JPH09197103A - Plastic optical article with multilayered antireflection film - Google Patents
Plastic optical article with multilayered antireflection filmInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
(LCD)、テレビ・コンピュ−タ−のブラウン管(C
RT)その他の表示画面などの前面に装着され、それら
装置から発生する電磁波や静電気を効果的にシ−ルドあ
るいは漏洩させ、優れた反射防止性能を有する光学物品
に関する。すなわち、人がそれら装置の前で作業する場
合、電磁波による健康障害を防止し、静電気の帯電によ
るほこりなどの付着を最小限におさえ、しかも作業者の
後ろにある種々の光原からの光が表示画面に反射して作
業者の目に当たるために本来の表示が見にくくなること
を防ぐために充分な反射防止性能を有する傷が付きにく
く、しかも種々の生活周辺物質によって汚れにくいいプ
ラスティック光学物品に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cathode ray tube (C) of a liquid crystal display (LCD) and a television computer.
The present invention relates to an optical article which is mounted on the front surface of other display screens or the like and effectively shields or leaks electromagnetic waves and static electricity generated from those devices and has excellent antireflection performance. That is, when a person is working in front of these devices, he / she can prevent health problems caused by electromagnetic waves, minimize the adhesion of dust and the like due to electrostatic charge, and still have light from various light sources behind the operator. The present invention relates to a plastic optical article that has sufficient antireflection performance to prevent the original display from being difficult to see due to reflection on the display screen and hitting the eyes of an operator, and is unlikely to be scratched and to be easily contaminated by various daily life-related substances.
【0002】さらに詳しくは、可視光線領域の広い範囲
で反射率が小さく、具体的には、反射防止膜面の反射率
が1%以下である可視光線波長域バンドが200nm以
上である高度に反射防止性能の優れた多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品に関する。More specifically, the reflectance is small in a wide range of the visible light region, and specifically, the reflectance of the antireflection film surface is 1% or less, and the visible wavelength band is 200 nm or more. The present invention relates to a plastic optical article having a multilayer antireflection film having excellent antireflection performance.
【0003】[0003]
【従来の技術】一般的には液晶表示板(LCD)、テレ
ビ・コンピュ−タ−のブラウン管(CRT)の表示画面
はガラスである場合が多く、従来はそのガラス面に反射
防止能を付与することで背後光源の反射による障害を避
けてきた。しかし数十cm四方の大きさで、しかも曲面
を持つCRTのようなガラス面に、以下に示すような高
真空中で、金属酸化物や誘電体からなる多層膜を蒸着さ
せて反射防止膜つくるというような生産方式は設備的に
大掛かりとなり、経済性の面では好ましくなかった。か
かる状況で、反射防止性能を有するプラスティックフィ
ルムを用意し、それを表示板ガラス面に装着することが
行われた。この場合、プラスティックフィルムであるが
故に、表面に傷が付き易いのを改善し、しかも静電気の
帯電を最小限にするための工夫が必要である。2. Description of the Related Art Generally, a display screen of a liquid crystal display (LCD) or a cathode ray tube (CRT) of a television computer is often made of glass, and conventionally, the glass surface is provided with an antireflection function. By doing so, we have avoided obstacles due to the reflection of the back light source. However, an antireflection film is formed by vapor-depositing a multilayer film composed of a metal oxide or a dielectric material on a glass surface such as a CRT having a size of several tens cm square and having a curved surface in a high vacuum as shown below. Such a production method is a large-scale facility, and is not preferable in terms of economy. Under such circumstances, a plastic film having an antireflection property was prepared and attached to the glass surface of the display plate. In this case, since it is a plastic film, it is necessary to improve the easiness of scratches on the surface and to minimize static charge.
【0004】特開昭62-178901 には、プラスティック透
明フィルムの上に耐擦禍性を有するハ−ドコ−ト−層を
設け、その表層に特定の酸化物の4層からなる反射防止
膜を有する光学物品が提案されている。しかし、帯電防
止、電磁波シ−ルドの点からの設計はなされていない。In Japanese Patent Laid-Open No. 178901/1987, a hard coat layer having abrasion resistance is provided on a plastic transparent film, and an antireflection film consisting of four layers of a specific oxide is provided on the surface layer. Optical articles have been proposed. However, no design has been made from the viewpoint of antistatic property and electromagnetic wave shield.
【0005】さらに特開昭60-144702 には、合成樹脂基
材の表面に、まず表面硬化被膜を形成させ、その上に多
層反射防止膜を形成させてなえる光学素子において該多
層反射防止膜の最内層が酸化イットリウムと酸化ジルコ
ニウムを有する混合物からなり、最外層が二酸化ケイ素
の膜からなる多層反射防止膜が提案されている。これは
傷のつきにくさと反射防止性能の両立の最適化を目的と
したものである。しかしこの場合も帯電防止、電磁波シ
−ルドの点からの設計はなされていない。Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 144702/1985, an optical element comprising a surface-hardened coating film formed on the surface of a synthetic resin substrate and then a multilayer antireflection film formed thereon is used. A multilayer antireflection film has been proposed in which the innermost layer is composed of a mixture containing yttrium oxide and zirconium oxide, and the outermost layer is composed of a silicon dioxide film. This is intended to optimize both scratch resistance and antireflection performance. However, in this case as well, no design is made from the viewpoint of antistatic property and electromagnetic wave shield.
【0006】特開昭61-245449 には、プラスティック基
材に、ハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に導電層を設
け、さらにその表層に前記導電層の屈折率より低い屈折
率の層を設けた光透過板が提案されている。しかしこの
例においては導電層を含めて3層からなる反射防止膜で
あり、可視光線の中心主波長領域を除いた両側波長領域
での反射率が非常に高く、反射防止膜光学物品としては
極めて不満足である。In JP-A-61-245449, a plastic substrate is provided with a hard coat layer, a surface layer thereof is provided with a conductive layer, and the surface layer thereof is provided with a refractive index lower than that of the conductive layer. Light-transmitting plates provided with layers have been proposed. However, in this example, the antireflection film is composed of three layers including the conductive layer, and the reflectance is extremely high in both wavelength regions excluding the central dominant wavelength region of visible light, and it is extremely useful as an antireflection optical product. Dissatisfied.
