KR940006175A - Formation method of ultrafine subtitles, transparent plate and image display plate - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대전방지, 가시광반사방지에 유효한 초미립자막에 관하여, 특히 저가격으로 대면적에 적용할수 있는 초미립자막과 이것을 적용한 브라운관등의 화상표시판을 간단한 방법에 의해 형성하는 것을 목적으로 한 것이며, 브라운관 (21)의 표면에 도포액조(22)를 장착, 이 도포액조에 먼저 대전방지용의 SmO2초미립자를 혼합한 도포용액(23)을 충만해서 브라운관(21)의 표면을 도포액으로 덮은 후에 소정의 속도로 노출시켜 도전성 막을 형성하고 다음에 가시광반사방지용 초미립자를 혼합한 도포용액을 사용해서 마찬가지의 조작을 행하고 가시광반사방지막을 그 위에 형성하므로서 달성된다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention aims at forming an ultrafine subtitle that is effective for antistatic and anti-reflective light, in particular a low-cost ultra-high subtitle that can be applied to a large area, and an image display panel such as a cathode ray tube using the same. The coating liquid tank 22 was mounted on the surface of 21), and the coating liquid tank was first filled with the coating solution 23 in which the antistatic SmO 2 ultrafine particles were mixed, and the surface of the CRT 21 was covered with the coating liquid, and then a predetermined speed was applied. It is achieved by forming a conductive film by exposing to a conductive film, and then performing the same operation using a coating solution in which ultrafine particles for preventing visible light reflection are mixed, and forming a visible light antireflection film thereon.

Description

초미립자막의 형성방법, 투명판 및 화상표시판Formation method of ultrafine subtitles, transparent plate and image display plate

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음Since this is an open matter, no full text was included.

제1도는 본 발명의 일실시예에 관한 막형성공정도,1 is a film forming process chart according to an embodiment of the present invention,

제2도는 본 발명의 일실시예에 관한 장치구성도,2 is a device configuration diagram according to an embodiment of the present invention,

제6도는 본 발명의 다른 실시예에 관한 장치구성도.6 is a device configuration diagram according to another embodiment of the present invention.

Claims (50)

초미립자막을 형성해야할 기판을 용기내에 설치하고, 이어서 상기 초미립자와 바인더를 함유한 혼합도포용액을 상기 용기내에 도입하여, 적어도 상기 용기내에 설치된 기판의 초미립자막헝성부분을 상기 혼합도포용액이 덮은 후에 용기로 부터 혼합도포용액을 배출시켜 기판을 노출시키므로서 이루어지는 공정을 2회이상 행하여, 기간표면에 초미립자막을 다층형성하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.A substrate to be formed with the ultrafine particles is placed in the container, and then the mixed coating solution containing the ultrafine particles and the binder is introduced into the container, and the mixed coating solution is covered with at least the ultrafine particles of the substrate installed in the container. And forming a multilayer of ultrafine particles on the surface of the period by performing the step of at least two times by exposing the substrate by discharging the mixed coating solution. 측분에 개공구부를 형성한 용기를 사용하고, 기판의 초미립자막형성면이 용기내면쪽이 되도록 기판을 설치하여 상기 초미립자와 바인더를 함유한 혼합도포용액을 상기 용기내에 도입하고, 이어서 적어도 상기 기판의 초미립자막형성부분을 상기 혼합도포용액이 덮은 후에 용기로부터 혼합도포용액은 배출시켜 기판을 노출시키므로서 이루어지는 공정을 2회 이상 행하고, 기판표면에 초미립자막을 다층형성하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.Using a container having openings formed on each side, the substrate is placed so that the ultra-fine particle forming surface of the substrate becomes the inner surface of the substrate, and the mixed coating solution containing the ultra-fine particles and the binder is introduced into the container, and then at least of the substrate The method for forming an ultrafine capillary film is formed by covering the ultrafine film forming portion with the mixed coating solution and then discharging the mixed coating solution from the container to expose the substrate. . 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 혼합도포액을 상기 기판을 노출시키는 속도가 10mm/S이하가 되도록 배출시키므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method of claim 1 or 2, wherein the mixed coating liquid is discharged so that the speed of exposing the substrate is 10 mm / S or less. 