KR930007614B1 - Vopor cleaning method - Google Patents

Vopor cleaning method Download PDF

Info

Publication number
KR930007614B1
KR930007614B1 KR1019890016488A KR890016488A KR930007614B1 KR 930007614 B1 KR930007614 B1 KR 930007614B1 KR 1019890016488 A KR1019890016488 A KR 1019890016488A KR 890016488 A KR890016488 A KR 890016488A KR 930007614 B1 KR930007614 B1 KR 930007614B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
cleaning
medium
steam
chamber
drying
Prior art date
Application number
KR1019890016488A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR900007493A (en
Inventor
유우조오 시부야
료오조오 나까무라
Original Assignee
캐논 가부시끼가이샤
야마지 게이조오
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 캐논 가부시끼가이샤, 야마지 게이조오 filed Critical 캐논 가부시끼가이샤
Publication of KR900007493A publication Critical patent/KR900007493A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR930007614B1 publication Critical patent/KR930007614B1/en

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B5/00—Cleaning by methods involving the use of air flow or gas flow
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017—Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

내용 없음.No content.

Description

증기청소 및 건조방법과 장치Steam cleaning and drying method and device

제1도는 본 발명의 실시예에 따라서 증기청소 및 건조장치의 주요부분의 개략적인 선도.1 is a schematic diagram of the main parts of a steam cleaning and drying apparatus according to an embodiment of the invention.

제2도는 청소되어야 하는 물품의 수평으로 이송될 수 있는 본 발명의 다른 실시예에 따라서 증기청소 및 건조장치의 주요부분의 개략도.2 is a schematic illustration of the main parts of a steam cleaning and drying apparatus according to another embodiment of the invention, which can be transported horizontally of the article to be cleaned.

제3도는 본 발명의 더 다른 실시예에 따라서 증기청소 및 건조장치의 주요부분의 개략적인 선도.3 is a schematic diagram of the main parts of a steam cleaning and drying apparatus according to another embodiment of the invention.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings

9' : 증기챔버 10 : 증기유입튜우브9 ': steam chamber 10: steam inlet tube

13 : 청소 및 건조부재 20 : 물품13: cleaning and drying member 20: article

41 : 저장부재 60 : 매체 공급부재41: storage member 60: medium supply member

70 : 증기발생부재 80 : 증기유입부재70: steam generating member 80: steam inlet member

본 발명은, 예를들면 반도체 장치 제조과정에서 사용가능한 물품의 미세한 청소장치와 증기청소 및 건조방법에 관한 것이다.The present invention relates to, for example, a fine cleaning apparatus for steam and a method for cleaning and drying an article which can be used in the manufacture of semiconductor devices.

종래에, 반도체장치 제조과정 또는 다른 과정에서 사용되는 미세한 청소장치는, 예를들면 포토마스크, 십자선(reticle) 또는 반도체 웨이퍼와 같은 청소되어야 하는 물품을 청소 및 건조하기 위한 과정 장소, 그리고 고휘발성을 가진 매체 저장용 저장장소를 포함하고 있다.Conventionally, microscopic cleaning devices used in semiconductor device manufacturing or other processes include, for example, process locations for cleaning and drying items to be cleaned, such as photomasks, reticles or semiconductor wafers, and high volatility. It contains a storage location for storing the media.

상기 저장장소내의 매체는 증기를 생산하는 가열장치에 의해서 가열되며, 이것에 의해 전반적인 과정장소는 주위가 증기로 가득차게 된다. 청소되어야 하는 물품은 이러한 증기분위기내로 유입되어 청소 및 건조가 실행된다.The medium in the storage area is heated by a heating device that produces steam, whereby the overall process location is filled with steam. The article to be cleaned is introduced into this vapor atmosphere to be cleaned and dried.

상기에서 언급한 바와 같이, 이러한 종래의 장치는 다음과 같은 단점을 내포하고 있다.As mentioned above, this conventional device has the following disadvantages.

(1) 고휘발성을 가진 대량의 매체는 장시간 보관장소에 보관되어야 한다. 이것은 매체의 순도의 저하를 쉽게 야기하여, 미세한 청소를 행하는데 어려움을 야기한다.(1) A large amount of medium with high volatility should be kept in storage place for a long time. This easily causes a decrease in the purity of the medium, which makes it difficult to perform fine cleaning.

(2) 대량의 증기가 연속적으로 생산되어야 한다. 이것은 대용량의 가열부재의 설비를 필요로 한다.(2) A large amount of steam must be produced continuously. This requires the provision of a large heating element.

(3) 증기화된 또는 발산된 매체는 연속적으로 냉각되고 액화되어야 하므로 액체의 형태로 방출될 수 있다. 결과적으로, 대량의 매체가 요구된다.(3) The vaporized or divergent medium must be continuously cooled and liquefied, so that it can be released in the form of a liquid. As a result, a large amount of media is required.

(4) 대량의 매체가 가열되어야 하므로, 증기의 생산을 위한 가열의 개시로부터 초기가열 시간이 길다.(4) Since a large amount of medium must be heated, the initial heating time is long from the onset of heating for the production of steam.

(5) 청소되어야 하는 물품이 오목부 또는 돌출부에 의해서와 같이 표면 높이 변화가 있다면 청소효과는 낮아진다.(5) The cleaning effect is lowered if the article to be cleaned has a change in surface height, such as by recesses or protrusions.

청소되어야 하는 물품이 감소된 량의 매체로 미세하게 그리고 상당히 효율적으로 청소되고 건조되는 증기청소 및 건조방법과 장치를 제공하는 것이 본 발명의 목적이다.It is an object of the present invention to provide a steam cleaning and drying method and apparatus in which the article to be cleaned is cleaned and dried finely and efficiently with a reduced amount of medium.