【0007】特開平6-130204には、耐熱性プラスティッ
ク透明基材上にハ−ドコ−ト−層を設け、その表層に透
明導電層を含む多層反射防止層を設けた光透過板が提案
されており、最外層がハ−ドコ−ト−層よりも低い屈折
率であり、さらに該透明導電層を該反射防止層の内層に
配置された多層反射防止光透過板の製造方法が提案され
ている。すなわち、ここにおいては、該多層反射防止層
のすべてを真空蒸着で製造することが示されており、そ
のために、基材として、耐熱性プラスティックであるこ
とが必要である。耐熱性プラスティックとして、熱変形
温度が120℃以上のものであること、具体的にはポリ
カ−ボネ−トの実施例だけが示されている。本例におい
ても、ハ−ドコ−ト−層の上に設けられる反射防止膜は
3層あるいは4層からなり、特開昭61-245449 における
のと同様、500nm付近の主波長領域の両側の波長領
域での反射率が高く、反射防止膜面の反射率が1%以下
である可視光線波長域バンドはすべての実施例で150
nm程度、最も広い場合でも230nm程度であり、反
射防止膜光学物品としては極めて不満足である。Japanese Patent Laid-Open No. 6-130204 proposes a light transmission plate having a heat-resistant plastic transparent substrate provided with a hard coat layer and a multilayer antireflection layer including a transparent conductive layer provided on the surface thereof. The outermost layer has a lower refractive index than the hard coat layer, and a method for producing a multilayer antireflection light transmitting plate in which the transparent conductive layer is arranged as an inner layer of the antireflection layer has been proposed. There is. That is, here, it is shown that all of the multilayer antireflection layer is manufactured by vacuum vapor deposition, and for that reason, it is necessary that the substrate is a heat resistant plastic. As the heat resistant plastic, the one having a heat distortion temperature of 120 ° C. or more, specifically, only the polycarbonate example is shown. Also in this example, the antireflection film provided on the hard coat layer is composed of three layers or four layers, and as in JP-A-61-245449, wavelengths on both sides of the main wavelength region near 500 nm. The visible light wavelength band having a high reflectance in the region and a reflectance of the antireflection film surface of 1% or less is 150 in all the examples.
The thickness is about nm, and is 230 nm even in the widest case, which is extremely unsatisfactory as an antireflection optical film article.
【0008】特開平2-239201には、ガラス、レンズなど
の光学部品の表面上に設けられた、透明導電層を少なく
とも1層含む6層からなる多層反射防止膜において、第
1層が二酸化ケイ素、第2層が酸化アルミニウム、第3
透明導電層層である酸化インジウム・スズ、第4層が酸
化アルミニウム、第5層が酸化ジルコウム、第5層がフ
ッ化マグネスムである特定の構成の多層反射防止膜が提
案されている。この場合、レンズなどにおいて、環境の
変化による結露を防止するために透明導電層層に電流を
供給し、光の反射も合わせて防止することを目的として
いる。十分に高い反射防止性能を得るために、このよう
に6層の構成が必要となり、反射防止膜面の反射率が1
%以下である可視光線波長域バンドが380nm、すな
わち可視光線の波長全域(400〜780)であるもの
が提供されている。しかしながら、このように5種類の
化合物を使い6層あるいはそれ以上の多層膜を形成させ
ることは、カメラレンズのように高度の性能を要求され
る場合に見合うものであり、本発明が目的とするガラス
に直接多層成膜しないで、より経済的な製造方法とし
て、わざわざプラスティックフィルムに反射防止膜を形
成して、これをCRTやLCDなどのガラスなどからな
る装置全面に装着して経済性を追おうとする場合には適
用し難いものであることは言うまでもない。Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 2-239201 discloses a multilayer antireflection film consisting of 6 layers, which is provided on the surface of an optical component such as glass or lens, and which has at least one transparent conductive layer, and the first layer is silicon dioxide. , The second layer is aluminum oxide, the third layer
There has been proposed a multilayer antireflection film having a specific structure in which indium tin oxide as a transparent conductive layer, a fourth layer is aluminum oxide, a fifth layer is zirconium oxide, and a fifth layer is magnesium fluoride. In this case, in a lens or the like, an object is to supply an electric current to the transparent conductive layer layer in order to prevent dew condensation due to a change in environment, and also to prevent light reflection. In order to obtain a sufficiently high antireflection performance, the structure of 6 layers is required as described above, and the reflectance of the antireflection film surface is 1
% Or less, the visible light wavelength band is 380 nm, that is, the entire visible light wavelength band (400 to 780) is provided. However, forming a multi-layered film of 6 layers or more using 5 kinds of compounds as described above is suitable for the case where a high performance is required such as a camera lens, and an object of the present invention. As a more economical manufacturing method, instead of directly forming multiple layers on glass, an anti-reflection film is purposely formed on a plastic film, and this is attached to the entire surface of a device made of glass such as CRT or LCD to improve economic efficiency. It goes without saying that it is difficult to apply when trying.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
種々の従来技術の範囲での性能上、品質上の問題点を解
決し、種々のディスプレイに装着されて使用目的に対し
て必要十分な反射防止性能を持ち、しかも経済的にも装
置全体の製造費用を安価にすることができるプラスティ
ックフィルム光学材料を提供することである。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is to solve the problems in performance and quality in the range of the above-mentioned various prior arts, and to mount it on various displays to meet the purpose of use. It is an object of the present invention to provide a plastic film optical material which has excellent antireflection properties and can economically reduce the manufacturing cost of the entire device.
【0010】すなわち、本発明が目的とするプラスティ
ックフィルム光学材料は次の特徴と性能・品質要件を持
つ。 (1)反射防止膜面の反射率が1%以下である可視光線
波長域バンドが広く、250nm以上である。 (2)ある程度の導電性を持ち、ディスプレイが発生す
る電磁波をシ−ルドでき、 また表面に静電気によ
る帯電が小さくほこりなどの蓄積が少ない。 (3)表面に傷が付きにくい。具体的には表面の鉛筆硬
度が2H以上。望ましくは、紅茶、口紅、マジックイン
キなど種々の生活用品に対して汚れにくいThat is, the plastic film optical material aimed at by the present invention has the following characteristics and performance / quality requirements. (1) The visible light wavelength band having a reflectance of 1% or less on the surface of the antireflection film is wide, and is 250 nm or more. (2) It has a certain degree of conductivity and can shield the electromagnetic waves generated by the display, and the surface is less charged by static electricity and less dust is accumulated. (3) The surface is not easily scratched. Specifically, the pencil hardness of the surface is 2H or more. Desirably, it is hard to get dirty with various household items such as black tea, lipstick, and magic ink.
【0011】。[0011]
【課題を解決するための手段】上記の本発明の目的は、
下記の本発明によって工業的に有利に達成された。SUMMARY OF THE INVENTION The object of the present invention is as follows.
