JPH0637361Y2 - Antistatic multi-layer antireflection light transmission plate - Google Patents

Antistatic multi-layer antireflection light transmission plate

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JPH0637361Y2
JPH0637361Y2 JP1987030286U JP3028687U JPH0637361Y2 JP H0637361 Y2 JPH0637361 Y2 JP H0637361Y2 JP 1987030286 U JP1987030286 U JP 1987030286U JP 3028687 U JP3028687 U JP 3028687U JP H0637361 Y2 JPH0637361 Y2 JP H0637361Y2
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layer
refractive index
multilayer antireflection
transmitting plate
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武 斎藤
智 永井
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本考案は除電性を有するプラスチック光透過板に関す
る。さらに詳しくはディスプレイやテレビのブラウン管
(CRT)などから発生する静電気を効果的にシールドす
ることが可能な光透過板に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial field of application] The present invention relates to a plastic light-transmitting plate having a neutralizing property. More specifically, it relates to a light transmitting plate that can effectively shield static electricity generated from a display or television cathode ray tube (CRT).

[従来技術] オフィスオートメーション機器、例えばワードプロセッ
サーや各種のコンピュータなどのディスプレイや、ゲー
ム器、テレビのブラウン管などは陰極線を用いているた
め、画像表示装置の上に静電気が発生し易く、ほこりな
どが付着し易い。そしてほこりが付着すると画像が極め
て見にくくなるという問題点がある。またCRTと反対電
位に帯電したオペレーターへのほこり等の付着により、
オペレーターに肌アレや眼の充血をひきおこすとの指摘
もある。
[Prior Art] Since office automation equipment, such as displays for word processors and various computers, game consoles, and cathode ray tubes for televisions, use cathode rays, static electricity is easily generated on the image display device and dust and the like adhere to it. Easy to do. Then, if dust is attached, the image becomes very difficult to see. Also, due to the adhesion of dust etc. to the operator charged to the opposite potential as the CRT,
It has also been pointed out to the operator that it causes skin irritation and eye congestion.

さらにCRTなどから発生する静電気のため、時として電
気ショックによる不快感を受けることもある。
In addition, the static electricity generated from CRTs can sometimes cause discomfort due to electric shock.

そこで従来よりかかる静電気やを取り除くため種々の改
良がなされてきた。その有効な手段は金属などの導電物
で覆うことである。例えば細い繊維の表面にカーボンを
粘着させてメッシュ構造にしたものを貼りつけるとか、
蝶理株式会社の商品名“アイセーバー”のように、合わ
せガラスの内部に金属細線を導入させたものがある。し
かしこれらの方法ではディスプレーから発生する光を透
過しない部分を生ずるので、ワードプロセッサーなどの
使用者にとっては見にくいという欠点を有していた。ま
た他の公知例としては、ガラス基材に対して導電物質を
高温蒸着した技術が提案されているが(特公昭49−1844
7号公報)、この方法ではプラスチック基材は軟化ある
いは溶融するものが多く、また表面に傷がつき易いとい
う欠点を改良できず利用できないものであった。
Therefore, various improvements have been made in the past to remove such static electricity. An effective means is to cover it with a conductor such as metal. For example, sticking carbon on the surface of thin fibers to make a mesh structure,
Some products, such as Chori Co., Ltd.'s product name "eye saver", have metal wires introduced inside laminated glass. However, these methods have a drawback in that it is difficult for a user such as a word processor to see because a portion that does not transmit the light generated from the display is generated. As another known example, there is proposed a technique in which a conductive material is vapor-deposited on a glass substrate at a high temperature (Japanese Patent Publication No. Sho 49-1844).
In this method, many plastic substrates are softened or melted by this method, and the drawback that the surface is easily scratched cannot be improved and cannot be used.

従ってプラスチックの透明板に対しては、その有効な技
術がなく、現在のところ全く改善がなされていないのが
現状である。
Therefore, there is no effective technique for the transparent plate made of plastic, and no improvement has been made at present.

本発明者らは既に電磁波シールド性タイプの光透過板を
提案しているが(特開昭61−245449号公報)、この技術
は電磁波シールド性という制電性から見るとオーバース
ペックの厚さであるため、コストが高いという問題点が
あった。
The present inventors have already proposed an electromagnetic wave shielding type light transmitting plate (Japanese Patent Laid-Open No. 61-245449), but this technology has an over-spec thickness when viewed from the electromagnetic shielding property of antistatic property. Therefore, there is a problem that the cost is high.

本考案はかかる技術をさらに改良したものである。The present invention is a further improvement of this technique.