본 발명의 한면에 따라서, 이러한 목적을 달성하기 위해서, 제한된 량의 매체가 공급되고 증기화되며, 증기화된 매체는 청소되어야 하는 물품에 대하여 방출되어 물품을 청소하게 된다. 따라서, 이러한 청소작용동안, 소량의 신선한 매체가 연속적으로 공급될 수 있다. 말하자면, 본 발명의 이러한 면에서, 휘발성 매체의 단지 소정량은 매체의 비등점 보다는 낮지 않지만 매체의 인화점 보다는 높지 않는 온도까지 가열하는 증기 발생장소에 발산하고 낙하되어, 유입된 휘발성 매체는 즉시 증기화된다. 이때에 발생한 증기압을 사용하여, 증기는 청소되어야 하는 물품의 청소 및 건조를 실행하도록 청소 및 건조장소로 유입된다.According to one aspect of the present invention, in order to achieve this object, a limited amount of media is supplied and vaporized, and the vaporized media is released to the article to be cleaned to clean the article. Thus, during this cleaning operation, a small amount of fresh medium can be supplied continuously. That is to say, in this aspect of the present invention, only a predetermined amount of volatile medium diverges and drops to a steam generating point that heats to a temperature not lower than the boiling point of the medium but not higher than the flash point of the medium, so that the introduced volatile medium vaporizes immediately. . Using the steam pressure generated at this time, steam is introduced into the cleaning and drying place to perform cleaning and drying of the article to be cleaned.

본 발명의 이러한 그리고 다른 목적, 특징 및 장점은 첨부된 도면을 참조하여 아래의 바람직한 실시예를 고찰하므로써 더욱 명백하게 될 것이다.These and other objects, features and advantages of the present invention will become more apparent by considering the following preferred embodiments with reference to the accompanying drawings.

부분적으로 단면을 도시한 제1도는 본 발명의 실시예에 따른 증기청소 및 건조장치의 주요부분을 도시하고 있다. 상기 실시예에서, 이소프로필알콜(IPA)과 같은 알콜, 또는 프론(flon) 등의 매체는 매체저장소(41)에 저장되어 있다. 매체의 제한된 량은 매체공급장소(60)로부터 증기발생장소(70)까지 일시에 공급되는데, 여기에서 매체는 증기화되어 생산된 증기매체는 증기 유입장소(80)로 유입된다.FIG. 1 shows a partial cross section, showing the main part of a steam cleaning and drying apparatus according to an embodiment of the present invention. In this embodiment, an alcohol such as isopropyl alcohol (IPA), or a medium such as a flon is stored in the medium storage 41. A limited amount of medium is supplied from the medium supply site 60 to the steam generating site 70 at one time, where the medium is vaporized and the produced vapor medium is introduced into the vapor inlet 80.

매체공급장치(60)는 입구밸브(1), 가스저장소(2), 예열기(3), 그리고 출구밸브(4)를 포함하고 있는데, 이들은 매체저장장소(41)로부터 매체의 공급통로를 따라서 배치되어 있다. 각각의 밸브(1, 4)는 공기작용밸브로 구성되어 있으며 개방 및 폐쇄는 공기압에 의해서 변환되며, 개방/폐쇄는 제어기(40)로부터 공급되는 유입신호에 응답하여 제어된다. 제어기(40)는 나중에 상세히 설명하게 될 히터(5)에서 열발생을 역시 제어하는 작용을 한다. 증기발생장소(70)는 히터(5), 증기플레이트(6), 매체분산노즐(7), 낙하깔때기(8), 그리고 이들 구성품을 수용하고 있는 증기챔버(9)를 포함하고 있다. 매체공급장소(60)로부터 공급되는 매체는 매체분산노즐(7)과 깔때기(8)를 통하여 지나며 제1도에서 도시한 바와 같이 단차모양 표면을 갖춘 증기플레이트(6)로 떨어지고 분산된다. 히터(5)에 의해서 이루어진 가열로 인하여, 분산매체는 증기화된다.The medium supply device 60 includes an inlet valve 1, a gas reservoir 2, a preheater 3, and an outlet valve 4, which are arranged along the supply passage of the medium from the medium reservoir 41. It is. Each valve 1, 4 consists of an air operated valve, the opening and closing of which are converted by pneumatic pressure, and the opening / closing is controlled in response to an inflow signal supplied from the controller 40. The controller 40 also serves to control heat generation in the heater 5, which will be described later in detail. The steam generating site 70 includes a heater 5, a steam plate 6, a medium dispersion nozzle 7, a dropping funnel 8, and a steam chamber 9 containing these components. The medium supplied from the medium supply station 60 passes through the medium dispersing nozzle 7 and the funnel 8 and falls to the vapor plate 6 having the stepped surface as shown in FIG. Due to the heating made by the heater 5, the dispersion medium is vaporized.

증기유입장소(80)는 증기챔버(9)와 연통하는 끝을 갖추고 있는 그리고 복수의 통로를 제공하도록 갈라져 있는 다른끝을 갖추고 있는 증기유입튜우브(10)로 구성되어 있다. 증기 유입장소(80)는 증기 유입통로(10)와 대응하는 자유끝 부분에서 각각이 제공된 방출노즐(12)을 더 포함하고 있다.The steam inlet 80 is comprised of a steam inlet tube 10 having an end in communication with the steam chamber 9 and with the other end divided to provide a plurality of passages. The steam inlet 80 further includes a discharge nozzle 12 provided at each of the free end portions corresponding to the steam inlet 10.