The present invention described below has been industrially advantageously achieved.
【0012】[1]プラスティック製フィルムまたはシ
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。[1] On the surface layer of one side or both sides of the plastic film or sheet base material, in order from the base material layer side to the surface side, the first layer: a layer having a scratch resistance of 1 μm to 15 μm. −
Second layer of docoat layer; ZrO 2 or ITO (In 2 O 3 , SnO 2
Mixture) as a main component Third layer; MgF 2 or SiO 2 as a main component Fourth layer; ITO as a main component Fifth layer; MgF 2 as a main component Sixth layer; An optical article made of plastic, comprising a layer containing SiO 2 as a main component, and having a multilayer antireflection film having a visible light wavelength band of 180 nm or more and a reflectance of 1% or less on the antireflection film surface.
【0013】[2]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d4 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。[2] Optical thickness of the second to sixth layers (n
i × d i , i = 2 to 6, n i : refractive index of the i -th layer, d i =
When the design wavelength is λ 0 (thickness of the i-th layer) (λ 0 =
450 to 600 nm), 0.10λ 0 <n 2 d 2 <0.15λ 0 0.06λ 0 <n 3 d 3 <0.08λ 0 0.15λ 0 <n 4 d 4 <0.22λ 0 0.20λ 0 <n 5 d 4 <0.26λ 0 0.03λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 A plastic optical article having a multilayer antireflection film as described in [1] above.
【0014】「3]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d4 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]記載の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。[3] Optical thickness of the second to sixth layers (n
i × d i , i = 2 to 6, n i : refractive index of the i -th layer, d i =
When the design wavelength is λ 0 (thickness of the i-th layer) (λ 0 =
450 to 600 nm), 0.05λ 0 <n 2 d 2 <0.07λ 0 0.08λ 0 <n 3 d 3 <0.10λ 0 0.45λ 0 <n 4 d 4 <0.60λ 0 0.15λ 0 <n 5 d 4 <0.22λ 0 0.04λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 A plastic optical article having a multilayer antireflection film as described in [1] above.
【0015】[4]第1層のハ−ドコ−ト層が、鉛筆硬
度2H以上の硬度を有する層であることを特徴とする上
記[1]〜[3]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。[4] The multilayer reflection according to any one of the above [1] to [3], wherein the first hard coat layer is a layer having a pencil hardness of 2H or more. An optical article made of plastic having a protective film.
【0016】[5]反射防止膜側で測定される表面抵抗
が3KΩ以下であることを特徴とする上記[1]〜
[4]のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラ
スティック製光学物品。[5] The surface resistance measured on the antireflection film side is 3 KΩ or less, and the above [1] to
A plastic optical article having the multilayer antireflection film according to any one of [4].
【0017】[6]プラスティックフィルムまたはシ−
トが、ポリエステル系樹脂、系樹脂、メタクリル系樹
脂、弗素系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂の内の一つまた
は複合体からなるフィルムまたはシ−トであることを特
徴とする上記[1]〜[4]のいずれかに記載の多層反
射防止膜を有するプラスティック製光学物品。[6] Plastic film or sheet
[1] to [1], wherein the sheet is a film or sheet made of one or a composite of polyester resin, resin, methacrylic resin, fluorine resin, and triacetate resin. A plastic optical article having the multilayer antireflection film according to any one of [4].
【0018】[7]第6層の上に、さらに厚みが1nm
〜20nmの範囲の、水の接触角が60deg以上であ
る撥水性の透明層が設けられていることを特徴とする上
記[1]〜[6]のいずれかに記載の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。[7] A thickness of 1 nm is further formed on the sixth layer.
The multilayer antireflection film as described in any one of [1] to [6] above, wherein a water-repellent transparent layer having a contact angle of water of 60 deg or more in the range of ˜20 nm is provided. Optical articles made of plastic.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】本発明においてプラスティック製
フィルムまたはシ−ト基材としては、可視光線を透過で
きる透明性があり、その表面に、下記に示すようなハ−
ドコ−ト層と反射防止膜を構成する5層の金属酸化物を
蒸着などの手段で乗せ、またディスプレイ前面に接着す
る工程に耐える程度の熱的、機械的、形態的安定性のあ
るものであれば差支えない。具体的には、厚みが20〜
300μm程度の、ポリオレフィン系樹脂、ポリメタク
リル酸系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト
系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂などからなるフィルムま
たはシ−トが挙げられる。中でも、熱的、機械的、形態
的安定性の面と経済性のバランスの面から、ポリエステ
ル系樹脂、その中でもポリエチレンテレフタレ−トを主
体とする樹脂が好ましく使われる。場合によっては、デ
ィスプレイの使用目的やデザイン設計の点から、これら
のフィルムまたはシ−トは原着や染色によって着色され
たものも可視光線透過率の許容できる範囲で好ましく使
われる。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, the plastic film or sheet base material has a transparency capable of transmitting visible light, and the surface thereof has a hard coat as shown below.
It has enough thermal, mechanical, and morphological stability to withstand the process of depositing the five layers of metal oxides forming the dococoat layer and the antireflection film by means such as vapor deposition, and adhering to the front surface of the display. It doesn't matter if you have it. Specifically, the thickness is 20 to
Examples of the film or sheet include polyolefin resin, polymethacrylic acid resin, polyester resin, polycarbonate resin, and triacetate resin having a thickness of about 300 μm. Among them, polyester resins, and among them, resins mainly composed of polyethylene terephthalate are preferably used from the viewpoint of the balance of thermal, mechanical and morphological stability and economical efficiency. In some cases, from the viewpoints of the purpose of use of the display and the design design, those films or sheets colored by dyeing or dyeing are preferably used in the range where the visible light transmittance is acceptable.
【0020】また本発明の製品をディスプレイなどに装
着する場合、一般的には片面に反射防止膜を形成し、他
の面とディスプレイを密着させて使用するために、その
結合面の接着性をよくするために何等かの化学的、物理
的表面処理(コ−ティング、コロナ放電処理など)を施
すことも望ましい。When the product of the present invention is mounted on a display or the like, in general, an antireflection film is formed on one surface and the display is brought into close contact with the other surface. It is also desirable to apply some chemical or physical surface treatment (coating, corona discharge treatment, etc.) to improve the quality.