[考案が解決しようとする問題点] 本考案は上記従来技術の欠点を改善する技術を提供す
る。すなわちプラスチックの透明板を用いて、表層に多
層反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設
けることにより、効果的に反射防止と制電性(帯電防止
性)が発揮できる技術を提供する。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention provides a technique for remedying the drawbacks of the conventional techniques. In other words, by providing a multilayer antireflection layer on the surface layer using a transparent plastic plate and providing a conductive layer on a part of it, we provide a technology that can effectively exhibit antireflection and antistatic properties (antistatic properties). To do.

[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するため本考案は下記の構成を有する。[Means for Solving Problems] In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

「プラスチック透明基材の上に耐擦禍性を有するハード
コート層を設け、その表層に多層反射防止層を設けた光
透過板において、前記多層反射防止層の最外層は低屈折
率の層からなり、かつ内層に前記低屈折率層より相対的
に高い屈折率層を設け、該相対的に高い屈折率層のハー
ドコート層と接しない部分に膜厚が2〜50nmの範囲の透
明導電膜を配置したことを特徴とする除電性を有する多
層反射防止光過板。」 本考案においては、まずプラスチック透明基材の上に耐
擦禍性を有するハードコート層を設けることが必要であ
る。ここでプラスチックとは、公知のいかなるものであ
ってもよい。また透明基材とは、光が通過し得るもので
あればいかなるものであってもよい。
"In a light transmitting plate having a hard coat layer having abrasion resistance on a transparent plastic substrate and a multilayer antireflection layer provided on the surface thereof, the outermost layer of the multilayer antireflection layer is a layer having a low refractive index. And the inner layer is provided with a relatively higher refractive index layer than the low refractive index layer, and a transparent conductive film having a film thickness in the range of 2 to 50 nm in a portion of the relatively higher refractive index layer that is not in contact with the hard coat layer. A multi-layer antireflection light-passing plate having antistatic properties, which is characterized in that it is arranged. ”In the present invention, it is first necessary to provide a hard coat layer having abrasion resistance on a plastic transparent substrate. Here, the plastic may be any known material. Further, the transparent substrate may be any as long as light can pass therethrough.

ワードプロセッサーなどのディスプレーの前面に使用す
るものにあっては、原着、または染色により可視光線透
過率を25〜70%としたものが好ましい。目の疲労を減少
するためである。
When used on the front surface of a display such as a word processor, it is preferable that the visible light transmittance is 25 to 70% by dyeing or dyeing. This is to reduce eye fatigue.

また耐擦禍性を有するハードコート層とは、ポリオルガ
ノシロキサン、シリカ、アルミナなどの硬度の高いコー
ティング層、またはアクリル成分を含む層をいう。プラ
スチック製品の表面は一般に傷がつき易いので、これを
改良するため、及び表層にコートする多層反射防止層の
アンダーコートして密着性を高めるためである。そして
特に好ましくは、ハードコート層はメチルトリメトキシ
シラン、およびビニルトリエトキシシランなどのシラン
化合物、またはこれらの加水分解物をコーティングした
後に加熱縮合させたポリオルガノシロキサンである。
The abrasion-resistant hard coat layer refers to a coating layer having high hardness such as polyorganosiloxane, silica, or alumina, or a layer containing an acrylic component. This is because the surface of a plastic product is generally easily scratched, so that the surface of the plastic product is improved and the adhesion is improved by undercoating the multilayer antireflection layer coated on the surface layer. And particularly preferably, the hard coat layer is a polyorganosiloxane obtained by coating a silane compound such as methyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane, or a hydrolyzate thereof, followed by heat condensation.

そしてハードコート層の好ましい膜厚は、1〜10ミクロ
ン程度である。
The preferable film thickness of the hard coat layer is about 1 to 10 μm.

またアクリル系ハードコート層とは、メタクリル酸など
のアクリル化合物と、ペンタエリストリール、グリセリ
ンなどの多官能グリコールとのエステル化合物を架橋さ
せたものなどをいう。
The acrylic hard coat layer refers to a layer obtained by cross-linking an acrylic compound such as methacrylic acid with an ester compound of a polyfunctional glycol such as pentaerythritol or glycerin.

次に本考案においては、前記のハードコート層の表層に
多層反射防止層を設ける。反射防止を有効になすためで
ある。
Next, in the present invention, a multilayer antireflection layer is provided on the surface of the hard coat layer. This is to effectively prevent reflection.

