KR930017581A - 혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물 - Google Patents

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야스히코 사사키
사카에 무라타
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다나베세이야쿠가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 5-(2-클로로벤질)-4,5,6,7-테트라하이드로티에노〔3,2-c〕피리딘 또는 약제학적으로 허용되는이의 염과 하기 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염을 포함하는, 혈소판응집 억제용 약제학적 조성물을 기술하였다.
상기식에서, R1은 저급 알킬 그룹 또는 저급 알콕시 그룹이며, R2는 저급 알카노일 그룹이고, R3및 R4는 저급 알킬 그룹이며, R5는 수소원자, 저급 알킬 그룹 또는 할로겐 원자이다.

Description

혈소판 응집 억제용 약제학적 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (9)

  1. 5-(2-클로로벤질)-4,5,6,7,-테크라하이드로티에노〔3,2-c〕피리딘 또는 또는 약제학적으로 허용되는 허용되는 이의 염과 하기 일반식(Ⅰ의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 엽을 포함함을 특징으로 하는, 혈소판 응집 억제용 약학적 조성물.
    상기식에서,R1은 저급 알킬 그룹 또는 저급 알콕시 그룹이며, R2는 저급 알카노일 그룹이고, R3및R4는 저급 알킬 그룹이며, R5는 수소원자, 저급 알킬 그룹 또는 할로겐 원자이다.
  2. 제1항에 있어서, R1이 메틸 그룹 또는 메톡시 그룹이며, R2가 아세틸 그룹이고, R3및R4가 메틸그룹이며,R5가 메틸그룹인 수소원자, 메틸 그룹 또는 염소원자인 조성물.
  3. 제1항에 있어서, R1이 메틸 그룹이며, R2가 아세틸 그룹이고, R3및 R4가 메틸 그룹이며, R5가 메틸그룹인 조성물.
  4. 제1항에 있어서, R1이 메틸 그룹이며, R2가 아세틸 그룹이고, R3및 R4가 메틸 그룹이며,R5가 수소원자 또는 염소원자인 조성물.
  5. 제3항에 있어서, 1,5-벤조티아제핀 유도체가 (-)-시스-이성체인 조성물.
  6. 제4항에 있어서, 1,5-벤조티아제핀 유도체가 (+)-시스-이성체인 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염에 대한 5-(2-클로로벤질)-4,5,6,7-테트라하이드로티에노〔3,2-c〕피리딘 또는 약제학적으로 허용되는 이의 엽의 중량비가 0.1내지 40:1인 조성불.
  8. 제1항에 있어서, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염에 대한 5-(2-클로로벤질)-4,5,6,7-테트라하이드로티에노〔3,2-c〕피리딘 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염의 중량비가 0.3내지 10:1인 조성물.
  9. 제1항에 있어서, 5-(2-클로로벤질)-4,5,6,7-테트라 하이드로티에노〔3,2-c〕피리딘 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염의 1일 투여량이 20내지 200㎎이며, 일반식(Ⅰ)의 1,5-벤조티아제핀 유도체 또는 약제학적으로 허용되는 이의 염의 1일 투여량이 5내지 200㎎인 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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