【0021】ハ−ドコ−ト層は、本発明の製品の表面
を、ディスプレイが使用される状態で、本来的には目的
とはしない物品との接触(鉛筆、シャ−プペンシル先
端、爪など)や、また表面を拭いて清浄化するときの摩
擦による傷の発生を抑えるためのものである。表面硬度
の表現方法は種々あるが、鉛筆硬度が便利に使われ、少
なくとも2H以上の硬度が要求される。本来、以下に説
明する本発明の、各種酸化物で構成される反射防止膜自
体は充分硬いものであるが、以下に示すようにその厚み
は5層全体でも0.5μm以下であり、これの下に上記
に示した一般の硬度の低い20μm以上の厚みのあるプ
ラスティック製フィルムまたはシ−ト基材が存在する場
合、上記の種々の傷発生原因に対してはほとんど効果が
ない。傷防止の効果を発揮するためにかなりの厚みを必
要とするハ−ドコ−ト層を反射防止膜の外側に設けるこ
とは、反射防止の原理から不可能である。したがって、
ハ−ドコ−ト層をフィルムまたはシート基材と反射防止
膜との間に設けることになる。この厚みは、傷の付きに
くい表面硬度を発揮するために最小限の厚みとして一般
には2μm以上必要であり、厚すぎるとフィルム全体と
しての柔軟性をなくしたり、また光学特性の点からも障
害原因となりやすいので15μm以下でなければならな
い。The hard coat layer contacts the surface of the product of the present invention with an article which is not originally intended in the state where the display is used (pencil, sharp pencil tip, nail, etc.). Moreover, it is for suppressing the generation of scratches due to friction when the surface is wiped for cleaning. There are various methods of expressing the surface hardness, but pencil hardness is conveniently used, and a hardness of at least 2H or higher is required. Originally, the antireflection film of the present invention described below, which is composed of various oxides, is sufficiently hard, but as shown below, the thickness of all five layers is 0.5 μm or less. When the general plastic film or sheet base material having a low hardness of 20 μm or more as described above is present, it has almost no effect on the above various causes of scratches. It is impossible from the principle of antireflection to provide a hardcoat layer on the outside of the antireflection film, which requires a considerable thickness in order to exert the effect of preventing scratches. Therefore,
A hard coat layer will be provided between the film or sheet substrate and the antireflection film. This thickness is generally required to be 2 μm or more as a minimum thickness in order to exhibit a surface hardness that is not easily scratched. If it is too thick, the flexibility of the film as a whole is lost, and also from the viewpoint of optical characteristics, it is a cause of failure. Since it is likely to become, it must be 15 μm or less.
【0022】ハ−ドコ−ト層の化学的組成としては、ポ
リオルガノシロキサン、シリカ、アルミナなどの無機酸
化物系あるいは有機アクリル系いずれでもよい。またこ
れらのハ−ドコ−ト層の成膜方法としては、真空蒸着方
式も溶液の塗布/乾燥によるいわゆるウヱット・コ−テ
ィング方式など、通常行われているいずれの方式も可能
である。しかし、上記のように一般には2μm以上の厚
みが必要であるので、ウヱット・コ−ティング方式によ
る方が好ましい。その場合は、有機アクリル系が選択し
やすく、メタクリル酸などのアクリル化合物と多官能グ
リコ−ルとのエステル化合物を架橋させて成膜する方法
が好ましく使用される。The chemical composition of the hard coat layer may be either an inorganic oxide type such as polyorganosiloxane, silica or alumina, or an organic acrylic type. Further, as a method for forming these hard coat layers, any of commonly used methods such as a vacuum vapor deposition method and a so-called wet coating method by coating / drying a solution can be used. However, as described above, a thickness of 2 μm or more is generally required, and therefore, the wet coating method is preferable. In that case, an organic acrylic type is easily selected, and a method of forming a film by cross-linking an ester compound of an acrylic compound such as methacrylic acid and a polyfunctional glycol is preferably used.
【0023】ハ−ドコ−ト層と基材フィルムまたはシー
トとの接着性を高めるために、2μm以下程度の薄いア
ンカ−コ−ト層を設けることも好ましく行われる。その
場合には、アクリル系あるいはポリエステル系樹脂を用
いて、基材フィルムの製造時でのインライン方式または
オフライン方式によるのがが望ましい。In order to improve the adhesion between the hard coat layer and the substrate film or sheet, it is also preferable to provide a thin anchor coat layer of about 2 μm or less. In that case, it is desirable to use an in-line method or an off-line method at the time of manufacturing the base film, using an acrylic or polyester resin.
【0024】次に多層の反射防止膜の成膜について説明
する。一般的な多層反射防止膜の原理とその成膜方法に
ついてはすでに公知であり、種々の目的に応じて多種多
様の方法と実施例が紹介されている。その余りに多くの
公知技術の例を列挙することは不可能であるが、基本的
には、基材フィルムの、また本発明の場合は、アンカ−
コ−ト層やハ−ドコ−ト層を含めた基材フィルムの屈折
率より、小さい屈折率をもつ透明な化合物と、基材フィ
ルムの屈折率より大きい屈折率をもつ透明な化合物の層
を、全体の反射率を極小に近い値にするように設計され
た光学的膜厚み(屈折率nと絶対厚みdの積)で構成す
ることからなる。そのときに、使用される目的、許容さ
れる生産のための費用、生産のために採用できる成膜の
方法によって、具体的な多層の構成内容が異なってく
る。本発明では、すでに説明したように、その使用目的
から、上記「発明が解決しようとする課題」の(1)〜
(3)に示す要件を必要で且つ十分な条件とした。この
ことから、反射防止膜の要件として、具体的に下記の要
件と技術対応からなる構成を提供するものである。Next, the formation of a multilayer antireflection film will be described. The principle of a general multilayer antireflection film and the film forming method thereof are already known, and various methods and examples are introduced according to various purposes. Although it is impossible to enumerate too many examples of the known art, it is basically the base film, and in the case of the present invention, the anchor.
A transparent compound layer having a refractive index smaller than that of the base film including the coat layer and the hard coat layer and a transparent compound layer having a refractive index higher than that of the base film are formed. , An optical film thickness (product of refractive index n and absolute thickness d) designed to make the overall reflectance close to a minimum value. At this time, the specific content of the multilayer structure varies depending on the purpose of use, the allowable cost for production, and the film-forming method that can be adopted for production. In the present invention, as already described, from the above-mentioned "problems to be solved by the invention" (1)-
The requirements shown in (3) were set as necessary and sufficient conditions. From this, as a requirement of the antireflection film, a configuration specifically including the following requirements and technical correspondence is provided.
