KR930008192A - 반응용액에 투입한 판, 특히 열간 압연판의 가장자리부의 산세척 방법 및 장치 - Google Patents

반응용액에 투입한 판, 특히 열간 압연판의 가장자리부의 산세척 방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

초음파 발생기(4)의 하단부(5)가, 산세척되는 판(3)이 투입된 반응용액(2)에 잠겨있고, 상기 하단부(5)에 판(3)의 가장자리부의 양측에 각각 두 복면을 포함하는 평탄한 방출면이 판과 평행하게 구성되는 두개의 파빌리온전극(6)(7)을 구비함으로써, 두 전극(6)(7)이 역상으로 진동하고, 진동의 진폭이 충분히 크다면 가장자리부의 면(3a)(3b)과 전극사이의 공간에 있는 용액에 공동이 생성되어 가장자리부의 스케일제거율을 상당히 향상시키도록 하는 산세척방법 및 장치.

Description

반응응액에 투입한 판, 특히 열간 압연판의 가장자리부의 산세척 방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따른 판 가장자리부의 산세척 장치의 실시형태를 나타내는 간략도,
제2도는 방출 파빌리온전극(pavilion element)에 전송되어 용액에 전파된, 특히 파빌리온 전극이 위치하는 북면에서의 진동의 진폭변화도,
제3도는 본 발명에 따른 장치의 파빌리온 전극의 요부 단면도.

Claims (8)

  1. 반응용액에 작용하는 초음파 방출수단과, 상기 수단이 방출면을 구비하는, 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 방법에 있어서, 산세척되는 가장자리부과 평행한 적어도 한 평면에서, 상기 가장자리부와 상기 평면사이의 공간에 있는 용액에 공동을 생성하기 위하여 충분한 출력으로 초음파를 방출하도록 형성됨을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 방법.
  2. 제1항에 있어서, 가장자리부와 평행하고, 상기 가장자리부의 양측에 각각 위치하고 있는 두 북면에서 초음파가 방출됨을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세적 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 반응용액의 공통을 얻기 위하여 방출된 초음과가 약 10 내지 50KHz의 주파수를 가지며, 방출력이 방출면의 평방미터당 최소 400와트가 됨을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 방법.
  4. 반응용액에 파장을 갖는 초음파 방출수단과, 상기 수단이 판의 가장자리부의 윗쪽에 상기 판과 평행하게 배치된 평탄한 방출면을 가지는 적어도 하나의 방출 파비릴온 전극을 구비함을 특징으로 하는, 제1항 내지 제3항의 어느 하나에 따른 방법을 수행하기 위한 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 장치.
  5. 제4항에 있어서, 방출 파빌리온 전극들이 판의 가장자리부의 양쪽에 위치하고, 상기 가장자리부의 면과 각각 대향하는 두 복면에 방출면을 구비하도록 형성됨을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 장치.
  6. 제4항 또는 제5항에 있어서, 파빌리온 전극 또는 전극들이 원형 또는 반원형의 외관으로 형성됨을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 장치.
  7. 제4항에서 제6항의 어느 한 항에 있어서, 파빌리온 전극 또는 전극들이 판을 향하고 있는 면에 상기 전극 또는 전극들의 가장자리부와 평행하게 정렬되고, λ/2와 같은 피치로 떨어져 위치하는 여타의 두께들을 구비함을 특징으로 하는 반응용액에 투입된 판의 가장자리부의 산세척 장치.
  8. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920018026A 1991-10-07 1992-10-01 반응 용액에 투입된 열간 압연판의 가장자리부의 산세척 방법 및 장치 KR100250402B1 (ko)

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