증기 유입통로(10)는 청소 및 건조챔버(13)내로 뻗어 있으며, 여기에서 반도체장치 제조과정에 사용될 포토마스크, 십자선, 또는 반도체웨이퍼와 같은 청소되어야 하는 물품(20)이 놓이게 된다. 증기유입통로(10)는 증기발생챔버(70)로부터 물품(20)의 앞뒤면까지 공급되는 매체의 증기를 방출하는 작용을 한다. 물품(20)은 반도체장치 제조과정에 사용되는 물품에 한정되지 않고, 미세한 청소가 요구되는 어는 물품이든 가능하다. 예를들면, 물품(20)은 유리가 될 수도 있다. 청소 및 건조챔버(13)와 마찬가지로 증기챔버(9)와 증기유입튜우브(통로 ; 10)는 내부온도의 큰 변화를 피하도록 열절연재질(11)에 의해 싸여있다. 또한, 열유지부재(14)가 청소 및 건조챔버(13)내에 제공되어 있다.The vapor inlet passage 10 extends into the cleaning and drying chamber 13, where the article 20 to be cleaned, such as a photomask, crosshair, or semiconductor wafer, to be used in the semiconductor device fabrication process is placed. The steam inlet passage 10 serves to release the vapor of the medium supplied from the steam generating chamber 70 to the front and back of the article 20. The article 20 is not limited to the article used in the semiconductor device manufacturing process, and may be any article requiring fine cleaning. For example, article 20 may be glass. Like the cleaning and drying chamber 13, the steam chamber 9 and the steam inlet tube (path) 10 are wrapped by the thermal insulating material 11 to avoid large changes in the internal temperature. A heat retaining member 14 is also provided in the cleaning and drying chamber 13.

청소 및 건조챔버(13)로부터 상승하는 증기를 모으기 위한 증기트랩(trap)챔버가 15로 표시되어 있다. 증기의 액화를 위한 매체의 증기냉각을 위한 냉각부재가 16과 17로 표시되어 있다. 증기트랩챔버(15)에서, 또는 청소 및 건조챔버(13)에서 냉각부재(16 또는 17)에 의해 액화된 매체는 방출튜우브(18 또는 19)를 통해서 장치의 외부로 방출된다. 각각의 이들 방출튜우브(18,19)는 장치의 외부로 매체의 증기의 누출을 방지하기 위해 중간부분에 형성된 U자형 트랩(61 또는 62)을 갖추고 있다. 이들 U자형 트랩(61,62)에 남아있는 액화매체의 존재로 인하여 증기트랩챔버(15)와 청소 및 건조챔버(13)는 장치의 외부와 분리되어 있다.A steam trap chamber for collecting steam rising from the cleaning and drying chamber 13 is indicated at 15. Cooling elements for steam cooling of the medium for liquefaction of the steam are labeled 16 and 17. The medium liquefied by the cooling member 16 or 17 in the steam trap chamber 15 or in the cleaning and drying chamber 13 is discharged out of the device through the discharge tube 18 or 19. Each of these discharge tubes 18, 19 is equipped with a U-shaped trap 61 or 62 formed in the middle to prevent leakage of the vapor of the medium out of the apparatus. Due to the presence of the liquefaction medium remaining in these U-shaped traps 61 and 62, the steam trap chamber 15 and the cleaning and drying chamber 13 are separated from the outside of the apparatus.

상기에서 언급한 구조의 청소 및 건조장치의 작용이 이제 설명될 것이다. 제어기(40)의 영향하에서, 밸브(4)는 폐쇄되고 그후, 밸브(1)는 개방된다. 대응하여, 매체는 매체저장장소(41)로부터 공급되어 예열기(3)에 의해서 파이프를 순환한다. 매체의 공급이 불활가스 저장소(2)에서의 압력이 매체저장장소(41)내에서의 압력과 같게 되면서, 자동으로 멈추어지므로, 제어기(40)는 멈춤에 대응하는 일정한 시간후에 밸브(1)를 폐쇄한다. 증기플레이트(6)는 제어기(40)로부터 공급되는 지시신호에 응답하여 작동되는 히터(5)에 의해서 매체의 비등점보다는 낮지 않지만 인화점 보다는 높지 않는 온도까지 가열된다. 청소 및 건조챔버(13)와 마찬가지로 열절연재질(11)과 열 유지매체(14)에 의해서 증기챔버(9)와 증기유입튜우브(통로 ; 10)는 매체의 비등점과 동일한 또는 약간 높은 온도에서 유지될 수 있다.The operation of the cleaning and drying apparatus of the above-mentioned structure will now be described. Under the influence of the controller 40, the valve 4 is closed and the valve 1 is then opened. Correspondingly, the medium is supplied from the medium storage 41 to circulate the pipe by the preheater 3. Since the supply of the medium stops automatically as the pressure in the inert gas reservoir 2 becomes equal to the pressure in the medium storage 41, the controller 40 opens the valve 1 after a certain time corresponding to the stop. To close. The steam plate 6 is heated to a temperature not lower than the boiling point of the medium but higher than the flash point by the heater 5 actuated in response to an indication signal supplied from the controller 40. As with the cleaning and drying chamber 13, the steam chamber 9 and the steam inlet tube (path 10) are formed at a temperature that is equal to or slightly higher than the boiling point of the medium by means of the thermal insulating material 11 and the heat retaining medium 14. Can be maintained.

