KR930018763A - 코드리드용 패턴 및 그 코드리드용 패턴의 촬상장치 - Google Patents
코드리드용 패턴 및 그 코드리드용 패턴의 촬상장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR930018763A KR930018763A KR1019930001902A KR930001902A KR930018763A KR 930018763 A KR930018763 A KR 930018763A KR 1019930001902 A KR1019930001902 A KR 1019930001902A KR 930001902 A KR930001902 A KR 930001902A KR 930018763 A KR930018763 A KR 930018763A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- light
- cord
- lead pattern
- pattern
- imaging
- Prior art date
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/10—Image acquisition
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V10/00—Arrangements for image or video recognition or understanding
- G06V10/10—Image acquisition
- G06V10/12—Details of acquisition arrangements; Constructional details thereof
- G06V10/14—Optical characteristics of the device performing the acquisition or on the illumination arrangements
- G06V10/145—Illumination specially adapted for pattern recognition, e.g. using gratings
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Artificial Intelligence (AREA)
- Computer Vision & Pattern Recognition (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Closed-Circuit Television Systems (AREA)
Abstract
반도체웨이퍼 등의 물체상에 정보를 나타내기 위해 형성된 코드리드용 패턴 및 그 리드용 패턴의 촬상장치에 관한 것으로써, 반도체 웨이퍼상의 문자 등을 포함하는 코드의 리드성능의 향상을 도모하기 위해, 일정한 피치의 반복형상으로 코드리드용 패턴(5)를 구성하고, 코드리드용 패턴(5)의 코드를 촬상하는 경우에 패턴(5)로 부터의 반사광을 공간주파수필터(7)로 필터링하고, 이 공간주파수필터(7)에 의해 정반사광을 차광해서 회절광만을 관찰한다.
이러한 장치를 이용하는 것에 의해, 코드의 리드성능이 향상된다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 실시예1에 의한 코드리드용 패턴을 도시한 상면도.
제2도는 본 발명의 실시예2에 의한 코드리드용 패턴을 도시한 상면도.
제3도는 제2도의 A-A'단면도.
Claims (12)
- 공간주파수필터링방식을 사용해서 촬상하는 코드리드용 패턴에 있어서, 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 마련한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴.
- 공간주파수필터링방식을 사용해서 촬상하는 코드리드용 패턴에 있어서, 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 입적으로 마련한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴.
- 공간주파수필터링방식을 사용해서 촬상하는 코드리드용 패턴에 있어서, 물체표면상의 하나의 영역내에 여러개의 다른 종류의 일정한 피치의 반복형상을 구성한 패턴을 마련한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴.
- 공간주파수필터링방식을 사용해서 촬상하는 코드리드용 패턴에 있어서, 물체표면상의 하나의 영역내에 여러개의 다른 종류의 일정한 피치의 반복형상을 구성한 패턴을 입체적으로 마련한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 마련한 코트리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면 근방에서 공간주파수필터링방식에 의해 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 입체적으로 마련한 코트리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면근방에서 공간주파수필터링방식에 의해 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 물체표면상에 하나의 영역내에 여러개의 다른 종류의 일정한 피치의 반복형상을 구성한 패턴을 마련한 코드리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면 근방에서 상기 각 패턴에 다른 공간주파수필터링방식에 의해 상기 조명된 여러개의 패턴으로 부터의 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 각 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 물체표면상에 하나의 영역내에 여러개의 다른 종류의 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 입체적으로 마련한 코드링용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면근방에서 상기 각 패턴에 따른 공간주파수필터링방식에 의해 상기조명된 여러개의 패턴으로 부터의 각 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 각 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 마련한 코드리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 +n차 또는 -n차의 회절광(n=1, 2, 3,...중 어느 것인가 1개)의 광로상 또는 광로부근에서, 또한 상기 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광이 수직 또는 수직에 가까운 각도로 입사하도록 배치된 결상렌즈, 상기 결상렌즈의 뒤쪽의 초점면근방에서 공간주파수필터링 방식에 의해 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광중 상기 결상렌즈의 중앙부 또는 중앙부 부근에 수직 또는 수직에 가까운 각도로 입사한 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 입체적으로 마련한 코드리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 +n차 또는 -n차의 회절광(n=1, 2, 3,...중 어느 것인가 1개)의 광로상 또는 광로부근에서, 또한 상기 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광이 수직 또는 수직에 가까운 각도로 입사하도록 배치된 결상렌즈, 상기 결상렌즈의 뒤쪽의 초점면근방에서 공간주파수필터링방식에 의해 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광중 상기 결상렌즈의 중앙부 또는 중앙부 부근에 수직 또는 수직에 가까운 각도로 입사한 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 투과수단 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 마련한 코드리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 조명수단에 의한 평행광의 파장을, 상기 코드 리드용 패턴의 일정한 피치를 p, 상기 결상수단의 초점거리를 f로 해서 상기 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광의 광축중심에서 n××f/p(n=1,2,3,...)만큼 떨어진 위치에 반사광을 통과시키는 열린구멍부를 마련하고, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면근방에서 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 공간주파수필터 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.