そして本考案において特徴的なことは、かかる反射防止
層の一部のハードコート層と接しない層に透明導電膜を
設けた点にある。すなわち、本考案の多層反射防止膜
は、少なくとも高屈折率層とその上の低屈折率層からな
るが、かかる多層反射防止層の高屈折率層のハードコー
ト層と接しない一部分に透明導電膜を配置したことであ
る。このようにすることにより、高屈折率層を構成する
層の一部を透明導電膜で置換するので、光学特性を損な
わないようにすることができる。なお導電層は一般に屈
折率が高く、例えば前記ITO層の屈折率は約2.0である。
A feature of the present invention is that a transparent conductive film is provided on a part of the antireflection layer that is not in contact with the hard coat layer. That is, the multilayer antireflection film of the present invention comprises at least a high refractive index layer and a low refractive index layer thereover, and a transparent conductive film is formed on a portion of the multilayer antireflection layer which is not in contact with the hard coat layer. Is arranged. By doing so, a part of the layer forming the high refractive index layer is replaced with the transparent conductive film, so that the optical characteristics can be prevented from being impaired. The conductive layer generally has a high refractive index, and for example, the ITO layer has a refractive index of about 2.0.

透明導電層としては、可視光線を透過し得るものであれ
ば、In2O3(酸化インジウム)、SnO2(酸化スズ)など
いかなるものであってもよいが、好ましくは、In2O
3(酸化インジウム)とSnO2(酸化スズ)との混合物
(以下ITOという。)である。導電性能が高く、静電気
を有効にシールドでき、さらに可視光線透過率が高いか
らである。すなわちITO膜は明るくて着色せず、透明性
に優れるとともに、電気電導度が高く、総合的にバラン
スが優れているからである。ITO層の膜厚は、2〜50nm
(20〜500Å)であることが好ましい。膜厚が2nm未満で
は効果的な静電気シールドができにくく、また50nmを越
える範囲では光学特性上の調節がしにくくなり、また経
済的メリットも失われる。
As the transparent conductive layer, any material such as In 2 O 3 (indium oxide) and SnO 2 (tin oxide) may be used as long as it can transmit visible light, but In 2 O is preferable.
It is a mixture of 3 (indium oxide) and SnO 2 (tin oxide) (hereinafter referred to as ITO). This is because it has high conductivity, can effectively shield static electricity, and has high visible light transmittance. That is, the ITO film is bright and not colored, has excellent transparency, has high electric conductivity, and has excellent overall balance. The thickness of the ITO layer is 2-50 nm
(20 to 500Å) is preferable. If the film thickness is less than 2 nm, it is difficult to effectively shield static electricity, and if it exceeds 50 nm, it becomes difficult to adjust the optical characteristics, and the economic merit is lost.

上記の厚さの透明導電膜は、独立の層として設けるので
はなく、例えば高屈折率層とするためにはTiO2層と等価
膜で合計λ/2の厚さに設けたり、あるいは中屈折率層と
するために、SiO2層と等価膜で合計λ/4の厚さに設ける
ことなどが推奨される。
The transparent conductive film having the above-mentioned thickness is not provided as an independent layer. For example, in order to form a high refractive index layer, a TiO 2 layer and an equivalent film are provided with a total thickness of λ / 2, or a medium refractive index is used. It is recommended that the SiO 2 layer and the equivalent film be provided to have a total thickness of λ / 4 in order to form a rate layer.

透明導電膜の形成は、いわゆる低温スパッタリング法、
高周波プラズマ法を応用した真空蒸着法によって150℃
以下の温度条件で行うことができ、性能的に満足のでき
る薄膜を得ることができる。一般的には蒸着法の方が多
層反射膜を形成させるうえで経済的に有利である。
The transparent conductive film is formed by the so-called low temperature sputtering method,
150 ℃ by vacuum deposition method applying high frequency plasma method
It can be carried out under the following temperature conditions, and a thin film having satisfactory performance can be obtained. Generally, the vapor deposition method is economically advantageous in forming a multilayer reflective film.

次に本考案においては、前記導電層を含む高屈折率層の
表層に、低屈折率の層を設けることが必要である。反射
防止効果を発揮させるためである。
Next, in the present invention, it is necessary to provide a low refractive index layer on the surface layer of the high refractive index layer including the conductive layer. This is because the antireflection effect is exerted.

かかる低屈折率の層としては、SiO2、弗化マグネシウム
などの公知のいかなる層であってもよいが、好ましくは
無機のシリカを含む層である。かかる無機シリカ層は、
シリカをスパッタリング、あるいは真空蒸着することに
より得ることができる。膜厚は可視光線を反射防止でき
る程度の厚さであればいかなる厚さでもよい。
The low refractive index layer may be any known layer such as SiO 2 or magnesium fluoride, but is preferably a layer containing inorganic silica. Such an inorganic silica layer,
It can be obtained by sputtering silica or by vacuum evaporation. The film thickness may be any thickness as long as it can prevent reflection of visible light.