증기공급이 바람직한 원하는 순간에, 제어기(40)는 밸브(4)를 개방하도록 지시신호를 공급한다. 대응하여, 예열기(3)에 의해서 비등점 보다 높지 않는 온도까지 예열되고 제어기(40)로부터 지시신호에 따라서 작동되는 매체의 일정량은 분산노즐(7)로부터 증기플레이트(6)까지 분산되며, 동시에, 낙하깔때기(8)는 매체로 채워진다. 증기플레이트(6)로 분산되는 매체는 즉시 증기화되고, 발생된 증기는 증기유입튜우브(통로 ; 10)를 통해서 흐르며, 청소 및 건조챔버(13)내로 방출된다. 이렇게되어, 청소 및 건조챔버(13)의 내부는 고밀도의 증기분위로 충만된다. 한편, 깔때기(8)를 채운 매체는 청소 및 건조과정 동안에 증기의 액화 및 방출로부터 야기된 증기의 부족을 재충전하기 위해서, 증기플레이트(6)로 조금씩 떨어진다. 이것에 의해, 청소 및 건조챔버(13)에서의 증기밀도는 소정의 시간 기간동안 실제로 일정하게 유지될 수 있다.At the desired moment where steam supply is desired, the controller 40 supplies an indication signal to open the valve 4. Correspondingly, a certain amount of medium which is preheated by the preheater 3 to a temperature not higher than the boiling point and operated in accordance with an indication signal from the controller 40 is dispersed from the dispersion nozzle 7 to the steam plate 6, and at the same time, The funnel 8 is filled with media. The medium dispersed in the steam plate 6 immediately vaporizes, and the generated steam flows through the steam inlet tube (path) 10 and is discharged into the cleaning and drying chamber 13. Thus, the interior of the cleaning and drying chamber 13 is filled with a high density of vapor atmosphere. On the other hand, the medium filling the funnel 8 falls into the steam plate 6 little by little to replenish the lack of steam resulting from liquefaction and release of steam during the cleaning and drying process. By this, the vapor density in the cleaning and drying chamber 13 can be kept substantially constant for a predetermined time period.

청소되어야 하는 물품(20)에 따라서, 방출노즐(12)의 수 및/또는 각각의 방출노즐의 모양은 매체의 증기압에 의해서 제공된 청소효과를 변화시키도록 변화되어야 한다. 더욱이, 부가적인 밸브부재는 방출되면서 증가된 증기압을 발생하도록 증기유입튜우브(10)의 중간에 제공된다.Depending on the article 20 to be cleaned, the number of discharge nozzles 12 and / or the shape of each discharge nozzle must be varied to change the cleaning effect provided by the vapor pressure of the medium. Moreover, an additional valve member is provided in the middle of the steam inlet tube 10 to produce an increased steam pressure as it is released.

냉각부재(16)는 상승증가를 액화하고 수집하는 역할을 하는 한편, 냉각부재(17)는 매체의 재증기화를 방지하도록 청소된 물품(20)에 의해서 액화되고 수집된 매체를 냉각시키는 역할을 한다. 수집된 매체는 외부압력을 고려하여 설계된 U자형 방출튜우브(18, 19)를 통해서, 스스로 방출된다.The cooling member 16 serves to liquefy and collect the increase, while the cooling member 17 serves to cool the medium liquefied and collected by the cleaned article 20 to prevent re-vaporization of the medium. do. The collected medium is self-released through the U-shaped discharge tubes 18, 19 which are designed in consideration of the external pressure.

제2도는 청소되어야 하는 물품(20)의 수평적인 단락/연속이송을 허용하며, 또한 어떤 다른 기구와 연결이 용이하게 되어 있는 본 발명의 응용형태를 도시하고 있다. 제1도에서 1 내지 12로 표시된 기구는 제2도에서 도시한 장치에 직접 연결할 수 있으며, 물론 지지대(24)와 마찬가지로 셔터(21, 22, 21', 22')와 이송기구(23)가 제1도보다 첨가되었다. 오른쪽 셔터(21,22)가 개방되면서, 청소되어야 하는 물품(20)은 물품지지대(24)와 왼쪽으로 이동가능한 수평이송기구(23)에 놓이며, 청소 및 건조챔버(13)쪽으로 이송된다. 그리고, 셔터(21,22)는 폐쇄되고, 그뒤 증기는 방출노즐(12)로부터 분사되어, 이것에 의해 청소 및 건조챔버(13)는 전체적으로 고밀도 증기분위기로 충만된다. 청소 및 건조과정이 완성된 후, 왼쪽 및 오른쪽 셔터 모두, 또는 대안으로서 단지 왼쪽셔터(22',21')만이 연이어 열리고 또한 수평으로 이송하는 기구(23)의 왼쪽으로의 운동에 의하여 물품(20)은 장치외로 방출되며 어떤 결합된 기구로 이송된다. 제 2도 실시예의 나머지 부분의 구조와 기능은 제1도 실시예의 그것과 동일하다.2 illustrates an application of the present invention that allows horizontal shorting / continuous transfer of the article 20 to be cleaned and also facilitates connection with any other mechanism. The mechanisms 1 to 12 in FIG. 1 can be connected directly to the device shown in FIG. 2, and of course the shutters 21, 22, 21 ′ and 22 ′ and the transport mechanism 23, like the support 24, It was added than FIG. As the right shutters 21 and 22 are opened, the article 20 to be cleaned is placed on the article support 24 and the horizontal transfer mechanism 23 which is movable to the left, and is transported towards the cleaning and drying chamber 13. Then, the shutters 21 and 22 are closed, and then steam is ejected from the discharge nozzle 12, whereby the cleaning and drying chamber 13 is filled with a high density vapor atmosphere as a whole. After the cleaning and drying process is completed, both the left and right shutters or, alternatively, only the left shutters 22 ', 21' are opened in succession by movement to the left of the mechanism 23, which is subsequently opened and conveyed horizontally. ) Is discharged out of the device and transported to any associated instrument. The structure and function of the rest of the FIG. 2 embodiment are the same as those of the FIG. 1 embodiment.