- 코드를 붙인 물체표면상에 일정한 피치의 반복형상으로 구성한 패턴을 입체적으로 마련한 코드리드용 패턴을 평행광에 의해서 조명하는 조명수단, 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광을 결상하는 결상수단, 상기 조명수단에 의한 평행광의 파장을, 상기 코드 리드용 패턴의 일정한 피치를 p, 상기 결상수단의 초점거리를 f로 해서 상기 코드리드용 패턴으로 부터의 반사광의 광축중심에서 n××f/p(n=1,2,3,...)만큼 떨어진 위치에 반사광을 통과시키는 열린구멍부를 마련하고, 상기 결상수단의 뒤쪽의 초점면근방에서 상기 조명된 코드리드용 패턴으로 부터의 회절광을 투과시키며, 또한 정반사광을 차광하는 공간주파수필터 및 상기 투과된 회절광을 수광하는 수광수단을 구비한 것을 특징으로 하는 코드리드용 패턴의 촬상장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP92-29582 | 1992-02-17 | ||
JP2958292 | 1992-02-17 | ||
JP27687192 | 1992-10-15 | ||
JP5019483A JP2911700B2 (ja) | 1992-02-17 | 1993-01-13 | コード読み取り用パターンの撮像装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR930018763A true KR930018763A (ko) | 1993-09-22 |
KR960001104B1 KR960001104B1 (en) | 1996-01-18 |
Family
ID=27282639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR93001902A KR960001104B1 (en) | 1992-02-17 | 1993-02-12 | Code reading pattern and the image pick-up device for the |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5481095A (ko) |
JP (1) | JP2911700B2 (ko) |
KR (1) | KR960001104B1 (ko) |
DE (1) | DE4304677C2 (ko) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09231303A (ja) * | 1996-02-27 | 1997-09-05 | Sony Corp | バーコード読み取り用複合光学装置 |
JP3824357B2 (ja) * | 1996-09-27 | 2006-09-20 | 沖電気工業株式会社 | 光半導体装置 |
GB2326003B (en) * | 1997-06-07 | 2001-02-28 | Aquasol Ltd | Coding systems |
US6760472B1 (en) * | 1998-12-14 | 2004-07-06 | Hitachi, Ltd. | Identification method for an article using crystal defects |
US7007855B1 (en) * | 2000-03-17 | 2006-03-07 | International Business Machines Corporation | Wafer identification mark |
US6766054B1 (en) * | 2000-08-14 | 2004-07-20 | International Business Machines Corporation | Segmentation of an object from a background in digital photography |
US6573523B1 (en) * | 2001-12-12 | 2003-06-03 | Lsi Logic Corporation | Substrate surface scanning |
JP4547578B2 (ja) | 2002-07-08 | 2010-09-22 | ベリテック インコーポレーテッド | エンコードされた情報を有する記号を読み取るための方法 |
JP2006127025A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-18 | Design Barcode Kk | デザインバーコード |
JP2008065410A (ja) * | 2006-09-05 | 2008-03-21 | Toppan Printing Co Ltd | 情報認証方法、情報認証装置、及び情報記録媒体 |
US8217334B1 (en) * | 2008-12-24 | 2012-07-10 | Cypress Semiconductor Corporation | Optical navigation sensor including a spatial frequency filter |
CN104838391B (zh) | 2012-10-31 | 2019-04-09 | 恩图鲁斯特咨询卡有限公司 | 机器视觉验证 |
US9033237B1 (en) * | 2013-10-26 | 2015-05-19 | Symbol Technologies, Inc. | Decoding DPM indicia with polarized illumination |
JP6843778B2 (ja) | 2018-01-15 | 2021-03-17 | 株式会社東芝 | 物体の表面検査装置 |
USD922777S1 (en) * | 2019-08-21 | 2021-06-22 | Gracie Benedith | Patch |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3572900A (en) * | 1969-04-29 | 1971-03-30 | Technical Operations Inc | Color tv film reproduction system compatible with diffraction process color projection systems |
DE2101566C3 (de) * | 1971-01-14 | 1975-08-07 | Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart | Visuell und maschinell lesbare Zeichen, Verfahren zu deren Erkennung bzw. Herstellung und Vorrichtungen zur Durchführung dieses Verfahrens |
US4011435A (en) * | 1974-02-01 | 1977-03-08 | Ncr Corporation | Optical indicia marking and detection system |
CH653161A5 (de) * | 1981-10-27 | 1985-12-13 | Landis & Gyr Ag | Dokument mit einem sicherheitsmerkmal und verfahren zur echtheitspruefung des dokumentes. |
CH659433A5 (de) * | 1982-10-04 | 1987-01-30 | Landis & Gyr Ag | Dokument mit einem beugungsoptischen sicherheitselement. |
US4511616A (en) * | 1983-02-14 | 1985-04-16 | Dennison Mfg. Company | Anticounterfeit magnetic metallized labels |
JPS61131438A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-19 | Canon Inc | 露光ネ−ミング装置 |