本考案においては低屈折率とは、可視光線を用いて通常
の条件で測定して1.5未満の屈折率をいう。
In the present invention, the low refractive index means a refractive index of less than 1.5 measured under normal conditions using visible light.

本考案においては、上記の積層をプラスチック基材の1
面または2面に設ける。1面に設けた場合は、反対面の
傷付防止をするため、少くとも上記で説明した第1層の
ハードコートを設けることが好ましく、さらにはハード
コート層の表面に反射防止層を設けることである。
In the present invention, the above-mentioned lamination is made of a plastic substrate.
Provided on one side or two sides When it is provided on one surface, it is preferable to provide at least the first layer hard coat described above in order to prevent scratches on the opposite side. Further, an antireflection layer is provided on the surface of the hard coat layer. Is.

さらに最外層として、防汚性を付与するため、シリコー
ン系樹脂による被膜やフッ系樹脂により被膜を設けても
よい。
Further, as the outermost layer, a film made of a silicone resin or a film made of a fluorine resin may be provided to impart antifouling property.

本考案においては、アース線を取りつけることにより、
より効果的に静電気シールドができる。この場合アース
線は透明導電膜から取り出してもよいが、反射防止膜層
等の最外層を介して取り出すことにより、十分目的を達
成することができる。
In the present invention, by attaching the ground wire,
More effective electrostatic shielding. In this case, the ground wire may be taken out from the transparent conductive film, but the purpose can be sufficiently achieved by taking it out through the outermost layer such as the antireflection film layer.

以下図面により説明する。This will be described below with reference to the drawings.

第1〜4図は本考案の好ましい制電性と反射防止性を有
する光透過板として好ましく用いられる光透過板の1実
施態様の断面を示す。
1 to 4 show a cross section of one embodiment of a light transmitting plate which is preferably used as a light transmitting plate having preferable antistatic property and antireflection property of the present invention.

すなわち第1〜2図はプラスチック基板1の上にハード
コート層2を設け、その上に中屈折率層(ここで、中屈
折率層とは、低屈折率層Aよりも屈折率が高く、高屈折
率層Bよりも屈折率が低い層を指す。)C、高屈折率層
(一部に透明導電膜10を含む)B、低屈折率層Aをこの
順序で設けたものである。
That is, in FIGS. 1 and 2, a hard coat layer 2 is provided on a plastic substrate 1, and a medium refractive index layer (here, the medium refractive index layer has a higher refractive index than the low refractive index layer A, A layer having a lower refractive index than the high refractive index layer B.) C, a high refractive index layer (including the transparent conductive film 10 in part) B, and a low refractive index layer A are provided in this order.

第3図は本考案の基本的技術思想の一部を示す図であ
り、ハードコート層2の上に、高屈折率層(一部に透明
導電膜10を含む)B、低屈折率層Aをこの順序で設けた
ものである。
FIG. 3 is a view showing a part of the basic technical idea of the present invention, in which a high refractive index layer (including a transparent conductive film 10 in part) B and a low refractive index layer A are formed on the hard coat layer 2. Are provided in this order.

第1図において、中屈折率層Cは、酸化ジコニウム層3
と二酸化ケイ素層4からなる、膜厚がλ/4のものが好ま
しい。高屈折率層Bは、TiO2層5とITO膜10からなる、
膜厚λ/2のものが好ましい。低屈折率層Aは、SiO2層7
からなる膜厚がλ/4のものが好ましい。
In FIG. 1, the middle refractive index layer C is a diconium oxide layer 3
And a silicon dioxide layer 4 having a film thickness of λ / 4 are preferable. The high refractive index layer B is composed of a TiO 2 layer 5 and an ITO film 10,
A film having a film thickness of λ / 2 is preferable. The low refractive index layer A is the SiO 2 layer 7
It is preferable that the film thickness of is λ / 4.

第2図は第1図の高屈折率層BのTiO2層5とITO膜10の
順序を置き替えたものである。第2〜3図において番号
は第1図と同じ層を示す。
FIG. 2 shows the high refractive index layer B of FIG. 1 in which the order of the TiO 2 layer 5 and the ITO film 10 is replaced. The numbers in FIGS. 2 to 3 indicate the same layers as in FIG.

本考案の静電気シールド性を有する光透過板の用途は、
テレビやディスプレーの画面のフィルター(いわゆる光
学フィルター)に特に有効である。その他眼鏡などのレ
ンズや、フィルム、ショーウィンドー用成形物としての
用途も期待できる。
The use of the light transmitting plate having the electrostatic shielding property of the present invention is as follows.
It is particularly effective as a screen filter for TVs and displays (so-called optical filter). It can also be expected to be used as lenses for eyeglasses, films, and molded products for show windows.