【0025】[1]プラスティック製フィルムまたはシ
−ト基材の片面または両面の表層に、該基材層側から表
面に向かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITO(In2 O3 ,SnO2
混合物)を主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。[1] On the surface layer of one side or both sides of the plastic film or sheet base material, in order from the base material layer side to the surface side, the first layer: a layer having a scratch resistance of 1 μm to 15 μm. −
Second layer of docoat layer; ZrO 2 or ITO (In 2 O 3 , SnO 2
Mixture) as a main component Third layer; MgF 2 or SiO 2 main component 4th layer; ITO main component 5th layer; MgF 2 or SiO 2 main component 6 layers; a plastic optical article having a multilayered antireflection film having a layer containing SiO 2 as a main component and having a visible light wavelength band of 180 nm or more with a reflectance of 1% or less on the antireflection film surface.
【0026】[2]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d5 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。[2] Optical thickness of the second to sixth layers (n
i × d i , i = 2 to 6, n i : refractive index of the i -th layer, d i =
When the design wavelength is λ 0 (thickness of the i-th layer) (λ 0 =
450-600 nm), 0.10λ 0 <n 2 d 2 <0.15λ 0 0.06λ 0 <n 3 d 3 <0.08λ 0 0.15λ 0 <n 4 d 4 <0.22λ 0 0.20λ 0 <n 5 d 5 <0.26λ 0 0.03λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 A plastic optical article having the multilayer antireflection film according to the above [1].
【0027】[3]第2層から第6層の光学的膜厚(n
i ×di ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =
第i層の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =
450〜600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d5 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする上記[1]の多層反射防止膜を
有するプラスティック製光学物品。[3] Optical thickness of the second to sixth layers (n
i × d i , i = 2 to 6, n i : refractive index of the i -th layer, d i =
When the design wavelength is λ 0 (thickness of the i-th layer) (λ 0 =
450 to 600 nm), 0.05λ 0 <n 2 d 2 <0.07λ 0 0.08λ 0 <n 3 d 3 <0.10λ 0 0.45λ 0 <n 4 d 4 <0.60λ 0 0.15λ 0 <n 5 d 5 <0.22λ 0 0.04λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 A plastic optical article having the multilayer antireflection film as described in [1] above.
【0028】[4]反射防止膜側で測定される表面抵抗
が3KΩ以下である上記[1]〜[3]の多層反射防止
膜を有するプラスティック製光学物品。[4] A plastic optical article having the multilayer antireflection film of the above [1] to [3], whose surface resistance measured on the antireflection film side is 3 KΩ or less.
【0029】上記の[1]から[4]までの構成は、本
発明の特徴として以下の意味を持つ。 前述のように、
一般的には、多層の層数を増やすことによって、反射率
の小さい波長域バンドを広く、しかも反射率を0に近い
値にすることが可能である。本発明では、使用目的に許
容される反射防止膜構成として、5層構成で、しかも構
成化合物すなわち蒸着物質として3ないし4種類からな
る構成を選択した。蒸着物質の種類の数をできるだけ小
さくすることは、とくに膜の形成をフィルムの走行と同
時に連続的に行うときに大きな利点となる。すなわち、
真空蒸着製膜装置内部に原料フィルムをロ−ルに巻いた
巻き出し系と、多層膜蒸着品の巻取系を設け、その間に
一つないし複数の蒸着工程を設ければ、真空系を常圧に
解放することなく多層の製膜が可能となり合理的であ
る。蒸着工程箇所が一つの場合は、二つのロ−ル間で、
フィルムの走行を最大計5回往と復の走行を行えばよ
い。1回の片道走行(往または復)で、2〜3種類の蒸
着物質による2〜3層の成膜が容易なので、1回の往復
で5層の形成も可能である。The above configurations [1] to [4] have the following meanings as features of the present invention. As aforementioned,
In general, by increasing the number of layers in the multilayer, it is possible to widen the wavelength band having a small reflectance and make the reflectance close to zero. In the present invention, as the antireflection film constitution which is acceptable for the purpose of use, a constitution having a five-layer constitution and comprising 3 to 4 kinds of constitutional compounds, that is, vapor deposition substances was selected. Reducing the number of kinds of vapor deposition substances as much as possible is a great advantage particularly when the film formation is continuously performed at the same time as the film is running. That is,
Inside the vacuum vapor deposition film forming apparatus, a winding system for winding a raw material film on a roll and a winding system for a multilayer vapor deposition product are provided, and if one or a plurality of vapor deposition steps are provided between them, the vacuum system can be maintained normally. It is rational because it enables multi-layer film formation without releasing pressure. If there is only one deposition process location, between the two rolls,
The film can be run up to 5 times in total and back. Since it is easy to deposit two to three layers of one or two kinds of vapor deposition substances by one-way travel (forward or backward) once, it is possible to form five layers by one reciprocation.
【0030】導電性と低反射率の両立を、経済的で最も
実用的な手段で達成するために、ITOを主成分とする
層を第4層とすることが本発明の重要な構成要件となっ
ている。単に反射率の面からの設計の場合は、必ずしも
その屈折率(ほぼ2.0)の点からITOが選択される
ものではない。ITOとは、酸化スズと酸化インジュウ
ムの混合物であるが、透明生と導電性の兼ね合いから、
一般には酸化スズの含有割合が5〜20%のものを好ま
しく用いることができる。導電性の点からはITO層の
厚みは厚いほど好ましいが、反射率の点からは、対象と
する波長に対して光学的理論から要求される特定の厚み
(必ずしも一つの値ではないが)近辺でなければならな
い。この2つの要件を具体的に満たす条件として、上記
[2]および[3]の要件が選択できる好ましい要件と
なる。In order to achieve both conductivity and low reflectance by an economical and most practical means, it is an important constituent feature of the present invention that the fourth layer is a layer containing ITO as a main component. Has become. In the case of designing only from the viewpoint of reflectance, ITO is not always selected from the viewpoint of its refractive index (approximately 2.0). ITO is a mixture of tin oxide and indium oxide, but because of the balance between transparency and conductivity,
Generally, a tin oxide content of 5 to 20% can be preferably used. From the viewpoint of conductivity, the thicker the ITO layer is, the more preferable it is, but from the viewpoint of reflectance, the thickness is close to the specific thickness (though not necessarily one) required by the optical theory for the target wavelength. Must. As conditions that specifically satisfy these two requirements, the above requirements [2] and [3] are preferable requirements that can be selected.
【0031】以上の5層からなる反射防止膜を形成する
方法としては、一般に蒸着法といわれる方法、すなわち
スパッタリング法、電子銃加熱方式による蒸着法、イオ
ンプレ−ティング法などを用いることができる。また電
子銃加熱方式による蒸着法の場合など、各層の密着性を
を高めるために蒸着時にイオンビ−ムによって蒸散化合
物をイオン化など活性化させて蒸着することも好ましく
行い得る。As a method for forming the antireflection film consisting of the above five layers, a method generally referred to as an evaporation method, that is, a sputtering method, an evaporation method by an electron gun heating method, an ion plating method and the like can be used. Further, in the case of a vapor deposition method using an electron gun heating system, it is also preferable to activate the vaporized compound by ionization such as ionization during the vapor deposition so as to enhance the adhesion of each layer.
【0032】反射防止膜の製膜においては、その膜厚み
の制御が極めて重要なことはいうまでもないが、実際に
は、製膜時に、オンラインで光学的膜厚み(ni ×
di ,i=2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i
層の厚み)を光学式膜厚計を用いてモニタ−しながら、
刻々の測定値を蒸着条件にフィ−ドバックさせながら製
膜するのが好ましい。Needless to say, it is very important to control the film thickness in forming the antireflection film. However, in reality, the optical film thickness ( ni x
d i , i = 2 to 6, n i : refractive index of i -th layer, d i = i -th
While monitoring the layer thickness) using an optical film thickness meter,
It is preferable to form a film while feeding back measured values every moment under the vapor deposition conditions.
【0033】本発明において、反射防止膜側で測定され
る表面抵抗が3KΩ以下であることが好ましい。これ
は、高い電磁波シールド性を達成するとともに高い帯電
防止性を達成するためである。前者は、健康障害防止
に、また、後者は、埃付着防止に、有効である。本発明
において、ITO層によってこれらが達成される。In the present invention, the surface resistance measured on the antireflection film side is preferably 3 KΩ or less. This is to achieve a high electromagnetic wave shielding property and a high antistatic property. The former is effective for preventing health problems, and the latter is effective for preventing dust adhesion. In the present invention, these are achieved by the ITO layer.
【0034】本発明の最も好ましい態様として、さら
に、第6層の上に、厚みが1nm〜20nmの範囲の、
水の接触角が60deg以上である撥水性の透明層が設
けられている多層反射防止膜を有するプラスティック製
光学物品が挙げられる。この目的は、本発明による製品
が、ディスプレイ表面に装着されて使用される場合に、
本来の使用目的ではない、いろいろな使用環境に置かれ
て、表面が汚れ難くするためである。よごれの原因物質
としては、口紅、コ−ヒ−、マジックインキ、マヨネ−
ズ、…… などを想定して撥水性、撥油性の被膜を設け
ることによってもくてきは達成される。この撥水性、撥
油性の被膜の具体的な製膜方法としては、種々の方法が
有り得るが、例えば、特開平6−122776に示され
るようなフルオロアルキルシランなどの表面エネルギ−
の小さい化合物を、反射防止膜層の最外層表面で化学結
合によって高分子化被膜する方法が挙げられる。汚れ防
止性能の尺度として、水の接触角を用いるのが便利であ
り、水の接触角が60deg以上であるときに、上記の
ような汚れ原因に対して効果があり、より好ましくは、
水の接触角が90deg以上であるときに顕著な汚れ防
止効果が発揮できる。より具体的な被膜方法と効果につ
いては、実施例の項で記載する。As a most preferred embodiment of the present invention, further, on the sixth layer, the thickness is in the range of 1 nm to 20 nm,
An example is a plastic optical article having a multilayer antireflection film provided with a water-repellent transparent layer having a water contact angle of 60 deg or more. The purpose of this is that when the product according to the present invention is used by being mounted on a display surface,
This is because the surface is not easily soiled by being placed in various usage environments that are not originally intended. Substances that cause dirt include lipstick, coffee, magic ink, and mayonnaise.
It is also possible to achieve this by providing a water-repellent and oil-repellent coating on the assumption that There can be various methods for forming the water-repellent and oil-repellent coating film. For example, the surface energy of fluoroalkylsilane as shown in JP-A-6-122776 can be used.
There is a method of polymerizing a compound having a small amount of H 2 by a chemical bond on the outermost surface of the antireflection film layer. It is convenient to use a contact angle of water as a measure of antifouling performance, and when the contact angle of water is 60 deg or more, it is effective against the above-mentioned causes of contamination, and more preferably,
When the water contact angle is 90 deg or more, a remarkable antifouling effect can be exhibited. More specific coating methods and effects will be described in the section of Examples.
【0035】こうして得られた本発明による光学物品
は、目的とする反射防止性能、好ましい導電性、表面に
傷が尽きにくい適度な表面硬度、さらには撥水性の被膜
を設けた場合には高い汚れ防止性を供えているだけでは
なく、膜物性として実用に耐える密着性、耐候性、耐摩
耗性、耐クラック性なども兼ね備えている。The thus-obtained optical article according to the present invention has desired antireflection performance, favorable conductivity, moderate surface hardness that hardly scratches the surface, and high stain resistance when a water-repellent coating is provided. Not only does it provide preventive properties, but it also has the adhesion, weather resistance, abrasion resistance, crack resistance, etc. that can withstand practical use as film physical properties.
【0036】[0036]
【実施例】以下に本発明の態様を実施例をもって説明す
るが、これによって限定されるものではない。EXAMPLES The embodiments of the present invention will be described below with reference to examples, but the invention is not limited thereto.
【0037】実施例全体を通して共通的な製造条件と物
性の測定方法について説明する。Common manufacturing conditions and methods for measuring physical properties will be described throughout the examples.
【0038】ベ−スフィルムには、製膜時にオンライン
で、非晶性ポリエステル系樹脂を0.5〜0.8μmの
厚みに塗布した188μmポリエチレンテレフタレ−ト
(以下PETと略称)フィルムを用いた。ハ−ドコ−ト
層は、PETフィルムの片面に多官能アクリレ−ト(エ
リスリト−ル系、ポリエステル系、ヒドロキシプロピル
系の混合物)、表面平滑活剤(ポリシロキサン)、光開
始剤(フェニルケトン化合物)のトルエン、メチルエチ
ルケトン混合溶媒の溶液を塗布し、乾燥後、UV照射に
より架橋反応を完結させることにより、鉛筆硬度3H
の、厚み3.5μmの層を形成させた。As the base film, a 188 μm polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) film coated with an amorphous polyester resin in a thickness of 0.5 to 0.8 μm online during film formation is used. I was there. The hard coat layer has a polyfunctional acrylate (a mixture of erythritol, polyester, and hydroxypropyl) on one side of the PET film, a surface smoothing agent (polysiloxane), a photoinitiator (phenyl ketone compound). ), A solution of a mixed solvent of toluene and methyl ethyl ketone is applied, dried, and then subjected to UV irradiation to complete the cross-linking reaction to obtain a pencil hardness of 3H.