DE3844704C2 (ko) * | 1987-09-30 | 1992-06-17 | Kabushiki Kaisha Okuma Tekkosho, Nagoya, Aichi, Jp | |
DE3742485A1 (de) * | 1987-12-15 | 1989-06-29 | Sick Optik Elektronik Erwin | Optische abtastvorrichtung |
ATE69407T1 (de) * | 1988-03-03 | 1991-11-15 | Landis & Gyr Betriebs Ag | Dokument. |
US5138604A (en) * | 1988-04-12 | 1992-08-11 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Optical recording method having two degrees of reflectivity and a diffraction grating or hologram formed integrally thereon and process for making it |
EP0360969B1 (de) * | 1988-09-30 | 1993-12-15 | Landis & Gyr Business Support AG | Beugungselement |
DE58909370D1 (de) * | 1988-09-30 | 1995-09-07 | Landis & Gry Tech Innovat Ag | Strichkodefeld und Strichkodeleser. |
JPH02198128A (ja) * | 1989-01-27 | 1990-08-06 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | 半導体ウェハのid情報記録/読み取り方式 |
US5291006A (en) * | 1989-08-11 | 1994-03-01 | Nhk Spring Co., Ltd. | Authenticity identifying system for information storage cards |
US5073710A (en) * | 1989-09-21 | 1991-12-17 | Copal Company Limited | Optical displacement detector including a displacement member's surface having a diffractive pattern and a holographic lens pattern |
US5182610A (en) * | 1990-04-19 | 1993-01-26 | Sortec Corporation | Position detecting method and device therefor as well as aligning device |
US5251937A (en) * | 1990-09-26 | 1993-10-12 | Gao Gesellschaft Fuer Automation Und Organisation Mbh | Multilayer data carrier and a method for producing it |
JPH076923B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1995-01-30 | 三菱電機株式会社 | 空間周波数フィルタ、その空間周波数フィルタの製造方法及びパターン欠陥検査装置 |
-
1993
- 1993-01-13 JP JP5019483A patent/JP2911700B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-12 KR KR93001902A patent/KR960001104B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1993-02-16 DE DE4304677A patent/DE4304677C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-08-22 US US08/293,741 patent/US5481095A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR960001104B1 (en) | 1996-01-18 |
JP2911700B2 (ja) | 1999-06-23 |
US5481095A (en) | 1996-01-02 |
JPH06180774A (ja) | 1994-06-28 |
DE4304677A1 (en) | 1993-08-19 |
DE4304677C2 (de) | 1996-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR930018763A (ko) | 코드리드용 패턴 및 그 코드리드용 패턴의 촬상장치 | |
KR100246268B1 (ko) | 패턴화된기판의광학검사용장치 | |
KR920002254B1 (ko) | 광학식 마우스 | |
US7715016B2 (en) | Image invariant optical speckle capturing device and method | |
WO1995009358B1 (en) | Inspection system with in-lens, off-axis illuminator | |
CN110166702B (zh) | 捕获图像数据的相机和方法 | |
KR20010015544A (ko) | 면검사장치 및 방법 | |
US20230028172A1 (en) | Device for optical imaging of features of a hand | |
US5442189A (en) | Apparatus for inspecting defects and foreign substances having a spot illuminated focusing system | |
US4875778A (en) | Lead inspection system for surface-mounted circuit packages | |
KR20190077440A (ko) | 검사 장치 | |
KR20020093507A (ko) | 부품 검사 장치 | |
JPS62179602A (ja) | 部品位置認識方法及び装置 | |
JPH1184258A (ja) | 照明装置 | |
JP2921074B2 (ja) | 基板の観察装置 | |
JPS63113518A (ja) | 光センサ装置および外観検査装置 | |
US6168296B1 (en) | Lighting unit for reading marks | |
CN103335279A (zh) | 发光装置和图像传感器 | |
US5668656A (en) | Light supplying optical device | |
JPH0726834B2 (ja) | 電子部品のリード形状検査用光学装置およびこれを用いた電子部品のリード形状検査装置 | |
JPH0589276A (ja) | 凹凸パターン読取装置 | |
JPS60250424A (ja) | 光学式マウスのマウスパツド | |
DE20004826U1 (de) | Vorrichtung zur optischen Prüfung einer Münze | |
SU1695186A1 (ru) | Теневое устройство | |
US4895437A (en) | Illumination method and apparatus |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20020110 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |