 함량이 염산, 인산과 질산혼합물의 전체 규정농도의 0.05~1.5배인 것이다.A polishing bath according to the present invention suitable for ensuring chemical polishing of chromium and nickel alloy stainless steel surfaces for 2 to 24 hours is characterized in that the aqueous solution contains 1-6 mol of hydrochloric acid, 0.01--1 mol of phosphoric acid, 0.005-0.5 mol of It contains nitric acid, 0.05-20 g of sulfosalicylic acid, and 0.001-3 g of abiotic acid compound. In particular, advantageous polishing baths have a total molar concentration of hydrochloric acid, phosphoric acid and nitric acid mixture of 1-7, preferably 1.8-6, g / g of an aqueous solution. The content of sulfosalicylic acid is represented by 0.05 ~ 1.5 times the total specified concentration of hydrochloric acid, phosphoric acid and nitric acid mixture.
본 발명에 따른 연마욕의 특정형태에 있어서, 연마욕이 통상 수용액에 용해되는 알콜, 에테르 또는 에테르-알콜을 함유하는 것이다. 연마욕의 수용액에 추가되는 화합물의 최적량은 여러가지 파라미터, 특히 상기 추가화합물, 선택된 아비에트산 화합물과 연마욕 구성부분의 농도에 따른다. 실제 이러한 추가 화합물의 농도는 수용액 리터당 0.001~10g이 적합하다.In a particular form of the polishing bath according to the invention, the polishing bath usually contains alcohols, ethers or ether-alcohols which are dissolved in aqueous solution. The optimum amount of compound added to the aqueous solution of the polishing bath depends on several parameters, in particular the concentration of the additional compound, the selected abiotic acid compound and the polishing bath component. In practice, the concentration of these additional compounds is suitably between 0.001 and 10 g per liter of aqueous solution.
모든 다른 파라미터는 변경시키지 않고, 이와같은 형태의 본 발명의 연마욕은 특히 높은 광택을 나타냄을 특징으로 하는 고품질의 표면연마를 가져오게 한다.Without changing all other parameters, this type of polishing bath of the present invention results in high quality surface polishing, which is characterized by particularly high gloss.
본 발명에 따른 연마욕은 금속을 화학연마하는 공지된 연마욕에 통상 존재하는 첨가제, 예를들면 계면활성제와 점도조절제를 임의로 함유할 수 있다.The polishing bath according to the invention may optionally contain additives, such as surfactants and viscosity modifiers, which are usually present in known polishing baths for chemical polishing of metals.
오스테나이트 스테인레스강 표면을 완만하게 연마하는데 접합한 본 발명에 따른 연마욕은 연마욕수용액의 리터당 다음 성분을 갖는다 :The polishing bath according to the present invention, bonded to gently polishing austenitic stainless steel surfaces, has the following components per liter of polishing bath solution:
2~5몰의 염산,2-5 moles of hydrochloric acid,
0.02~0.5몰의 인산,0.02-0.5 molar phosphoric acid,
0.01~0.2몰의 질산,0.01-0.2 mole of nitric acid,
0.1~10g의 술포살리실산,0.1-10 g of sulfosalicylic acid,
0.010~2.5g의 아비에트산 화합물,0.010-2.5 g of abidic acid compound,
0.002~5g의 알콜, 에테르 또는 에테르-알콜과Between 0.002 and 5 g of alcohol, ether or ether-alcohol
0.005~6g의 계면활성제.0.005-6 g of surfactant.
본 발명에 따른 연마욕의 큰 이점은 이들 성분의 각 농도를 조절한 후, 몇시간에 걸쳐서 분배할 수 있고, 큰 치수의 표면 또는 접근이 어려운 표면을 균일하게 연마할 수 있으록 속도의 작용으로 연마할 수 있는 능력에 있다.The great advantage of the polishing bath according to the present invention is that it can be dispensed over several hours after adjusting the respective concentrations of these components, and as a function of speed so that the surface of large dimensions or inaccessible surfaces can be polished uniformly It is the ability to sharpen.
특히 이들은 연마욕에 이용할 수 있는 용량과 비교할때, 표면적이 매우 큰 금속표면을 연마하는데 더 적합하다.In particular they are more suitable for polishing metal surfaces with very large surface areas compared to the capacity available for polishing baths.
또한 금속표면적(㎡로 표시)이 접촉하는 연마욕의 용적(㎥로 표시)의 1~10배인 금속표면을 연마하는데 이들을 사용하는 것이 유익하다.It is also advantageous to use these to polish metal surfaces that are 1 to 10 times the volume (expressed in m 3) of the polishing bath in contact with the metal surface area (denoted in m 2).
본 발명에 따른 연마욕은 오스테나이트 스테인레스강 표면을 연마하는데 적합하다. 특히 이들은 크롬과 니켈합금 오스테나이트 스테인레스강, 특히 예를들어 18/8과 18/10/2.5강과 같은 12/26%의 크롬, 6~30%의 니켈과 0~6%의 몰리브덴을 함유하는 것을 연마하는데 사용하면 더욱 좋다.The polishing bath according to the invention is suitable for polishing austenitic stainless steel surfaces. In particular, they contain chromium and nickel alloy austenitic stainless steels, especially those containing 12/26% chromium, such as 18/8 and 18/10 / 2.5 steel, 6-30% nickel and 0-6% molybdenum. Better to use to polish.
더욱이, 본 발명의 연마욕은 다른 금의 강철조립품, 특히 용접 조립품을 조립품상에 부분적 전기부식을 일으키지 않고 연마하는데 바람직하게 사용할 수 있음을 알 수 있다. 그리고, 이들은 18/8급의 크롬과 니켈합금강(ASTM-304과 304L)으로 만든 구성요소와 18/10/2.5급의 크롬, 니켈과 몰리브덴합금강(ASTM-316과 316L)으로 만든 구성요소로 결합된 용접조립품을 연마할 수 있다.Moreover, it can be seen that the polishing bath of the present invention can be preferably used to polish other gold steel assemblies, in particular welded assemblies, without causing partial electrical corrosion on the assembly. They are combined with components made of 18/8 grade chromium and nickel alloy steels (ASTM-304 and 304L) and components made of 18/10 / 2.5 grade chromium, nickel and molybdenum alloy steels (ASTM-316 and 316L). Polished welded assemblies.
또한, 본 발명은 표면을 본 발명에 따른 화학연마욕과 접촉시켜서 하는 스테인레스강 표면을 연마하는 방법에 관한 것이다.The invention also relates to a method of polishing a stainless steel surface by bringing the surface into contact with a chemical polishing bath according to the invention.
본 발명의 방법에서, 연마욕은 이의 구성성분이 악화되는 위험을 일으키지 않는 온도와 압력에서 사용한다. 따라서, 대기압하에 25℃ 이상, 100℃ 이하의 온도, 바람직하기로는 50°~80°의 온도에서 연마욕을 사용하는 것이 유익함을 알 수 있다.In the process of the invention, the polishing bath is used at temperatures and pressures that do not cause the risk of its components deteriorating. Therefore, it can be seen that it is advantageous to use a polishing bath at a temperature of 25 ° C. or higher and 100 ° C. or lower, preferably 50 ° to 80 ° under atmospheric pressure.
금속표면과 연마욕의 접촉은 적합한 방법으로 예를들면 침지시켜서 행한다.The contact between the metal surface and the polishing bath is carried out, for example, by dipping in a suitable manner.
본 발명에 의한 방법에서, 연마될 표면과 연마욕 사이의 접촉시간은 표면을 효과적으로 연마시키는데 충분해야 한다 : 그러나 부분부식이 표면에 나타나는 위험이 있는 임계치를 초과할 수 없다. 최적 접촉시간은 연마될 표면을 구성하는 금속 또는 합금, 그 형상과 최초조면도, 연마욕조성, 작업온도, 표면에 접촉하는 연마욕의 가능한 난류와 연마될 금속표면의 표면적과 사용될 연마욕의 용적 사이의 상호관계와 같은 여러가지 파라미터에 따르며 ; 이는 통상의 실험방법에 의하여 특수경우마다 결정해야 한다.In the method according to the invention, the contact time between the surface to be polished and the polishing bath must be sufficient to effectively polish the surface: but it cannot exceed the threshold at which there is a risk of partial corrosion appearing on the surface. The optimum contact time is the metal or alloy constituting the surface to be polished, its shape and initial roughness, the polishing bath composition, the working temperature, the possible turbulence of the polishing bath in contact with the surface, the surface area of the metal surface to be polished, and the volume of the polishing bath to be used. Depends on several parameters such as interrelationships between them; This should be determined in every special case by the usual test method.
