KR940006926B1 - 표면 음파 장치 및 그 형성 방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (22)
- (1) 적어도 하나의 압전층(piezoelectric layer)을 가진 기판을 형성하는 단계와, (2) 상기 기판상에 소정의 반사 중심 및 변환 중심(centers of reflection and transduction)을 설정하기 위한 변환기(transducer)를 구성하는 단계와, (3) 상기 기판상에 상기 변환기를 선택적으로 위치시켜 0도 내지 360도의 연속적인 위상각(phase angles) 범위내에서 상기 반사의 중심으로 부터 소정의 파위상 분리(wave phase separation)를 얻기 위해 상기 변환 중심의 위치를 제어하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법(method of forming a surface acoustic wave device).
- 제1항에 있어서, (1) 적어도 하나의 제1및 제2대향 전기 패드를 형성하는 단계와, (2) 변환기 구조를 한정하기 위해 손가락형 형태(interdigital relationship)인 상기 제1 및 제2패드의 각각에 적어도 하나의 전극(electrode)을 부착하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제2항에 있어서, 상기 소망의 위상 분리를 얻는 단계는, (1) 상기 반사의 중심에 대해 동상으로 소망의 변환중심의 위치를 결정하는 단계와, (2) 상기 기판에서 소망의 방향으로 음파 전달(acoustic wave propagation)이 일어나도록 하기 위해 상기 기판상에 상기 변환기를 선택적으로 위치시켜서 상기 소망의 위상 분리를 얻기 위해 소망의 위치에 변환의 중심을 설정하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 변환의 중심을 설정하는 단계는 소망의 오일러각으로 상기 기판에 상기 변환기를 부착하는 단계를 포함하며, 상기 변환의 중심이 0도 내지 360도 정도의 가능한 소정 위상 분리를 통해 상기 반사 중심에 대해 소정의 위상 관계로 위치되게 하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제4항에 있어서, 1/4 파장의 전극으로 상기 변환기를 대칭 형태로 구성하는 단계를 더 포함하여, 상기 반사 및 변환의 중심의 파 분리(wave separatlon)가 ±45도 또는 ±135도 일때 상기 변환기로 부터 음파의 단방향 전달(unidirectional transmission)이 발생되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- (1) 소정의 오일러각으로 절단된 소망의 압전 결정(piezoelectric crystal)상에 배치를 위해 파장당 2개의 전극을 가진 변환기를 구성하는 단계와, (2) 상기 기판 절단면상에서 상기 변환기를 선택적으로 위치시켜서 상기 기판에서 단방향 음파 전달이 생기도록 하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 변환기를 구성하는 상기 단계는, (1) 적어도 하나의 제1및 제2대향 전기 패드를 형성하는 단계와, (2) 상기 변환기 구조를 규정하기 위히 손가락 형태로 상기 제1 및 제2패드의 각각으로 부터 적어도 하나의 전극을 연장시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제7항에 있어서, (1) 상기 변환기 전극 구조를 기본으로 한 상기 결정에서 소정의 파반사의 중심을 형성하는 단계와, (2) 상기 결정에서 반사의 중심에 대해 소망의 변환 중심의 위치를 결정하는 단계와, (3)상기 결정 단면상에서 상기 변환기를 선택적으로 위치시켜 상기 소망의 위치에서 변환의 중심을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제8항에 있어서, 소형의 오일러각으로 절단된 상기 결정상에서 상기 변환기를 선택적으로 위치시키는 단계를 구비하여, 0도 내지 360도의 위상 분리 가능한 범위내에서 상기 반사의 중심에 대해 상기 변환의 중심이 변하도록 할 수 있게 하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- (1) 압전 결정을 선택하는 단계와, (2) 상기 결정의 특정 단면을 선택하는 단계와, (3) 기판에서 파의 반사 및 변환의 중심을 형성하기 위해 상부에 파장당 2개의 전극을 가진 적어도 하나의 변환기를 형성하는 단계와, (4) 상기 변환기에 전기적 부하(load)를 부착하는 단계와, (5) 상기결정에서 소정의 방향으로 파 전달이 일어나도록 상기 결정 절단면에 상기 변환기를 선택적으로 배치하여, 변환의 중심의 위상 위치를 반사의 중심에 대해 소정의 위상 위치로 변이시키는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제10항에 있어서, 상기 변환 중심의 위상 위치를 변이시키는 단계는 0도 내지 360도 내의 가능한 위상각 연속 범위에서 반사의 중심에 대해 상기 변환 중심의 위상 위치를 변이시키는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 압전 기판과, 상기 기판위에 적어도 하나의 변환기 전극쌍을 가지며, 상기 변환기 전극쌍에 부착된 전극 부하와, 상기 기판에서 표면 음파를 발생하기 위해 상기 전극쌍에 접속되는 전기 입력부를 가지며, 상기 기판에서 파의 반사중심을 갖는 표면 음파 장치 구성 방법에 있어서, (1) 압전 결정의 특정 절단면을 선택하는 단계와, (2) 약 1/2 파장 정도로 분리된 상기 적어도 한쌍의 전극을 가진 상기 변환기를 형성하는 단계와, (3) 특정 방향으로 절단된 상기 결정상에서 상기 변환기를 선택적으로 배치하여 상기 변환기가 단방향이 되도록 하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 방법.
- 제12항에 있어서, 상기 변환기가 단방향으로 되게 하는 단계는 ±45도 위상 분리 또는 ±135도 위상분리 정도로 반사의 상기 중심으로 부터 분리된 변환의 중심을 설정하기 위해 상기 결정에서 소정의 방향으로 파가 전달되게 하는 단계를 구비하여, 상기 변환기에 의해 상기 음파의 단방향 전달이 되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 구성 방법.
- 국소 대칭성을 가진 적어도 한쌍의 전극을 가지며 상기 전극에 대해 파반사의 중심이 설정되도록 상기 기판에 장치된 적어도 하나의 변환기와 압전기판을 가지며, 상기 변환기에 부착된 전기 부하를 가진 표면 음파(SAW) 장치를 형성하는 방법에 있어서, (1) 상기 반사의 중심에 대해 변환의 중심을 위한 소정의 소망 위상 위치를 선택하는 단계와, (2) 상기 압전 결정의 특정 절단면을 선택하는 단계와, (3) 상기 기판을 통한 파의 전달이 소정의 방향으로 이루어지는 상기 결정에서 상기 변환기를 선택적으로 배치하여 상기반사의 중심에 대해 상기 변환의 중심이 상기 소정의 위상 위치에 배치되도록 하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치 형성 빙법.
- 선택된 결정 절단면에서 표면을 구비한 압전 기판(16)과, 극소적으로 대칭이며, 상기 기판에서 반사 중심(90)과 변환 중심(86)을 설정하기 위해 표면과 관련하여 선택된 각도방향에서 상기 기판상에 고정된 변환기(12, 14)를 포함하며, 상기 선택된 각도 방향의 결과로서 단상 단방향 전달이 이루어지도록, 상기 선택된 각도 방향은 변환 중심(86)을 상기 반사 중심(90)으로 부터 ±45도 또는 ±135도 분리시키는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 제15항에 있어서, 상기 변환기(12,14)는, (1) 적어도 하나의 제1 및 제2대향 전기기판(84)과, (2)변환기를 한정하도록 손가락형 관계에서 상기 제1 및 제2기판(84)의 각각으로 부터 연장한 적어도 하나의 전극(88)을 포함하는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 특정 절단면의 압진 결정 기판(16)과, 국소적으로 대칭으로 구성되며 그 일부분에 전극을 가진 적어도 하나의 변환기(40, 42)와, 상기 변환기에 부착된 전기 로드(34)를 포함하며, 상기 변환기는 변환 중심의 위상 위치를 상기반사 중심에 대해 ±45도 또는 ±134도의 소정의 위상 위치로 이동하도록 각도θ(theta)에서 상기 기판상에 선택적으로 위치되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 표면 음파 필터에 적용된 신호의 3중 주향 왜곡을 최소화하기 위한 표면 음파 장치에 있어서, 압전기판(16)과,λ는 적용된 신호의 파장이며,λ/4의 갭에 의해 분리된 적어도 한쌍의 λ/4 전극(88)을 각각 가진 제1및 제2변환기(12,14)와, 상기 제1 및 제2변환기(12, 14)에 각각 결합된 전기 로드부(34)와, 각각 변환기 전극 아래에 있는 반사 중심(90)과, 상기 변환기의 방향과 상기 변환기 사이에서의 3중 왜곡 반사의 최소화에 의해 상기 반사 중심에 대해 위상에서 ±45도 또는 ±135도 분리뒤 변환 중심(86)을 구비하며, 상기 제1 및 제2변환기는 상기 기판에서 음파 전달을 발생하도록 상기 기판상에 위치되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 제18항에 있어서, 상기 변환기중 적어도 하나가 다른 변환기의 방향에서 단방향인 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 압전 기판(16)과 국소 대칭인 전극을 가지며, 상기 전극에 대해 파의 반사 및 변환의 중심을 만드는 적어도 하나의 변환기(12, 14)와, 상기 변환기에 부착된 전기 로드부(34)를 구비하며, 상기 변환기는 상기 반사 중심에 대해서 변환 중심이 ±45도 또는 ±135도에 위치되도록 하여 기판에 대한 선택된 각도 방향에서 상기 기판상에 고정되어, 선택된 각도 방향의 결과로서 단상 단방향 전달이 이루어지는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 선택된 결정 절단면에서 표면과 함께 그 위에 적어도 하나의 압전층을 가진 기판(16)과, 상기 기판상에서 음파 반사의 소정의 고정 중심을 설정하도록 국부 대칭인 변한기(12, 14)를 구비하고, 상기 변환기(12, 14)는 소정의 방향에서 상기 기판에서 음파 전달을 하도록 상기 기판에 대해 선택된 각도 방향에서 상기 기판 표면상에 선택적으로 위치되어, 변환의 중심을 상기 반사 중심으로 부터 ±45도 또는 ±135도 파 위상 분리시켜 설정함으로써 상기 기판에서 단방향 표면 음파 전달이 수행되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