제3도는 본 발명의 다른 실시예에 따른 증기청소 및 건조장치의 주요부분을 도시한 개략도이다. 상기 실시예는 증기가 발생할때 증기가 비교적 무거운 이러한 매체인 경우에 특히 효과적이다. 하지만, 본 실시에는 이것에 한정되지 않고, IPA와 같은 알콜, 프론, 또는 다른 것이 청소매체로서 사용될 수 있다. 제3도 실시예에서 2개의 매체공급장소(60)와 2개의 증기발생장소(70)는 청소 및 건조챔버(13)의 대향면에서 제공되어 있으며 2중에 1세트는 제1도 실시예에서와 같이, 예를들면 갈라진 증기유입튜우브(10)를 사용함으로써 누락될 수 있다.Figure 3 is a schematic diagram showing the main parts of the steam cleaning and drying apparatus according to another embodiment of the present invention. This embodiment is particularly effective when such a medium is relatively heavy when steam occurs. However, the present embodiment is not limited to this, and alcohols, prones, or other such as IPA can be used as the cleaning medium. In the FIG. 3 embodiment, two media supply sites 60 and two steam generating sites 70 are provided on opposite sides of the cleaning and drying chamber 13, one set of which is the same as in the FIG. Likewise, it can be omitted, for example, by using a cracked steam inlet tube 10.

본 실시예에서, 가열매체 저장소(36, 36')는 각각 증기챔버(9, 9')주변에 제공되어 있다. 예를들면 실리콘 오일과 같이 탱크(50)에 저장된 가열매체(51)는 진공탱크(46)내의 진공압력의 양향하에 각각의 이들 각각의 가열매체 저장소(36, 36')로 유입된다.In this embodiment, heating medium reservoirs 36 and 36 'are provided around vapor chambers 9 and 9', respectively. For example, the heating medium 51 stored in the tank 50, such as silicone oil, enters each of these respective heating medium reservoirs 36, 36 'under the direction of the vacuum pressure in the vacuum tank 46.

진공탱크(46)는 솔레노이드밸브(43)를 통해서 가열매체저장소(36, 36')와 연통한다. 또한, 솔레노이드밸브(44)를 통해서 진공탱크(46)는 대기로 개방될 수 있다. 제어기(40)가 솔레노이드밸브(45)를 개방하도록 작동되는 한편, 솔레노이드밸브(43,44)의 폐쇄를 유지하며, 진공펌프(42)를 작동시킨다. 이것에 의해, 원하는 진공은 진공탱크(46)에서 설정될 수 있다.The vacuum tank 46 communicates with the heating medium reservoirs 36, 36 ′ through the solenoid valve 43. In addition, the vacuum tank 46 may be opened to the atmosphere through the solenoid valve 44. The controller 40 is operated to open the solenoid valve 45, while keeping the solenoid valves 43 and 44 closed, and actuating the vacuum pump 42. By this, the desired vacuum can be set in the vacuum tank 46.

상기와 다른 시간에, 솔레노이드밸브(45)는 폐쇄되어 유지되며, 진공펌프(42)는 비작동상태를 유지한다. 가열매체 저장소(36,36')는 솔레노이드밸브(54)를 통해서 탱크(50)와 연통한다. 탱크(50)내의 가열매체는 매체저장소(41)내에서 청소매체의 비등점 보다는 낮지 않고 인화점 보다는 높지 않는 원하는 온도로 가열기(52)에 의해서 가열된다. 온도탐지기(53)는 탱크(50)에서 가열매체(51)의 온도를 탐지하며, 제어기(40)에 공급되는 출력을 발생한다. 적용된 출력에 따라, 제어기(40)는 원하는 온도로 가열매체(51)를 유지하도록 히터(52)에서 열발생을 제어한다.At other times than the above, the solenoid valve 45 is kept closed and the vacuum pump 42 is kept in an inoperative state. Heating medium reservoirs 36, 36 ′ communicate with tank 50 through solenoid valve 54. The heating medium in the tank 50 is heated by the heater 52 in the media reservoir 41 to a desired temperature not lower than the boiling point of the cleaning medium and higher than the flash point. The temperature detector 53 detects the temperature of the heating medium 51 in the tank 50 and generates an output supplied to the controller 40. Depending on the output applied, the controller 40 controls the heat generation in the heater 52 to maintain the heating medium 51 at the desired temperature.