본 발명에 따른 방법의 특정 형태에 있어서, 금속표면을 연마욕과 접촉시킨 후, 이를 재생시키기 위하여 보충량의 질산을 연마욕에 가한다. 보충량의 질산 첨가는 계속적으로 또는 간격을 두고 할 수 있다. 금속표면을 최적으로 연마할 때 적합한 값의 범위내에서 연마욕의 질산농도를 계속적으로 유지하기 위하여 이를 조절할 수 있다.In a particular form of the process according to the invention, a metal surface is contacted with a polishing bath, and then a supplemental amount of nitric acid is added to the polishing bath to regenerate it. Supplemental amounts of nitric acid can be added continuously or at intervals. When polishing the metal surface optimally, it can be adjusted to maintain the nitrate concentration in the polishing bath within a range of suitable values.
본 발명의 장점을 실시예를 들어 설명하면 다음과 같다.The advantages of the present invention will be described with reference to Examples.
[실시예1]Example 1
ASTM-304L급의 스테인레스 강[크롬(18.0~20.0%)과 니켈(8.0~12.0%)합금 강]판, 표면적 21.50㎡을 55℃에서 리터당 다음 성분을 함유하는 500㎤의 연마욕에 침지시킨다 :A plate of ASTM-304L stainless steel [chromium (18.0-20.0%) and nickel (8.0-12.0%) alloy steel] plate, surface area 21.50 m 2, was immersed in a 500 cm 3 polishing bath containing the following components per liter at 55 ° C .:
3몰의 염산,3 moles of hydrochloric acid,
0.15몰의 인산,0.15 moles of phosphoric acid,
0.01몰의 질산,0.01 mole of nitric acid,
0.5g의 술포살리실산과,0.5 g of sulfosalicylic acid,
1g의 "Rodine 213"(Amchem Products Inc. 제품)(치환 아비에트아민, 이소프로판올가 계면활성제의 혼합물).1 g of "Rodine 213" (Amchem Products Inc.) (a mixture of substituted abietamines, isopropanol valent surfactant).
판은 최초에 산술적 평균조면도 Ra=0.27미크론을 갖는다.The plate initially has an arithmetic mean roughness Ra a = 0.27 micron.
13시간 처리후(연마욕은 계속적으로 교반한다.), 연마욕에 의한 금속의 부식의 평균깊이는 20미크론으로 측정된다. 이 시간에 판을 연마욕에서 제거하고 수세하고 건조한다. 이는 평활하고 광택이 있는 외관을 갖는다. 이의 광택도(ASTM 표준 E430)와 이의 산술적 평균조면도(Ra)는 다음과 같이 측정된다.After 13 hours of treatment (the polishing bath is constantly stirred), the average depth of corrosion of the metal by the polishing bath is measured at 20 microns. At this time the plate is removed from the polishing bath, washed with water and dried. It has a smooth and glossy appearance. Its glossiness (ASTM standard E430) and its arithmetic mean roughness (R a ) are measured as follows.
광 택 도 : 22%Glossiness: 22%
Ra: 0.13미크론R a : 0.13 micron
[실시예2]Example 2
실시예1에서 서술된 시험을 다음 조건하에 반복한다 :The test described in Example 1 is repeated under the following conditions:
ASTM-316L급 스테인레스강[크롬(16.0~18.0%), 니켈(10.0~14.0%)과 몰리브덴(2.0~3.0)합금강의 판.Plates of ASTM-316L grade stainless steel [chromium (16.0 ~ 18.0%), nickel (10.0 ~ 14.0%) and molybdenum (2.0 ~ 3.0) alloy steel.
판의 표면적 : 50㎠Surface Area of Plate: 50㎠
연마욕의 조성(1리터의 연마욕에 해당하는 양) :Composition of polishing bath (amount equivalent to 1 liter of polishing bath):
2.7몰의 염산,2.7 moles of hydrochloric acid,
0.2몰의 인산,0.2 mole of phosphoric acid,
0.02몰의 질산,0.02 mole of nitric acid,
1g의 술포살리실산1 g of sulfosalicylic acid
1g의 "Rodine 213"제품과With 1g "Rodine 213" product
2g의 "Triton N101"제품(롬 앤드 하스회사). (알킬 아릴 폴리에테르를 주제로한 계면활성제의 혼합물).2g "Triton N101" from Rohm and Haas. (Mixture of surfactants based on alkyl aryl polyethers).