초미립자를 형성해야할 기관을 용기내에 설치하고, 이어서 상기 초미립자로서 가시광반사방지용 초미립자, 대전방지용 초미립자 및/또는 적외선 반사용초미 립자를 사용하고, 상기 초미립자와 바인더를 함유한 혼합도포용액을 상기 용기내에 도입하고, 상기 혼합도포용액이 상기 기판의 초미립자막형성부분을 덮은 후 용기로부터 혼합 도포용액을 배출시키므로서 이루어지는 공정을 2회 이상 행하고, 상기 기판표면에 초미립자막을 적어도 2층 형성시키므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.An engine which should form ultrafine particles is installed in a container, and then, as the ultrafine particles, visible antireflective ultrafine particles, antistatic ultrafine particles and / or infrared reflecting ultrafine particles are introduced, and a mixed coating solution containing the ultrafine particles and a binder is introduced into the container. Wherein the mixed coating solution covers the ultrafine particle forming portion of the substrate and then discharges the mixed coating solution from the container at least twice, thereby forming at least two ultrafine particles on the surface of the substrate. Formation method of the ultrafine subtitles. 측부에 개공부를 형성한 용기를 사용하고, 기판의 초미립자막형성면이 용기내면쪽이 되도록 기판을 설치하고, 이어서 상기 초미립자로서 가시광반사방지용 초미립자, 대전방지용 초미립자 및/또는 적외선방지용 초미립자를 사용하고, 상기 초미립자와 바인더를 함유한 혼합도포용액을 상기 용기내에 도입하고, 상기 혼합도포용액이 상기 기판의 초미립자막 형성부분을 덮은 후에 용기로부터 혼합도포용액을 배출시키므로서 이루어지는 공정을 2회이상 행하고, 상기 기판표면에 초미립자막을 적어도 2층형성하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.Using a container having an opening formed in the side portion, the substrate is placed so that the surface of the substrate becomes the inner surface of the container, and then the ultrafine particles for preventing visible light reflection, ultrafine particles for antistatic and / or ultrafine particles for preventing infrared rays are used as the ultrafine particles. And introducing the mixed coating solution containing the ultrafine particles and the binder into the container, and then discharging the mixed coating solution from the container after the mixed coating solution covers the ultrafine particle forming portion of the substrate. A method of forming an ultrafine particle, characterized in that it is formed by forming at least two ultrafine particles on the substrate surface. 제4항 또는 5항에 있어서, 상기 혼합도포액을 상기 기판을 노출시키는 속도가 10mm/S이하가 되도록 배출시키므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method for forming an ultrafine particle film according to claim 4 or 5, wherein the mixed coating liquid is discharged so that the speed of exposing the substrate is 10 mm / S or less. 제4항∼제6항의 어느 한 항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 2산화극소(SiO2), 불화마그네슘(MgF2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method for forming an ultrafine particle film according to any one of claims 4 to 6, wherein the ultra-fine particle for preventing visible light reflection is selected from the group consisting of microoxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ). 제4항∼제6항의 어느 한 항에 있어서, 상기 대전방지용 초미립자는 2산화막주석(SnO2), Sn02+산화안티몬(Sb203), 산화인듐(In203) In303+Sn02로 이루어진 군으로부터 선택된 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The antistatic ultrafine particles according to any one of claims 4 to 6, wherein the antistatic ultrafine particles are tin oxide dioxide (SnO 2 ), Sn0 2 + antimony oxide (Sb 2 0 3 ), indium oxide (In 2 0 3 ) In 3 0 3 + Sn0 2 Method for forming an ultrafine subtitle film, characterized in that selected from the group consisting of. 제4항∼제6항의 어느 한 항에 있어서, 상기 적외선 반사용 초미립자는 SnO2, Sn02+Sb203, In203, In203+SnO2,산화티탄(TiO2), 산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어진 군으로 부터 선택된 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성 방법.The ultra-fine particle for infrared reflection according to any one of claims 4 to 6, wherein SnO 2 , Sn0 2 + Sb 2 0 3 , In 2 0 3 , In 2 0 3 + SnO 2, titanium oxide (TiO 2 ), Zirconium oxide (ZrO 2 ) The method of forming an ultrafine capillary film, characterized in that selected from the group consisting of. 제4항∼제6항의 어느 한 항에 있어서, 1회째에 형성하는 초미립자막이 상기 대전방지용 초미립자 또는 상기 적외선반사용 초미립자를 함유하는 것임을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.7. The method for forming an ultrafine particle film according to any one of claims 4 to 6, wherein the ultrafine particle film formed at the first time contains the antistatic ultrafine particle or the infrared reflecting ultrafine particle. 제4항∼제6항의 어느 한 항에 있어서, 2회째로 형성하는 초미립자막이 상기 가시광 반사방지용 초미립자를 함유하는 것임을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.7. The method for forming an ultrafine subcapsule according to any one of claims 4 to 6, wherein the ultrafine particles formed secondly contain the ultrafine particles for preventing visible light reflection. 제10항에 있어서, 상기 기판이 유리이며, 바인더로서 Si(OR)4(R는 알킬기)를 사용하고, 또한 알킬리 및/또는 불산으로 기판을 사전처리하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method of claim 10, wherein the substrate is glass, and Si (OR) 4 (R is an alkyl group) is used as a binder, and the substrate is pretreated with alkyl and / or hydrofluoric acid. . 제10항에 있어서, 상기 기판이 플라스틱이며, 바인더로서 Si(OR4) (R는 알킬기를 사용하고, 상기 플라스틱에 대한 관능기를 가진 크플랭재를 사용하며, 또 알칼리 및/또는 분산으로 기판을 사전처리하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The substrate of claim 10, wherein the substrate is a plastic, and Si (OR 4 ) (R is an alkyl group, a clang material having a functional group for the plastic, is used as a binder, and the substrate is subjected to alkali and / or dispersion. A method of forming ultrafine subtitles, which is performed by pretreatment. 제13항에 있어서, 상기 플라스틱이 아크릴수지이며, 상기 커플링제로서 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란을 사용한 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method of forming an ultrafine particle film according to claim 13, wherein said plastic is an acrylic resin, and gamma -methacryloxypropyltrimethoxysilane is used as said coupling agent. 제13항에 있어서, 상기 플라스틱이 에폭시수지이며, 상기 커플링제로서 γ-글리시드옥시프로필트리메톡시실란을 사용한 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.14. The method for forming an ultrafine particle film according to claim 13, wherein said plastic is an epoxy resin, and gamma-glycidoxy propyl trimethoxysilane is used as said coupling agent. 제 1항∼제5항의 어느 한 항에 있어서, 상기 기판의 양면에 상기 초미립자막을 형성한 것임을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method of forming an ultrafine subcapsule according to any one of claims 1 to 5, wherein the ultrafine subcapsule is formed on both surfaces of the substrate. 제1항∼제5항의 어느 한 항에 있어서, 상기 기관의 한쪽면에만 상기 초미립자막을 형성한 것임을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method for forming an ultrafine subcapsule according to any one of claims 1 to 5, wherein the ultrafine subcapsule is formed only on one surface of the organ. 제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자가 입자직경 80mm∼150mm의 SiO2초미립자인 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.7. The method for forming an ultrafine particle film according to claim 4 or 6, wherein the visible light reflection preventing ultrafine particles are SiO 2 ultrafine particles having a particle diameter of 80 mm to 150 mm. 제4항 또는 제5항에 있어서, 상기 대전방지용 초미립자가 입자직경 10mm 이하의 산화주석화합물인 것을 특징으로 하는 초미립자막의 형성방법.The method for forming an ultrafine particle film according to claim 4 or 5, wherein the antistatic ultrafine particle is a tin oxide compound having a particle diameter of 10 mm or less. 대전방지용 초미립자 또는 적외선방지용 초미립자를 함유하는 츠과 가시광반사방지용 초미립자를 함유하는 층을 포함한 다층으로 이루어진 초미립자막을 토명기판의 표면에 구비한 것을 특징으로 하는 투명판.A transparent plate, characterized in that the surface of the transparent substrate is provided with a multi-layered ultra-fine particles comprising a layer containing an anti-static ultra-fine particles or a layer containing an ultra-violet-resistant ultra-fine particles and a layer containing visible anti-reflective ultrafine particles. 제20항에 있어서. 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기판쪽으로부터의 제1층이 대전방지용 초미립자 또는 적외선 반사용초미립자를 함유하는 층인 것을 특징으로 하는 투명관.The method of claim 20. The ultra-fine particle formed of the multilayer is a transparent tube, wherein the first layer from the transparent substrate side is a layer containing antistatic ultrafine particles or infrared reflective ultrafine particles. 제20항에 있어서, 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기관쪽으로부터의 제2층이 가시광반사방지용 초미립자를 함유하는 층인 것을 특징으로 하는 투명관.21. The transparent tube according to claim 20, wherein the multilayered ultrafine particle is a layer containing ultrafine particles for preventing visible light reflection from the second layer from the transparent organ side. 대전방지용 초미립자 또는 적외선반사용 초미립자를 함유하는 층과 가시광반사방지용 초미립자를 함유하는 층을 포함한 다층으로 이루어지는 초미립자막을 투명기판의 표면에 구비하는 것을 특징으로 하는 화상표시판.An ultra-fine particle film comprising a layer containing an antistatic ultrafine particle or an infrared reflecting ultrafine particle and a layer containing a visible light anti-reflective ultrafine particle on the surface of the transparent substrate. 제23항에 있어서, 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기판쪽으로부터의 제1층이 대전방지용 초미립자 또는 적외선반사용 초미립자률 함유하는 것임을 특징으로 하는 화상표시판.24. The image display panel according to claim 23, wherein the multi-layered ultrafine particle contains the first layer from the transparent substrate side as an antistatic ultrafine particle or an infrared reflecting ultrafine particle. 제23항에 있어서, 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기판쪽으로부터 의 제2층이 가사광반사방지용 초미립자를 함유하는 것임을 특징으로 하는 화상표시판.24. The image display panel according to claim 23, wherein the multi-layered ultrafine particle film has a second layer from the transparent substrate side containing ultrafine particles for preventing house light reflection. 대전방지용 초미립자 또는 적외선 반사용 초미립자를 함유하는 층과 가시광반사방지용 초미립자를 함유하는 층을 포함한 다층으로 이루어진 초미립자막을 투명기판의 표면에 구비하는 것을 특징으로 하는 화성표시보호판.And a multi-layered microfine film comprising a layer containing an antistatic ultrafine particle or an infrared reflective ultrafine particle and a layer containing a visible light anti-reflective ultrafine particle on the surface of the transparent substrate. 제26항에 있어서, 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기관쪽으로부터의 1층이 대전방지용 초미립자 또는 적외선 반사용 초미립자를 함유하는 것임을 특징으로 하는 화상표시보호판.27. The image display protective plate according to claim 26, wherein the multi-layered ultrafine particle film has one layer from the transparent organ side containing an antistatic ultrafine particle or an infrared reflecting ultrafine particle. 제26항에 있어서, 상기 다층으로 이루어진 초미립자막이 투명기판으로부터의 2층이 가시광반사방지용 초미립자를 함유하는 것임을 특징으로 하는 화상표시보호판.27. The image display protective plate according to claim 26, wherein the multi-layered ultrafine particle film has two layers from the transparent substrate containing ultrafine particles for preventing visible light reflection. 제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 대전방지용 초미립자는 2산화주석 (SnO2), Sn02+산화안티몬(Sb2O3), 산화인듐(In203), In203+Sn02로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 투명판.22. The method of claim 20 or 21, wherein the antistatic ultrafine particles tin oxide (SnO 2 ), Sn0 2 + antimony oxide (Sb 2 O 3 ), indium oxide (In 2 0 3 ), In 2 0 3 + Sn0 Transparent plate, characterized in that selected from the group consisting of two . 제20항 또는 제21항에 있어서, 상기 적외선반사용 초미립자는 SnO2, Sn02+, Sb2O3, In203, 1n303+SnO2산화티탄(TiO2), 산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 투명판.22. The method according to claim 20 or 21, wherein the ultra-reflective ultra-fine particles are SnO 2 , Sn0 2 +, Sb 2 O 3 , In 2 0 3 , 1n 3 0 3 + SnO 2 titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide ( ZrO 2 ) transparent plate, characterized in that selected from the group consisting of. 