[実施例] 以下実施例により説明する。[Examples] Examples will be described below.

実施例1 基材として市販のポリメチルメタクリレートキャスト板
(三菱レイヨン株式会社製“アクリライト”(登録商
標)LN−084,グレー原着品、厚さ約2mm)を使用した。
ハードコート用塗料としては特開昭59−114501号公報の
実施例1の記載の通り、ビニルトリエトキシシランを氷
酢酸水溶液で加水分解したものと、メチルトリエトキシ
シランを氷酢酸水溶液で加水分解したものを混合して用
いた。この混合溶解物に硬化剤として酢酸ナトリウムを
加え、さらにシリコーン系界面活性剤を加えて最終塗料
とした。
Example 1 A commercially available polymethylmethacrylate cast plate (“Acrylite” (registered trademark) LN-084 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., a gray original material, thickness of about 2 mm) was used as a substrate.
As the hard coat paint, as described in Example 1 of JP-A-59-114501, vinyl triethoxysilane is hydrolyzed with glacial acetic acid aqueous solution, and methyl triethoxysilane is hydrolyzed with glacial acetic acid aqueous solution. The materials were mixed and used. Sodium acetate as a curing agent was added to this mixed solution, and a silicone-based surfactant was further added to give a final coating.

この塗料を基材表面に塗布し、加熱キュアして約2ミク
ロン厚さの硬化膜を形成させた。上記で得たハードコー
ト加工した基板を真空蒸着装置(真空器械工業株式会社
製HMC−2200型,カウフマン型イオン銃と高周波コイル
を設置してある)にセットし、先ず、ハードコート面の
処理として真空度約2×10-5Torrの雰囲気下で加速電圧
600V条件で、アルゴンのイオンビームを9分間照射し
た。次に多層蒸着膜第1層として酸化ジルコニウムを真
空度約4×10-5Torrの条件下で(酸素導入)蒸着し、第
2層として二酸化ケイ素を約2×10-5Torrの条件下で蒸
着し、第3層といて二酸化チタンを約5×10-5Torr(酸
素導入)条件下で、加速電圧600V条件でのアルゴンイオ
ンビームを照射しながら蒸着した。さらに第4層として
ITO(酸化インジウムと酸化錫の混合物)を約1.5×10-4
Torr(酸素導入)の条件下で高周波(13.56MHz)200Wを
かけて発生させたプラスマ雰囲気下で蒸着し、次いで最
外層の第5層として二酸化ケイ素を約2×10-5Torrの条
件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて60℃と
し、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.35、λ
/4×0.35、λ/4×1.67、λ/4×0.15、λ/4×1.00と(た
だしλ=480nm)なるよう光学モニターを使用して制御
した。上記ITO膜の厚さは約10nmであった。
This paint was applied to the surface of the substrate and cured by heating to form a cured film having a thickness of about 2 μm. The hard-coated substrate obtained above was set in a vacuum vapor deposition device (HMC-2200 manufactured by Vacuum Instrument Co., Ltd., Kaufman type ion gun and high-frequency coil are installed), and first, as a treatment of the hard-coated surface. Acceleration voltage in an atmosphere with a vacuum of about 2 × 10 -5 Torr
Irradiation with an ion beam of argon was performed for 9 minutes under the condition of 600V. Next, zirconium oxide was vapor-deposited as a first layer of the multilayer deposited film under the condition of a vacuum degree of about 4 × 10 -5 Torr (oxygen introduction), and silicon dioxide was deposited as a second layer under the condition of about 2 × 10 -5 Torr. As the third layer, titanium dioxide was deposited as the third layer under the conditions of about 5 × 10 −5 Torr (oxygen introduction) while irradiating the argon ion beam under the acceleration voltage of 600V. Further as the fourth layer
About 1.5 × 10 -4 ITO (a mixture of indium oxide and tin oxide)
Under the condition of Torr (introduction of oxygen), high-frequency (13.56MHz) 200W was applied for vapor deposition in a generated plasma atmosphere, and then silicon dioxide was used as the fifth outermost layer under the condition of about 2 × 10 -5 Torr. It was vapor-deposited. The set temperature during vapor deposition was 60 ° C, and the optical film thickness of each layer was λ / 4 × 0.35, λ
/4×0.35, λ / 4 × 1.67, λ / 4 × 0.15, λ / 4 × 1.00 (where λ = 480 nm) were controlled using an optical monitor. The ITO film had a thickness of about 10 nm.