히터(5, 5')는 유입된 가열매체의 온도가 소정의 온도보다 낮아질 때, 가열매체 저장소(36, 36')로 유입되는 가열매체를 가열하도록 제공되어 있다. 이들 히터(5, 5')는 각각 가열매체 저장소(36, 36')에 제공된 온도탐지기(37, 37')의 출력을 기초로 제어기(40)에 의해서 제어된다. 매체분산노즐(7, 7')로부터 증기플레이트(6, 6')쪽으로 분산되는 청소매체는 가열매체 저장소(36, 36')에서 가열매체의 가열에 의해 증기화된다. 매체가 히터와 같은 가열부재에 의해서 직접 가열되는 가열과정과 비교하여 본 실시예의 가열과정은 사용된 청소매체가 휘발성이 있는 경우에 특히 안전을 위해 바람직하다. 먼저, 청소되어야 하는 물품(20)을 지지하기 위한 지지대(24)의 위치는 조절되어, 증기플레이트에서 증기화된 그리고 증기유입튜우브(10, 10')를 통해서 지나는 청소매체는 물품(20)의 상부부분으로 방출된다. 지지대(24)는 구동기구(35)에 의해서 그리고 로드(30)를 통해서 상향 및 하향으로 움직일 수 있다.The heaters 5 and 5 'are provided to heat the heating medium flowing into the heating medium reservoirs 36 and 36' when the temperature of the introduced heating medium is lower than a predetermined temperature. These heaters 5, 5 ′ are controlled by the controller 40 based on the output of the temperature detectors 37, 37 ′ provided to the heating medium reservoirs 36, 36 ′, respectively. The cleaning medium dispersed from the medium dispersion nozzles 7 and 7 'toward the vapor plates 6 and 6' is vaporized by heating of the heating medium in the heating medium reservoirs 36 and 36 '. Compared with the heating process in which the medium is directly heated by a heating member such as a heater, the heating process of the present embodiment is particularly preferable for safety when the cleaning medium used is volatile. First, the position of the support 24 for supporting the article 20 to be cleaned is adjusted so that the cleaning medium vaporized in the steam plate and passing through the steam inlet tubes 10, 10 ′ is the article 20. Emitted to the upper part of. The support 24 can be moved up and down by the drive mechanism 35 and through the rod 30.

구동기구(35)는 제어기(40)에 의해서 제어된다.The drive mechanism 35 is controlled by the controller 40.

다음, 본 실시예의 작용이 설명될 것이다.Next, the operation of the present embodiment will be described.

제1도 실시예에서와 같이, 제어기(40)는 입구측 공기-작용밸브(1, 1')를 개방하는 역할을 하는 한편, 출구측 공기-작용밸브(4, 4')의 폐쇄를 유지한다. 대응하여, 청소매체는 가스저장소(2, 2')에서의 압력이 각각 매체저장소(41,41')에서의 압력과 동일해질때까지 매체저장소(41,41')로부터 매체공급장소(60,60')까지 공급된다.As in the FIG. 1 embodiment, the controller 40 serves to open the inlet side air-acting valves 1 and 1 'while maintaining the closure of the outlet side air-acting valves 4 and 4'. do. Correspondingly, the cleaning medium is supplied from the medium reservoirs 41 and 41 'until the pressure in the gas reservoirs 2 and 2' is equal to the pressure in the medium reservoirs 41 and 41 ', respectively. Up to 60 ').

결과적으로, 제어기(40)는 밸브(1,1')를 폐쇄하도록 작용한다. 한편, 상부셔터(31)가 개방되면서, 제어기(40)는 구동기구(35)가 예시된 위치로부터 상향으로 지지대(24)를 움직이는 것을 야기시키며, 지지대(24)가 물품(20)을 파지한 후에, 구동기구(35)는 예시된 위치로, 지지대(24)를 하향으로 복귀시킨다. 이러한 상태에서, 청소 및 건조챔버(13)를 한정하는 내부실린더 케이싱(33)의 바닥에서 형성된 개구부는 폐쇄되고 로드(30)와 일체로 형성된 셔터(59)에 의해서 막힌다.As a result, the controller 40 acts to close the valve 1, 1 ′. On the other hand, as the upper shutter 31 opens, the controller 40 causes the drive mechanism 35 to move the support 24 upward from the illustrated position, and the support 24 holds the article 20. Afterwards, the drive mechanism 35 returns the support 24 downward to the illustrated position. In this state, the opening formed at the bottom of the inner cylinder casing 33 defining the cleaning and drying chamber 13 is closed and closed by a shutter 59 integrally formed with the rod 30.

그뒤, 셔터(31)가 폐쇄될 때, 제어기(40)는 각각의 공기-작용밸브(4,4')를 개방하도록 지시신호를 공급하며, 이것에 의해 각각의 매체공급장소(60 또는 60')에서 청소매체의 전체적인 양은 노즐(7 또는 7')로부터 증기챔버(9 또는 9')에서의 증기플레이트(6 또는 6')쪽으로 낙하 또는 분산된다. 매체 낙하 또는 분산의 완료에 대응하는 소정의 시간이 경과한 후, 밸브(4,4')는 폐쇄된다. 그리고 제어기(40)는 증기챔버(9,9')에 남아있는 청소매체가 비등점 보다는 낮지 않지만 인화점 보다는 높지 않는 온도까지 가열되도록 진공탱크(46)에서 진공압력이 가열매체저장소(36, 36')를 통해서 탱크(50)에서 가열매체(51)상에 작용하는 것을 허용하기 위해 솔레노이드 밸브(43, 54)를 개방한다. 이것에 의해, 청소매체의 비등점보다 낮지 않으나, 인화점보다는 높지 않는 원하는 온도까지 가열되는 가열매체는 가열매체는 가열매체 저장소(36,36')로 유입되어, 결과적으로 증기챔버(9, 9')에서의 청소매체의 온도는 가열매체의 열에 의해 점차 증가하여, 가열매체는 증기화된다.Then, when the shutter 31 is closed, the controller 40 supplies an indication signal to open the respective air-actuating valves 4 and 4 ', whereby each medium supply place 60 or 60' is provided. The total amount of cleaning medium drops from the nozzle 7 or 7 'to the vapor plate 6 or 6' in the vapor chamber 9 or 9 '. After a predetermined time corresponding to the completion of the medium drop or dispersion has elapsed, the valves 4 and 4 'are closed. In addition, the controller 40 controls the vacuum pressure in the vacuum tank 46 so that the cleaning medium remaining in the vapor chambers 9 and 9 'is heated to a temperature not lower than the boiling point but not higher than the flash point. The solenoid valves 43 and 54 are opened to allow them to act on the heating medium 51 in the tank 50. As a result, the heating medium which is heated to a desired temperature not lower than the boiling point of the cleaning medium but higher than the flash point is introduced into the heating medium reservoirs 36 and 36 ', and consequently the vapor chambers 9 and 9'. The temperature of the cleaning medium is gradually increased by the heat of the heating medium, and the heating medium vaporizes.

