KR930020241A - 홀로그래픽 석판 인쇄용의 정함 마크 제조 방법 및 장치 - Google Patents
홀로그래픽 석판 인쇄용의 정함 마크 제조 방법 및 장치 Download PDFInfo
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Abstract
정합 마크가 정합 시스템에 의해 용이하게 검출될 수 있도록 석판 인쇄 공정에서 홀로그래픽 레코딩 층에 정합마크와 전반사 홀로그램을 형성하는 방법은 전반사 홀로그램으로부터 재구성될 패턴을 한정하는 마스크에 정합마크를 한정하는 단계와, 전반사 홀로그램 레코딩 시스템에 상기 홀로그래픽 레코딩 층과 상기 마스크를 배치하는 단계와, 홀로그래픽 레코딩 층에 마스크 패턴의 전반사 홀로그램을 형성시키는 단계와, 제1목적파로 마스크를 조사함으로써 홀로그래픽 레코딩 층에 마스크내의 정합 마크를 전사하는 단계를 포함하며, 마스크내의 정합 마크의 형상은 홀로그래픽 레코딩 층에 기록된 정합 마크가 상이한 굴절율 및 /또는 층 두께의 명확한 영역인 충분한 크기를 갖는다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 전반사 홀로그래피의 주요 원리도.
제4도는 홀로그래픽 레코딩 층에 정합 마크와 전반사 홀로그램을 형성시키기 위한 장치의 개략도.
Claims (5)
- 정합마크가 정합 시스템에 의해 용이하게 검출될 수 있도록 석판 인쇄공정에서 홀로그래픽 레코딩 층에 정합 마크와 전반사 홀로그램을 형성하는 방법에 있어서, 가)전반사 홀로그램으로부터 재구성될 패턴을 한정하는 마스크에 정합 마크를 제공하는 단계, 나) 전반사 홀로그램 레코딩 시스템을 제공하는 단계, 다) 전반사 홀로그램 레코딩 시스템에 홀로그래픽 레코딩 층과 마스크를 배치시키는 단계, 라) 제1목적파로 마스크를 조사하고, 참조파로 홀로그래픽 레코딩 층을 조사함으로써 마스크에 패턴의 전반사 홀로그램을 형성시키는 단계, 마) 제1목적파 또는 제2목적파로 마스크내의 마크를 조사함으로써 홀로그래픽 레코딩 층에 마스크내의 마크를 전사하는 단계를 포함하며, 마스크내의 정합 마크의 형상은 홀로그래픽 레코딩 층에 기록된 정합마크가 상이한 굴절율 및/또는 층 두께의 명확한 영역인 충분한 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 단계 마)는 단계 라)에 선행하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 단계 마)와 라)는 동시에 실행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항에 있어서, 마스크내의 정합 마크를 홀로그래픽 레코딩 층에 전사하는 제1목적파 또는 제2목적파는 홀로그래팩 레코딩 층에 형성된 정합 마크가 전반사 홀로그램으로부터 재구성될 패턴에 대해 정확하게 정합되게 하기 위하여 정확하게 결정된 각도, 바람직하게는 수직 입사의 각도도 마스크를 조사하는 것을 특징으로 하는 방법.
- 정합 마크가 정합 시스템에 의해 용이하게 검출될 수 있도록 석판 인쇄공정에서 홀로그래픽 레코딩 층에 정합 마크와 전반사 홀로그램을 형성하는 장치에 있어서, 상기 전반사 홀로그램으로 부터 재구성될 패턴을 한정하는 마스크내의 정합 마크와, 전반사 홀로그램 레코딩 시스템을 포함하며, 마스크내의 마크의 형상은 홀로그래픽 레코딩 층에 기록된 정한 마크가 상이한 굴절율 및/또는 두께의 명확한 영역인 충분한 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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