以上の加工を施して得られた本考案品は、その表面が極
めて硬く(♯0000のスチールウールで約1kg/cm2の荷重
をかけながら5往復表面擦過してもほとんどキズの発生
は認められなかった)、蒸着多層膜の反射防止硬化も優
れ、波長550nmにおける反射率は約2.0%、又ティッシュ
ペーパーで表面擦過したときの静電気帯電性を箔検電器
で評価したが、帯電いている様子は認められなかった。
さらに、上記で得られた基材の、上記でハードコート層
等を設けた面の反対側の面に、第4層のITO層を設けな
い以外は、同様にして、ハードコート層と反対防止層と
を設けた。
The product of the present invention obtained by the above processing has an extremely hard surface (although scratches are observed even after 5 reciprocating abrasions with # 0000 steel wool under a load of about 1 kg / cm 2 ). Also, the anti-reflection curing of the vapor-deposited multilayer film is excellent, the reflectance at a wavelength of 550 nm is about 2.0%, and the electrostatic chargeability when the surface was rubbed with a tissue paper was evaluated with a foil electroscope. I was not able to admit.
Further, in the same manner as above, except that the ITO layer of the fourth layer is not provided on the surface of the base material obtained above, which is opposite to the surface provided with the hard coat layer, etc. Layers.

得られた光透過板は、上記で得られた光透過板よりも、
反射防止性能に優れるものであった。
The resulting light transmitting plate is more than the light transmitting plate obtained above.
It was excellent in antireflection performance.

本考案品はVDT用前面フィルターアースを取りつけて使
用したところ、反射防止に優れ、かつ静電気が除去でき
て好適であった。
The product of the present invention was suitable because it was excellent in anti-reflection and static electricity could be removed by using the VDT front filter ground.

本実施例によって得られた光透過板の模式的断面図を第
1図に示す。
A schematic cross-sectional view of the light transmitting plate obtained in this example is shown in FIG.

実施例2 実施例1に示した各種加工条件のうち真空蒸着の第3層
と第4層を次のように変更した多層反射防止性光透過板
を作成した。すなわち、第3層としてITOを約1.5×10-4
Torr(酸素導入)の条件下で高周波(13.56MHz)200Wを
かけて発生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第4層を
約5×10-5Torr(酸素導入)の条件下で加速電圧600Vで
アルゴンイオンビームを照射しながら二酸化チタンを蒸
着した。蒸着時の設定温度は、第1層から最終第5層ま
で70℃とし、各層の光学的膜厚は下地側第1層から順に
λ/4×0.35、λ/4×0.35、λ/4×0.25、λ/4×1.58、λ
/4×1.00となるように光学モニターで制御した(ただし
λ=480nm)。さらに、上記で得られた基材の、上記で
ハードコート層等を設けた面の反対側の面に、ITO層を
設けない以外は、同様にして、ハードコート層と反射防
止層とを設けた。
Example 2 A multilayer antireflection light transmitting plate was prepared in which the third layer and the fourth layer vacuum-deposited among the various processing conditions shown in Example 1 were changed as follows. That is, ITO is used as the third layer in an amount of about 1.5 × 10 -4
Vapor deposition was performed in a plasma atmosphere generated by applying high frequency (13.56MHz) 200W under Torr (oxygen introduction), and the fourth layer was accelerated at 600V under about 5 × 10 -5 Torr (oxygen introduction). Titanium dioxide was vapor-deposited while being irradiated with an argon ion beam. The set temperature during vapor deposition is 70 ° C from the first layer to the final fifth layer, and the optical film thickness of each layer is λ / 4 × 0.35, λ / 4 × 0.35, λ / 4 × in order from the first layer on the base side. 0.25, λ / 4 x 1.58, λ
It was controlled by an optical monitor to be /4×1.00 (where λ = 480 nm). Further, a hard coat layer and an antireflection layer are provided in the same manner except that the ITO layer is not provided on the surface of the substrate obtained above that is opposite to the surface provided with the hard coat layer or the like. It was

上記の加工を施して得られた本考案品の表面硬さ、反射
防止効果及び静電防止効果は実施例1で作成したものと
同等であり、VDT用前面フィルターとして好適であっ
た。
The surface hardness, the antireflection effect, and the antistatic effect of the product of the present invention obtained by performing the above-mentioned processing were the same as those prepared in Example 1, and were suitable as a VDT front filter.

本実施例によって得られた光透過板の模式的断面図を第
2図に示す。
FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of the light transmitting plate obtained in this example.