증기매체는 증기유입튜우브(10,10')를 통해서 흐르며 청소되어야 하는 물품으로 방출되며, 청소 및 건조챔버(13)는 방출된 매체증기로 충만된다. 청소 및 건조챔버(13)의 구멍(32) 뒤에서 상승하는 증기의 부분은 구멍(32)을 통해서 외부실린더케이싱(34) 의해서 한정된 증기수집챔버(15)내로 흘러들어간다. 배출파이프(18)는 도시하지 않은 배출펌프에 의해서 계속 배출되어 수집챔버(15)에서 어떤 과잉증기는 배출파이프(18)를 통해서 방출되는 한편, 냉각튜우브(16)에 의해서 액화된다.The vapor medium flows through the steam inlet tubes 10, 10 'and is discharged as an article to be cleaned, and the cleaning and drying chamber 13 is filled with the discharged medium vapor. The portion of steam rising behind the hole 32 of the cleaning and drying chamber 13 flows through the hole 32 into the steam collection chamber 15 defined by the outer cylinder casing 34. The discharge pipe 18 continues to be discharged by a discharge pump (not shown) so that any excess steam in the collection chamber 15 is discharged through the discharge pipe 18 while liquefied by the cooling tube 16.

증기챔버(9, 9')에서의 청소매체가 완전히 증기화되고 물품의 청소 및 건조가 완료된 시간의 기간이 경과한 후, 제어기(40)는 가열매체저장소(36, 36')에서의 가열매체가 탱크(50)로 복귀하여 흐르도록 야기하기 위하여 진공탱크(46)를 대기쪽으로 개방하도록 솔레노이드밸브(44)를 개방한다. 그후, 제어기는 밸브(43, 44, 45)를 폐쇄하여, 동시에 밸브(45)를 개방하여 진공펌프(42)에 의해서, 원하는 진공이 진공탱크(46)에서 다시 발생된다. 한편, 이것과 병행하여, 제어기(40)는 실린더케이싱(33)의 내부의 바닥개구부를 개방하도록 로드(30)를 상향으로 반(半)행정 움직이기 위해 구동기구(35)를 야기하며, 여기에서, 청소 및 건조챔버(13)를 채우는 증기 및 액체는 실린더케이싱(34) 외부로 방출된다.After a period of time in which the cleaning medium in the vapor chambers 9 and 9 'has been completely vaporized and the cleaning and drying of the article has elapsed, the controller 40 is heated in the heating medium reservoirs 36 and 36'. The solenoid valve 44 is opened to open the vacuum tank 46 to the atmosphere to cause the gas to flow back to the tank 50. Then, the controller closes the valves 43, 44, 45, simultaneously opens the valve 45, and by the vacuum pump 42, the desired vacuum is again generated in the vacuum tank 46. On the other hand, in parallel with this, the controller 40 causes the drive mechanism 35 to move the rod 30 upward halfway to open the bottom opening inside the cylinder casing 33, and here In, the vapor and liquid filling the cleaning and drying chamber 13 are discharged out of the cylinder casing 34.

실린더케이싱(34) 외부의 바닥에서, 냉각부재(17)가 구비되어 있다. 증기 및 액체는 상기 냉각부재(17)에 의해서 액회되며 방출튜우브(19)를 통해서 장치의 외부로 방출된다.At the bottom outside the cylinder casing 34, a cooling member 17 is provided. Vapor and liquid are liquefied by the cooling member 17 and are discharged out of the device through the discharge tube 19.

그후, 셔터(31)가 개방될때, 제어기(40)는 지지대(24)로부터 물품(20)의 해제를 허용하도록 로드(30)를 상향으로 꼭대기 위치까지 움직이기 위하여 구동기구(35)를 야기한다. 새로운 물품(20)이 지지대(24)에 설치되면, 상기에서 언급한 작용이 반복된다. 본 실시예의 작용의 나머지 부분은 제1도 실시예의 그것과 근본적으로 동일하다.Then, when the shutter 31 is opened, the controller 40 causes the drive mechanism 35 to move the rod 30 upwards to the top position to allow the release of the article 20 from the support 24. . When a new article 20 is installed on the support 24, the above-mentioned action is repeated. The rest of the operation of this embodiment is essentially the same as that of the first embodiment.

본 발명에 따라서, 상기에서 언급한 바와 같이, 증기발생장소와 청소 및 건조장소는 서로 분리되어 있으며, 또한 동시에 매체의 제한된 량이 증기화된다. 결과적으로, 장시간 대량의 매체를 저장 및 가열할 필요가 없다. 따라서, 매체의 고순도를 유지할 수 있으며, 정밀한 청소 및 건조를 보장하게 된다. 더욱이, 매체가 장시간 저장되지 않으므로, 고가의 수정유리 또는 기타를 사용함으로서 매체를 접촉하거나, 부분을 형성할 필요가 없으며 예를들어, 저가의 스테인레스강이 사용될때 조차도 침전은 최소화된다. 결과적으로 제조원가는 감소하게 된다.According to the invention, as mentioned above, the steam generating site and the cleaning and drying site are separated from each other and at the same time a limited amount of medium is vaporized. As a result, there is no need to store and heat a large amount of medium for a long time. Therefore, high purity of the medium can be maintained, and precise cleaning and drying are ensured. Moreover, since the medium is not stored for a long time, the use of expensive quartz glass or the like does not require contacting or forming a part of the medium and precipitation is minimized even when inexpensive stainless steel is used, for example. As a result, manufacturing costs are reduced.