- 선택된 결정 절단면에서 표면과 함께 압전 기판(16)과 국부적 대칭이며, 상기 기판상에 고정되고, 상기 기판에서 반사 중심(90) 및 변환 중심(88)을 설정하는 변환기(12, 14)를 구비하며, 상기 선택된 각도 방향은 변환 중심을 반사 중심으로 부터 ±45도 또는 ±135도 분리시켜서, 단상 단방향 전달이 선택된 각도 방향의 결과로서 제공되는 것을 특징으로 하는 표면 음파 장치.
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US4749964A (en) * | 1986-12-08 | 1988-06-07 | R. F. Monolithics, Inc. | Superregenerative detector having a saw device in the feedback circuit |
US5196753A (en) * | 1989-07-31 | 1993-03-23 | Raytheon Company | Surface acoustic wave devices having long-term frequency stability |
FR2653632B1 (fr) * | 1989-10-20 | 1991-12-20 | Thomson Csf | Transducteur d'ondes de surface unidirectionnel. |
US5264751A (en) * | 1989-10-20 | 1993-11-23 | Thomson-Csf | Unilateral surface wave transducer |
US5073763A (en) * | 1990-11-02 | 1991-12-17 | R.F. Monolithics, Inc. | Group single-phase unidirectional transducers with 3/8λand 5/8λ sampling |
JP2844968B2 (ja) * | 1991-06-27 | 1999-01-13 | 日本電気株式会社 | 弾性表面波フィルタ用重み付け電極 |
US5274345A (en) * | 1992-05-13 | 1993-12-28 | Andersen Laboratories | Dual function reflector structures for interdigital saw transducer |
FR2695771B1 (fr) * | 1992-09-15 | 1994-10-28 | Thomson Csf | Transducteur d'ondes unidirectionnel. |
US5703427A (en) * | 1993-03-19 | 1997-12-30 | Thomson-Csf | Surface-wave distributed acoustic reflection transducer and filter including such a transducer |
US5406159A (en) * | 1993-11-11 | 1995-04-11 | Rf Monolithics, Inc. | Surface acoustic wave gratings having selected reflectivity |
US5793146A (en) * | 1993-11-12 | 1998-08-11 | Rf Monolithics, Inc. | Surface acoustic wave transducer having selected reflectivity |
DE69522066T2 (de) * | 1994-09-28 | 2002-03-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Akustische Oberflächenwellenanordnung |
DE69607264T2 (de) * | 1995-08-15 | 2000-10-26 | Cts Corp., Elkhart | Surface-Skimming-Bulk-Welle-Substrat, und diese enthaltende Vorrichtung |
JP3268179B2 (ja) * | 1995-11-08 | 2002-03-25 | 正男 竹内 | 弾性表面波変換器及びこの変換器を用いた弾性表面波フィルタ |
US6147574A (en) * | 1997-11-20 | 2000-11-14 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Unidirectional surface acoustic wave transducer and transversal-type saw filter having the same |
JP2000036722A (ja) * | 1998-05-11 | 2000-02-02 | Tdk Corp | 弾性表面波装置の設計方法および弾性表面波装置 |
JP2001257554A (ja) * | 2000-01-07 | 2001-09-21 | Tdk Corp | 弾性表面波装置 |
DE10010089A1 (de) * | 2000-03-02 | 2001-09-06 | Epcos Ag | Oberflächenwellenwandler mit optimierter Reflexion |
DE10026074B4 (de) * | 2000-05-25 | 2010-02-18 | Epcos Ag | Rekursives OFW-Filter mit geringer Chiplänge |
JP3414373B2 (ja) * | 2000-07-26 | 2003-06-09 | 株式会社村田製作所 | 弾性表面波装置 |
DE10040813A1 (de) | 2000-08-21 | 2002-03-21 | Zeiss Carl | Spektrometeranordnung |
DE10041040A1 (de) * | 2000-08-22 | 2002-03-07 | Zeiss Carl | Vorrichtung und Verfahren zur Belichtung einer strahlungsempfindlichen Schicht mittels geladener Teilchen sowie Maske hierfür |
DE10113788A1 (de) | 2001-03-21 | 2002-09-26 | Zeiss Carl | Beugungsoptische Komponente, Beleuchtungssystem und Belichtungssystem mit einer solchen beugungsoptischen Komponente und Belichtungsverfahren unter Verwendung eines solchen Belichtungssystems |
US20020141039A1 (en) * | 2001-04-02 | 2002-10-03 | Michael Mermelstein | Spatial light modulation |
US6534896B2 (en) * | 2001-05-15 | 2003-03-18 | Nortel Networks Limited | Spatial harmonic transducers for surface wave devices |
TW519750B (en) * | 2001-06-27 | 2003-02-01 | Asia Pacific Microsystems Inc | Manufacturing method of steady-type film bulk acoustic wave device |
US7132696B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-11-07 | Micron Technology, Inc. | Intermeshed guard bands for multiple voltage supply structures on an integrated circuit, and methods of making same |
DE10314153A1 (de) * | 2003-03-28 | 2004-10-07 | Epcos Ag | Oberflächenwellen-Anordnung zur breitbandigen Signalübertragung |
US7002281B2 (en) | 2003-07-16 | 2006-02-21 | Biode Inc. | Multi-reflective acoustic wave device |
JP4527968B2 (ja) * | 2003-11-26 | 2010-08-18 | 住友ゴム工業株式会社 | 空気入りタイヤ |
CN100571026C (zh) * | 2004-03-30 | 2009-12-16 | 中国科学院声学研究所 | 具有单相单向结构的声表面波延迟线 |
DE102019107010A1 (de) * | 2019-03-19 | 2020-09-24 | RF360 Europe GmbH | DMS-Filter, elektroakustisches Filter und Multiplexer |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3866153A (en) * | 1973-10-11 | 1975-02-11 | Us Air Force | Ultra low diffraction loss substrate members for acoustic surface wave devices |
JPS5532051B2 (ko) * | 1974-02-14 | 1980-08-22 | ||
JPS56116317A (en) * | 1980-02-19 | 1981-09-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Material for elastic surface wave |
US4353046A (en) * | 1980-11-04 | 1982-10-05 | R F Monolithics, Inc. | Surface acoustic wave device with reflectors |
-
1984
- 1984-12-03 US US06/677,513 patent/US4910839A/en not_active Expired - Lifetime
-
1985
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