제20항또는 제22항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 2산화규소(SiO2), 불화마그네슘(Mgf2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 투명판.The transparent plate according to claim 20 or 22, wherein the ultra-fine particles for preventing visible light reflection are selected from the group consisting of silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (Mgf 2 ). 제23항 또는 제24항에 있어서, 상기 대전방지용 초미립자는 2산화주석(SnO2), Sn02+산화안티몬(Sb203), 산화인듐(In203), In203+Sn02로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시판.The method according to claim 23 or 24, wherein the antistatic ultrafine particles are tin dioxide (SnO 2 ), Sn0 2 + antimony oxide (Sb 2 0 3 ), indium oxide (In 2 0 3 ), In 2 0 3 + Sn0 And an image display panel selected from the group consisting of two . 제23항 또는 제24항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 SnO2, SnO2+Sb2O3, In2O3, In2O3+SnO2, 산화티탄(TiO2), 산화지르코늄(ZrO2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시판.The method of claim 23 or 24, wherein the ultra-fine particles for preventing visible light reflection is SnO 2 , SnO 2 + Sb 2 O 3 , In 2 O 3 , In 2 O 3 + SnO 2 , titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide ( ZrO 2 ) It is selected from the group consisting of an image display panel. 제23항 또는 제25항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 2산화규소(SiO2), 불화마그네슘(Sgf2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시판.The image display panel according to claim 23 or 25, wherein the ultra-fine particles for preventing visible light reflection are selected from the group consisting of silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (Sgf 2 ). 제26항 또는 제27항에 있어서, 상기 대전방지용 초미립자는 2산화주석 (SnO2), Sn02+산화안티몬(Sb203), 산화인듐(In203) In203+Sn02로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시보호판.28. The method of claim 26 or 27, wherein the antistatic ultrafine particles are tin dioxide (SnO 2 ), Sn0 2 + antimony oxide (Sb 2 0 3 ), Indium oxide (In 2 0 3 ) In 2 0 3 + Sn0 2 Image display protective plate, characterized in that selected from the group consisting of. 제26항 또는 제27항에 있어서, 상기 적외선방지용 초미립자는 SnO2, SnO2+Sb2O3, Tn2O3, In2O3+SnO2, 산화티탄(TiO2), 산화지르코(ZrO2)으로 이루어진 군으로 부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시보호판.28. The method of claim 26 or 27, wherein the ultra-fine particles for preventing infrared rays are SnO 2 , SnO 2 + Sb 2 O 3 , Tn 2 O 3 , In 2 O 3 + SnO 2 , titanium oxide (TiO 2 ), zirconium oxide ( ZrO 2 ) Image display protective plate, characterized in that selected from the group consisting of. 제26항또는 제28항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 2산화규소(SiO2) 불화마그네승(Mgf2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 화상표시보호판.29. The image display protective plate according to claim 26 or 28, wherein the ultra-fine particles for preventing visible light reflection are selected from the group consisting of silicon dioxide (SiO 2 ) magnesium fluoride (Mgf 2 ). 제23항, 제24항 또는 제25항의 어느 한항에 기재된 화상표시판을 구비한 것을 특징으로 하는 브라운관.A picture tube comprising the image display panel according to any one of claims 23, 24, and 25. 제26항, 제27항 또는 제28항의 어느 한항에 기재된 화상표시보호판을 구비한 것을 특징으로 하는 브라운관.A picture tube comprising the image display protection plate according to any one of claims 26, 27, and 28. 제20항 또는 제21항에 기재된 투명판, 제23항, 제24항 또는 제25항의 어느 한항에 기재된 화상표시판 및 제26항, 제27항 또는 제28항의 어느 한항에 기재된 화상표시보호판의 어느 것인가를 구비한 것을 특징으로 하는 액정패널.Any of the transparent plate of Claim 20 or 21, the image display board of any one of Claims 23, 24, or 25, and the image display protection plate of any one of Claims 26, 27, or 28. Liquid crystal panel characterized in that provided with. 