Of 3.5 μm in thickness was formed.
【0039】反射防止膜の形成は、5層すべてを、EB
(電子銃)加熱を蒸発エネルギ−源とする連続巻取式真
空蒸着装置を用いて、部分的にRFイオンプレ−ティン
グ方式併用で、各層の膜厚みを光学膜厚(n×d)をオ
ンラインで計測制御しながら製膜した。ITOおよびZ
rO2 は真空度約5×10-5Torrの条件設定後、酸素を
導入して酸素分圧1.1 ×10-4Torr、高周波(13.5
6MHz )1.5KWをかけたプラズマ雰囲気の条件で製
膜した。SiO2 は酸素分圧2.0 ×10-4Torr、高周波
(13.56MHz )0.5KWの条件で、MgF2 は酸
素分圧7.0 ×10-5Torr、高周波(13.56MHz )
0.2KWの条件で製膜した。The antireflection film is formed by EB
(Electron gun) Using a continuous roll-up type vacuum vapor deposition apparatus with heating as an evaporation energy source, the film thickness of each layer is calculated online with the optical film thickness (n × d) by partially using the RF ion plating method together. A film was formed while controlling measurement. ITO and Z
For rO 2, after setting the condition that the degree of vacuum is about 5 × 10 −5 Torr, oxygen is introduced and the oxygen partial pressure is 1.1 × 10 −4 Torr and high frequency (13.5
The film was formed under the conditions of a plasma atmosphere of 1.5 MHz (6 MHz). SiO 2 has an oxygen partial pressure of 2.0 × 10 −4 Torr and a high frequency (13.56 MHz) of 0.5 KW, and MgF 2 has an oxygen partial pressure of 7.0 × 10 −5 Torr and a high frequency (13.56 MHz).
A film was formed under the condition of 0.2 kW.
【0040】撥水層の製膜は、(ヘプタデカフロロ−
1,1,2,2−テトラヒドロデシル)−1−トリメト
キシシランを蒸気として、真空装置内に放電電極に10
0Wの高周波プラズマを発生させた環境に導入し、5層
からなる反射防止膜を成膜した上記フィルム表面上に2
0nmの厚みに反応成膜させることによって行った。得
られた物の接触角は102度から110度の範囲であっ
た。The water-repellent layer is formed by (heptadecafluoro-
Using 1,1,2,2-tetrahydrodecyl) -1-trimethoxysilane as a vapor, 10
Introduced into an environment where 0 W high-frequency plasma was generated, 2 on the surface of the above film on which an antireflection film consisting of 5 layers was formed.
It was performed by reactive film formation to a thickness of 0 nm. The contact angle of the obtained product was in the range of 102 ° to 110 °.
【0041】[実施例1]188μmPETフィルムの
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。Example 1 A continuous long film having a 4 μm hard coat layer on one surface of a 188 μm PET film was coated with an antireflection film consisting of the following 5 layers from the second layer to the sixth layer. The film was formed by the above method.
【0042】 構成物質 光学膜厚(n×d) 第2層 ITO 0.061λ(λ=520nm:設定波長) 第3層 SiO2 0.089λ 第4層 ITO 0.539λ 第5層 MgF2 0.192λ 第6層 SiO2 0.050λ 得られた物の反射防止膜側の表面硬度は、鉛筆硬度で3
Hであった。またこのものの反射防止膜を施さない面で
の反射が観測されないように完全黒色処理を施して、反
射防止膜側の可視光線領域における反射率を測定した結
果、反射率が1%以下である可視光線領域バンドは、4
20nmから710nmの290nmであった。Constituent Material Optical Thickness (n × d) Second Layer ITO 0.061λ (λ = 520 nm: Setting Wavelength) Third Layer SiO 2 0.089λ Fourth Layer ITO 0.539λ Fifth Layer MgF 2 0. 192λ 6th layer SiO 2 0.050λ The surface hardness of the obtained product on the antireflection film side is 3 in terms of pencil hardness.
H. In addition, as a result of measuring the reflectance in the visible light region on the side of the antireflection film by subjecting it to a completely black treatment so that reflection on the surface without the antireflection film is observed, it was confirmed that the reflectance was 1% or less. Ray region band is 4
It was 290 nm from 20 nm to 710 nm.
【0043】[実施例2]188μmPETフィルムの
片面に、4μmのハ−ドコ−ト層を設けた連続長尺フィ
ルムに、第2層から第6層まで、下記5層からなる反射
防止膜を上記の方法で成膜した。Example 2 A continuous long film having a hard coat layer of 4 μm provided on one side of a 188 μm PET film was coated with an antireflection film consisting of the following 5 layers from the second layer to the sixth layer. The film was formed by the above method.
【0044】 構成物質 光学膜厚(n×d) 第3層 MgF2 0.067λ(λ=520nm:設定波長) 第4層 ITO 0.183λ 第5層 MgF2 0.231λ 第6層 SiO2 0.038λ 得られた物の反射防止膜側の表面硬度は、鉛筆硬度で3
Hであった。さらに、この上に上記の方法で、厚み20
nmの防汚姓の撥水層を成膜した。このものの反射防止
膜を施さない面での反射が観測されないように完全黒色
処理を施して、反射防止膜側の可視光線領域における反
射率を測定した結果、反射率が1%以下である可視光線
領域バンドは、430nmから680nmの250nm
であった。表面の接触角は107度であり、マジックペ
ンのインクは極めて乗りにくく、わずかに付着した部分
も薄紙で軽く拭くことで容易にとることができた。Constituents Optical film thickness (n × d) Third layer MgF 2 0.067λ (λ = 520 nm: setting wavelength) Fourth layer ITO 0.183λ Fifth layer MgF 2 0.231λ Sixth layer SiO 2 0 0.038λ The surface hardness of the obtained product on the antireflection film side was 3 in terms of pencil hardness.
H. Further, a thickness of 20
A water-repellent layer having an antifouling property of nm was formed. This product was subjected to complete black treatment so that reflection on the surface without the antireflection film was observed, and the reflectance in the visible light region on the antireflection film side was measured. Region band is 250 nm from 430 nm to 680 nm
Met. The contact angle of the surface was 107 degrees, and the ink of the magic pen was extremely hard to get on, and even the slightly attached portion could be easily removed by wiping it gently with a thin paper.