比較例1 実施例1に示した各種加工条件のうち、反射防止層以外
の条件、すなわち基板、ハードコート、蒸着前処置まで
全く同じ条件で加工した。これ以下、真空蒸着の条件
は、多層蒸着膜第1層としてITOを約1.5×10-4Torr(酸
素導入)の条件下で高周波(13.56MHz)200Wをかけて発
生させたプラズマ雰囲気下で蒸着し、第2層として酸化
ジルコニウムを真空度約4×10-5Torrの条件下で(酸素
導入)蒸着し、第3層として二酸化ケイ素を約2×10-5
Torrの条件下で蒸着し、第4層として二酸化チタンを約
5×10-5Torr(酸素導入)の条件下で、加速電圧600V条
件でアルゴンイオンビームを照射しながら蒸着した。次
いで、最外層の第5層として二酸化ケイ素を約2×10-5
Torrの条件下で蒸着した。蒸着時の設定温度は、すべて
60℃とし、各層の光学的膜厚は下地側から順にλ/4×0.
15、λ/4×0.15、λ/4×0.40、λ/4×1.80、λ/4×1.00
(但しλ=480nm)となるよう光学モニターを使用して
制御した。
Comparative Example 1 Of the various processing conditions shown in Example 1, processing was performed under exactly the same conditions except for the antireflection layer, that is, the substrate, hard coat, and pretreatment for vapor deposition. Below this, the vacuum deposition conditions are: ITO as the first layer of the multilayer deposition film, deposited under a plasma atmosphere generated by applying high frequency (13.56MHz) 200W under the condition of about 1.5 × 10 -4 Torr (introduction of oxygen). Then, zirconium oxide is vapor-deposited as a second layer under the condition that the degree of vacuum is about 4 × 10 −5 Torr (oxygen introduction), and silicon dioxide is about 2 × 10 −5 as a third layer.
Vapor deposition was performed under the conditions of Torr, and titanium dioxide was vapor-deposited as the fourth layer under the conditions of approximately 5 × 10 −5 Torr (introduction of oxygen) at an accelerating voltage of 600 V under irradiation with an argon ion beam. Then, as the fifth outermost layer, about 2 × 10 −5 of silicon dioxide was used.
Deposition was carried out under the conditions of Torr. All set temperatures during vapor deposition
60 ℃, the optical thickness of each layer is λ / 4 × 0 from the base side.
15, λ / 4 × 0.15, λ / 4 × 0.40, λ / 4 × 1.80, λ / 4 × 1.00
(However, λ = 480 nm) was controlled using an optical monitor.

この光透過板と本考案の実施例1,2の光透過板の反射防
止層の膜物性比較評価として、屋外暴露試験を実施し
た。
An outdoor exposure test was conducted as a comparative evaluation of the film physical properties of the antireflection layer of the light transmitting plate and the light transmitting plates of Examples 1 and 2 of the present invention.

太陽光が効率良く光透過板に照射するよう、光透過板を
南面でしかも地面から45度の角度にして、導電膜を有す
る反射防止層面を太陽側に向け取り付けた。1か月暴露
の後、密着性試験を実施した。その結果、本考案の光透
過板の反射防止層の剥離はなかったが、比較例1の場合
は剥離した。
In order to irradiate the light-transmitting plate efficiently with sunlight, the light-transmitting plate was attached to the south side and at an angle of 45 degrees from the ground, and the antireflection layer surface having the conductive film was attached to the sun side. After exposure for 1 month, an adhesion test was conducted. As a result, the antireflection layer of the light transmitting plate of the present invention was not peeled off, but it was peeled off in the case of Comparative Example 1.

ここで、密着性試験としては、次に示すとおりに行っ
た。
Here, the adhesion test was performed as follows.

密着性試験 セロハンテープ(ニチバン製)を、評価する膜面に張り
つけ、膜面から45度の方向に引張り剥離した。これを3
回くり返し、膜がセロハンテープについて剥離するかを
観察した。
Adhesion test Cellophane tape (manufactured by Nichiban) was attached to the film surface to be evaluated, and peeled off by pulling in a direction of 45 degrees from the film surface. This 3
Repeatedly, it was observed whether the film peeled off with the cellophane tape.