제20항, 제21항 또는 제22항의 어느 한항에 기재된 투명판을 구비한 것을 특징으로 하는 자동차용창유리.The window pane for automobiles provided with the transparent plate as described in any one of Claims 20, 21, or 22. 제20항, 제21항 또는 제22항의 어느 한항에 기재된 투명판을 구비한 것을 특징으로 하는 전시품보호판.An exhibition product protective plate, comprising the transparent plate according to any one of claims 20, 21, and 22. 먼저 대전방지용 초미립자 및/또는 적외선반사용 초미립자막을 투명기판표면에 도포한 투명판을 용기내에 설치하고, 이어서 가시광반사방지용 초미립자와 바인더를 함유한 혼합도포용액을 상기 용기내에 도입하고, 상기 혼합도포용액이 상기 기판의 초미립자막을 덮은 후에 용기로부터 혼합도포용액을 배출시키므로서 이루어지는 상기 기판표면에 초미립자막을 2층형성한 것을 특징으로 하는 투명판의 제조방법.First, a transparent plate coated with an antistatic ultrafine particle and / or an infrared reflecting ultrafine particle film on the surface of a transparent substrate is installed in a container, and then a mixed coating solution containing ultrafine particles for preventing visible light reflection and a binder is introduced into the container, and the mixed coating solution is introduced. A method for producing a transparent plate, characterized in that two layers of ultrafine particles are formed on the surface of the substrate formed by covering the ultrafine particles of the substrate and then discharging the mixed coating solution from the container. 제43항에 있어서, 상기 혼합도포액을 상기 기판을 노출시키는 속도가 10mm/s이하가 되도록 배출하므로서 이루어진 것을 특징으로 하는 투명판의 형성방법.The method of forming a transparent plate according to claim 43, wherein the mixed coating liquid is discharged so that the speed of exposing the substrate is 10 mm / s or less. 제43항에 있어서, 상기 기판이 유리이며, 바인더로서 Si(OR)4(R는 알킬기)를 사용하고, 또한 알칼리 및/또는 불산으로 기판을 사전처리하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명판의 형성방법.44. The method of forming a transparent plate according to claim 43, wherein the substrate is glass, and Si (OR) 4 (R is an alkyl group) is used as a binder, and the substrate is pretreated with alkali and / or hydrofluoric acid. . 제43항에 있어서, 상기 기판이 플라스틱이며, 바인더로서 Si(OR)4(R는 알킬기)를 사용하고, 상기 플라스틱에 대한 관능기를 가진 커플링제를 사용하고, 또 알칼리 및/또는 불산으로 기판을 사전처리 하므로서 이루어지는 것을 특징으로 하는 투명관의 형성방법.44. The substrate of claim 43, wherein the substrate is plastic, Si (OR) 4 (R is an alkyl group) is used as the binder, a coupling agent having a functional group for the plastic is used, and the substrate is replaced with alkali and / or hydrofluoric acid. Method for forming a transparent tube, characterized in that the pre-treatment. 제43항에 있어서, 상기 플라스틱이 아크릴수지이며, 상기 커플링제로서 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란을 사용하는 것을 특징으로 하는 투명관의 형성방법.The method for forming a transparent tube according to claim 43, wherein the plastic is an acrylic resin, and gamma -methacryloxypropyltrimethoxysilane is used as the coupling agent. 제43항에 있어서, 상기 플라스틱이 에폭시수지이며, 상기 커플링제로서 γ-글리스드옥시프로필트리메톡시실란을 사용한 것을 특징으로 하는 투명판의 형성방법.44. The method for forming a transparent plate according to claim 43, wherein the plastic is an epoxy resin, and gamma -glidoxypropyltrimethoxysilane is used as the coupling agent. 제43항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자는 2산화규소(SiO2), 불화마그네슘(MgF2)으로 이루어진 군으로부터 선택된 것임을 특징으로 하는 투명판으 형성방법.45. The method of claim 43, wherein the ultra-fine particles for preventing visible light reflection are selected from the group consisting of silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ). 제43항에 있어서, 상기 가시광반사방지용 초미립자가 입자직경 80mm∼150mm의 SiO2초미립자인 것을 특징으로 하는 투명판의 형성방법.The method for forming a transparent plate according to claim 43, wherein the visible light reflection preventing ultrafine particles are SiO 2 ultrafine particles having a particle diameter of 80 mm to 150 mm. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.
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