【0045】[0045]
【発明の効果】以上詳述したように、本発明による光学
物品であるフィルムは、特許請求の範囲を構成を持つこ
とにより、つぎのような優れた効果を発揮することがで
きる。すなわち、各種ディスプレイに装着したときに、
背後から入射する光の反射を極めて少なくすることによ
って、ディスプレイ使用者の目の疲労を防止し、しかも
表面に傷が尽きにくく、しかも手の汗や生活用品による
表面汚れが付きにくく、拭き取りやすい特徴を持つ。ま
た本発明の物品は、フィルム製品であるために、ガラス
など直接には反射防止処理を安価に施しにくい各種ディ
スプレイに装着使用することができ、しかも5層膜構成
という、性能と製造のための費用のバランスの取れた製
品であり、これを使うことによる産業面からの経済効果
の大きい製品である。As described in detail above, the film, which is the optical article according to the present invention, can exhibit the following excellent effects by having the constitutions of the claims. That is, when attached to various displays,
By minimizing the reflection of light incident from the back, the eyes of the display user are prevented from being tired, and the surface is less likely to be scratched. have. Further, since the article of the present invention is a film product, it can be mounted and used on various displays such as glass which are difficult to be directly subjected to antireflection treatment at low cost. It is a product with a well-balanced cost, and the use of this product has a great economic effect from an industrial perspective.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 5/00 PPQ C09D 5/00 PPQ G02B 1/04 G02B 1/04 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C09D 5/00 PPQ C09D 5/00 PPQ G02B 1/04 G02B 1/04
Claims (7)
材の片面または両面の表層に、該基材層側から表面に向
かって順に、 第1層;厚み1μm〜15μmの耐擦過性を有するハ−
ドコ−ト層 第2層;ZrO2 またはITOを主成分とする層 第3層;MgF2 またはSiO2 を主成分とする層 第4層;ITOを主成分とする層 第5層;MgF2 を主成分とする層 第6層;SiO2 を主成分とする層 を設けてなり、反射防止膜面の反射率が1%以下である
可視光線波長域バンドが180nm以上である多層反射
防止膜を有するプラスティック製光学物品。1. A surface layer on one or both sides of a plastic film or sheet base material, in the order from the base material layer side to the surface, a first layer; a rub having a scratch resistance of 1 μm to 15 μm.
Docto layer 2nd layer; ZrO 2 or ITO-based layer 3rd layer; MgF 2 or SiO 2 -based layer 4th layer; ITO-based layer 5th layer; MgF 2 A layer containing SiO 2 as a main component; a multi-layer antireflection film having a layer containing SiO 2 as a main component and having a visible light wavelength band of 180 nm or more with a reflectance of 1% or less on the antireflection film surface. A plastic optical article having:
i ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i層
の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =450 〜
600 nm)、 0.10λ0 <n2 d2 <0.15λ0 0.06λ0 <n3 d3 <0.08λ0 0.15λ0 <n4 d4 <0.22λ0 0.20λ0 <n5 d4 <0.26λ0 0.03λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする請求項1記載の多層反射防止膜
を有するプラスティック製光学物品。2. The optical thickness (n i × d) of the second to sixth layers
i, i = 2 to 6, n i: refractive index of the i-th layer, the thickness of d i = the i layer), when the design wavelength is λ 0 (λ 0 = 450 ~
600 nm), 0.10λ 0 <n 2 d 2 <0.15λ 0 0.06λ 0 <n 3 d 3 <0.08λ 0 0.15λ 0 <n 4 d 4 <0.22λ 0 0.20λ 0 <n 5 d 4 <0.26 The plastic optical article having a multilayer antireflection film according to claim 1, wherein λ 0 0.03λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 .
i ,i =2 〜6 ,ni :第i層の屈折率、di =第i層
の厚み)が、設計波長をλ0 としたとき(λ0 =450 〜
600 nm)、 0.05λ0 <n2 d2 <0.07λ0 0.08λ0 <n3 d3 <0.10λ0 0.45λ0 <n4 d4 <0.60λ0 0.15λ0 <n5 d4 <0.22λ0 0.04λ0 <n6 d6 <0.06λ0 であることを特徴とする請求項1記載の多層反射防止膜
を有するプラスティック製光学物品。3. The optical thickness (n i × d) of the second to sixth layers
i, i = 2 to 6, n i: refractive index of the i-th layer, the thickness of d i = the i layer), when the design wavelength is λ 0 (λ 0 = 450 ~
600 nm), 0.05λ 0 <n 2 d 2 <0.07λ 0 0.08λ 0 <n 3 d 3 <0.10λ 0 0.45λ 0 <n 4 d 4 <0.60λ 0 0.15λ 0 <n 5 d 4 <0.22 The plastic optical article having a multilayer antireflection film according to claim 1, wherein λ 0 0.04λ 0 <n 6 d 6 <0.06λ 0 .
以上の硬度を有する層であることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラス
ティック製光学物品。4. The first hard coat layer has a pencil hardness of 2H.
A layer having the above hardness, characterized in that
4. A plastic optical article having the multilayer antireflection film according to any one of 3 to 3.
Ω以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか
に記載の多層反射防止膜を有するプラスティック製光学
物品。5. The surface resistance measured on the antireflection film side is 3K.
It is less than or equal to Ω, and the plastic optical article having the multilayer antireflection film according to any one of claims 1 to 4.
ポリエステル系樹脂、系樹脂、メタクリル系樹脂、弗素
系樹脂、トリアセテ−ト系樹脂の内の一つまたは複合体
からなるフィルムまたはシ−トであることを特徴とする
請求項1〜5のいずれかに記載の多層反射防止膜を有す
るプラスティック製光学物品。6. A plastic film or sheet,
6. A film or sheet comprising one of a polyester resin, a resin, a methacrylic resin, a fluorine resin and a triacetate resin, or a composite thereof. An optical article made of plastic having the multilayer antireflection film as described in 1.
nmの範囲の、水の接触角が60deg以上である撥水
性の透明層が設けられていることを特徴とする請求項1
〜6のいずれかに記載の多層反射防止膜を有するプラス
ティック製光学物品。7. A thickness of 1 nm to 20 is further formed on the sixth layer.
2. A water-repellent transparent layer having a water contact angle of 60 deg or more in the range of nm is provided.
A plastic optical article having the multilayer antireflection film as described in any one of 1 to 6.
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