연마욕온도 : 65℃Polishing bath temperature: 65 ℃
연마욕용적 : 1,250㎤Polishing Bath Volume: 1,250cm3
처리기간 : 6시간Treatment period: 6 hours
판의 최초 조면도 Ra=0.28미크론Initial roughness of the plate R a = 0.28 microns
처리끝에 측정은 다음과 같다 :At the end of the treatment the measurements are as follows:
부식깊이 : 22미크론Corrosion Depth: 22 micron
광 택 도 : 35%Glossiness: 35%
조면도 Ra=0.09미크론Roughness R a = 0.09 microns
[실시예3]Example 3
실시예1에서 서술된 시험을 다음 조건하에 반복한다 :The test described in Example 1 is repeated under the following conditions:
ASTM-430급 마르텐시트 스테인레스강[니켈과 탄소의 농도가 각각 0.75%]와 0.12를 초과하지 않는 크롬(16.0~18.0%)합금강]의 판.Plate of ASTM-430 grade martensitic stainless steel [concentration of nickel and carbon 0.75%] and chromium (16.0 ~ 18.0%) alloy steel not exceeding 0.12].
판의 표면적 : 22.50㎠Surface area of plate: 22.50㎠
연마욕의 조성(1리터의 연마욕에 해당하는 양) :Composition of polishing bath (amount equivalent to 1 liter of polishing bath):
2.7몰의 염산,2.7 moles of hydrochloric acid,
0.2몰의 인산,0.2 mole of phosphoric acid,
0.02몰의 질산,0.02 mole of nitric acid,
3g의 술포살리실산3 g of sulfosalicylic acid
1g의 "Rodine 213"제품(실시예 1에 명시)과1 g of "Rodine 213" product (as specified in Example 1) and
2g의 "Triton N101"제품(실시예 2에 명시),2 g of "Triton N101" product (specified in Example 2),
연마욕온도 : 65℃Polishing bath temperature: 65 ℃
연마욕용적 : 500㎤Polishing Bath Volume: 500cm 3
처리기간 : 10시간Treatment period: 10 hours
판의 최초 조면도 Ra=0.70미크론Initial roughness of the plate R a = 0.70 microns
처리끝에 측정은 다음과 같다 :At the end of the treatment the measurements are as follows:
부식깊이 : 25미크론Corrosion Depth: 25 micron
광 택 도 : 12%Glossiness: 12%
조면도 Ra=0.22미크론Roughness R a = 0.22 micron
[실시예4]Example 4
다음 조건하에서 실시예1에 서술된 시험을 되풀이 한다 :The test described in Example 1 is repeated under the following conditions:
공통주연산을 따라 용접된 스테인레스강으로 만든 두 장방형 판의 조립품 ;An assembly of two rectangular plates made of stainless steel welded along a common column operation;
ASTM-304L급 강의 표면적, 30㎠의 판,Surface area of ASTM-304L grade steel, 30cm2 plate,
ASTM-316L급 강의 표면적, 30㎠의 판,Surface area of ASTM-316L grade steel, 30cm2 plate,
연마욕의 조성(1리터의 연마욕에 해당하는 양) :Composition of polishing bath (amount equivalent to 1 liter of polishing bath):
4몰의 염산,4 moles of hydrochloric acid,
0.1몰의 인산,0.1 mole of phosphoric acid,
0.02몰의 질산,0.02 mole of nitric acid,
1g의 술포살리실산1 g of sulfosalicylic acid
1g의 "Rodine 213"제품1g "Rodine 213" Products
1.3㎤의 이소프로판올과 n-프로판의 혼합물.A mixture of 1.3 cm 3 of isopropanol and n-propane.
연마욕온도 : 65℃Polishing bath temperature: 65 ℃
연마욕용적 : 1000㎤Polishing Bath Volume: 1000cm 3
처리기간 : 10시간Treatment period: 10 hours
조립품의 판은 다음과 같은 최초 조면도를 갖는다 :The plate of the assembly has the following initial roughness:
ASTM-304L판 : Ra=0.29미크론ASTM-304L Plate: R a = 0.29 micron
ASTM-315L판 : Ra=0.28미크론ASTM-315L Plate: R a = 0.08 micron
처리끝에 회수했을때, 조립품은 어떠한 부식흔적도 없이 부드럽고 광택있는 외관을 가졌다.When recovered at the end of the treatment, the assembly had a smooth, glossy appearance without any corrosion traces.
부식깊이, 광택도와 조면도는 각 판에서 측정했다. :Corrosion depth, glossiness and roughness were measured on each plate. :
ASTM-304판 : 부식깊이 : 27미크론ASTM-304 plate: Corrosion depth: 27 microns
광 택 도 : 21%Glossiness: 21%
조면도 Ra=0.13미크론Roughness R a = 0.13 microns
ASTM-316L판 : 부식깊이 : 22미크론ASTM-316L Plate: Corrosion Depth: 22 micron
광 택 도 : 22%Glossiness: 22%
조면도 Ra=0.11미크론Roughness R a = 0.11 micron
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