[考案の効果] 本考案は、プラスチックの透明板を用いて、表層に多層
反射防止層を設けるとともに、その一部に導電層を設け
ることにより、効果的に反射防止と制電性(帯電防止
性、静電気シールド性)が発揮できるという顕著な効果
を奏する。
[Effects of the Invention] The present invention uses a transparent plastic plate to provide a multi-layer antireflection layer on the surface layer and a conductive layer on a part of the surface layer, thereby effectively providing antireflection and antistatic properties (antistatic property). And static electricity shielding property) are exhibited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1〜3図は本考案の好ましい制電性と反射防止性を有
する光透過板といて好ましく用いられる光透過板の1実
施態様の断面を示す。 すなわち第1〜2図はプラスチック基板1の上にハード
コート層2を設け、その上に中屈折率層C、高屈折率層
(一部に透明導電膜10を含む)B、低屈折率層Aをこの
順序で設けたものである。 第3図は本考案の基本的技術思想を示す図でり、ハード
コート層2の上に、高屈折率層(一部に透明導電膜10を
含む)B、低屈折率層Aをこの順序で設けたものであ
る。
1 to 3 show a cross section of one embodiment of a light transmitting plate which is preferably used as a light transmitting plate having preferable antistatic property and antireflection property of the present invention. That is, in FIGS. 1 and 2, a hard coat layer 2 is provided on a plastic substrate 1, on which a medium refractive index layer C, a high refractive index layer (including a transparent conductive film 10 in part) B, and a low refractive index layer are provided. A is provided in this order. FIG. 3 is a view showing the basic technical idea of the present invention, in which a high refractive index layer (including a transparent conductive film 10 in part) B and a low refractive index layer A are arranged in this order on the hard coat layer 2. It was provided in.

Claims (8)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】プラスチック透明基材の上に耐擦禍性を有
するハードコート層を設け、その表層に多層反射防止層
を設けた光透過板において、前記多層反射防止層の最外
層は低屈折率の層からなり、かつ内層に前記低屈折率層
より相対的に高い屈折率層を設け、該相対的に高い屈折
率層のハードコート層と接しない部分に膜厚が2〜50nm
の範囲の透明導電膜を配置したことを特徴とする除電性
を有する多層反射防止光透過板。
1. A light-transmitting plate comprising a plastic transparent substrate, a hard coat layer having abrasion resistance, and a multilayer antireflection layer formed on the surface thereof, wherein the outermost layer of the multilayer antireflection layer has a low refractive index. Index layer, and provided with a relatively higher refractive index layer than the low refractive index layer in the inner layer, the thickness of the relatively high refractive index layer in the portion not in contact with the hard coat layer is 2 to 50 nm.
A multilayer antireflection light-transmitting plate having a charge eliminating property, characterized in that a transparent conductive film in the range of 10 is arranged.
【請求項2】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、導電膜層が酸化インジウムと酸化スズを含む層であ
ることを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。
2. A multilayer antireflection light-transmitting plate having static elimination property according to claim (1) of the utility model registration, wherein the conductive film layer is a layer containing indium oxide and tin oxide.
【請求項3】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、ハードコート層が有機ポリシロキサンを含む層であ
ることを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。
3. A multilayer antireflection light-transmitting plate having static elimination property according to claim (1) of the utility model registration, wherein the hard coat layer is a layer containing an organic polysiloxane.
【請求項4】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、透明基材が着色されたものであることを特徴とする
除電性を有する多層反射防止光透過板。
4. A multilayer antireflection light-transmitting plate having a charge eliminating property according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that the transparent base material is colored.
【請求項5】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、該相対的に高い屈折率の層が、酸化チタン層または
酸化ジルコニウム層と、透明導電膜層で構成される層を
含むことを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透
過板。
5. The utility model registration claim (1), wherein the layer having a relatively high refractive index includes a layer composed of a titanium oxide layer or a zirconium oxide layer and a transparent conductive film layer. A multilayer antireflection light-transmitting plate having a static eliminating property.
【請求項6】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、該相対的に高い屈折率層が、無機シリカ層または弗
化マグネシウムの層と、透明導電膜で構成される層を含
むことを特徴とする除電性を有する多層反射防止光透過
板。
6. The utility model registration claim (1), wherein the relatively high refractive index layer includes an inorganic silica layer or a magnesium fluoride layer and a layer formed of a transparent conductive film. A multilayer antireflection light-transmitting plate having a static eliminating property.
【請求項7】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、最外層の低い屈折率の層が無機シリカ層または弗化
マグネシウム層であることを特徴とする除電性を有する
多層反射防止光透過板。
7. A multilayer antireflection light having a static elimination property according to claim (1) of the utility model registration, wherein the outermost layer having a low refractive index is an inorganic silica layer or a magnesium fluoride layer. Transparent plate.
【請求項8】実用新案登録請求の範囲第(1)項におい
て、多層反射防止層の最外層を介してアース線が引き出
された構造であることを特徴とする除電性を有する多層
反射防止光透過板。
8. A multilayer antireflection light having a static eliminating property according to claim (1) of the utility model registration, characterized in that a ground wire is drawn out through the outermost layer of the multilayer antireflection layer. Transparent plate.
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