더욱이, 매체 증기챔버는 소형으로 할 수 있고 가열용량은 작으며, 또한 가열시간을 줄일 수 있다. 그러므로, 효율적인 청소작용이 달성된다.Moreover, the medium vapor chamber can be compact, the heating capacity is small, and the heating time can be shortened. Therefore, efficient cleaning action is achieved.

본 발명이 여기에서 개시된 구조를 참조하여 설명된 한편, 이것은 본 발명을 한정하는 것이 아니며, 본 발명은 첨부된 특허청구의 범위 또는 개량의 목적내에서 이러한 수정 및 변화가 가능하다.While the invention has been described with reference to the structures disclosed herein, it is not intended to limit the invention, and the invention is capable of such modifications and variations as fall within the scope or spirit of the appended claims.

Claims (12)

증기청소 및 건조장치에 있어서, 매체를 저장하기 위한 저장부재와, 매체를 발생증기로 증기화하기 위한 증기발생부재와, 단지 소정량의 매체를 상기 저장부재로부터 상기 증기발생부재까지 공급하기 위한 매체공급부재와, 청소되어야 하는 물품이 놓이게 되는 청소 및 건조챔버를 갖춘 청소 및 건조부재와, 상기 증기발생부재에 의해서 발생된 증기로 상기 청소 및 건조챔버에 위치한 물품의 청소 및 건조를 위해서 상기 증기발생장치에 의해서 발생된 증기를 상기 청소 및 건조챔버내로 유입시키기 위한 증기유입부재로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 증기청소 및 건조장치.A steam cleaning and drying apparatus, comprising: a storage member for storing a medium, a steam generating member for vaporizing a medium with a generated steam, and a medium for supplying only a predetermined amount of the medium from the storage member to the steam generating member. The cleaning and drying member having a supply member, a cleaning and drying chamber in which the article to be cleaned is placed, and the steam generated for cleaning and drying the article located in the cleaning and drying chamber with steam generated by the steam generating member. And a steam inlet member for introducing steam generated by the apparatus into the cleaning and drying chamber. 제 1 항에 있어서, 상기 증기발생장치는 매체가 낙하하는 증기플레이트와, 상기 증기플레이트를 수용하기 위한 증기챔버와, 상기 증기챔버의 외부로부터 상기 증기플레이트를 가열하기 위한 가열부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.The steam generator of claim 1, wherein the steam generator includes a steam plate on which a medium falls, a steam chamber for accommodating the steam plate, and a heating member for heating the steam plate from the outside of the steam chamber. Characterized in that the device. 제 2 항에 있어서, 상기 가열부재는 소정의 온도로 가열될 가열매체를 상기 증기챔버의 주변부분에 공급하는 것을 특징으로 하는 장치.The apparatus of claim 2, wherein the heating member supplies a heating medium to be heated to a predetermined temperature to a peripheral portion of the vapor chamber. 제 2 항에 있어서, 상기 증기발생부재는 상기 매체공급부재로부터 상기 증기플레이트까지 매체를 조금씩 떨어뜨리기 위한 낙하부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.3. The apparatus according to claim 2, wherein the steam generating member includes a drop member for dropping the medium little by little from the medium supply member to the steam plate. 제 2 항에 있어서, 상기 증기유입부재는 상기 증기챔버와 연통하는 한끝과 상기 청소 및 건조챔버쪽으로 뻗어있는 복수의 통로로 갈라진 다른 끝을 갖춘 증기유입튜우브를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.3. The apparatus of claim 2, wherein the steam inlet member comprises a steam inlet tube having one end in communication with the steam chamber and the other end divided into a plurality of passages extending toward the cleaning and drying chambers. 제 5 항에 있어서, 각각의 상기 증기챔버, 상기 청소 및 건조챔버, 그리고 상기 유입튜우브는 증기의 온도를 유지하기 위하여 열 절연재질로 덮혀있는 것을 특징으로 하는 장치.6. The apparatus of claim 5, wherein each said vapor chamber, said cleaning and drying chamber, and said inlet tube are covered with a thermal insulation material to maintain the temperature of the vapor. 제 1 항에 있어서, 상기 매체공급부재는 상기 증기발생부재로 공급될 매체에 예열을 공급하기 위한 예열부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.The apparatus of claim 1, wherein the medium supply member includes a preheating member for supplying preheating to a medium to be supplied to the steam generating member. 제 1 항에 있어서, 상기 청소 및 건조부재는 상기 청소 및 건조챔버 주위에 구비된 증기수집챔버와, 상기 증기수집챔버에서 증기를 액화하기 위한 냉각부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.The apparatus of claim 1, wherein the cleaning and drying member includes a steam collecting chamber provided around the cleaning and drying chamber, and a cooling member for liquefying steam in the steam collecting chamber. 제 1 항에 있어서, 상기 청소 및 건조챔버는 개폐가능한 셔터가 구비된 개구부를 갖추고 있으며, 셔터 개구부를 통해서 물품은 상기 청소 및 건조챔버로의 적재 및 해제가능하며, 여기에서 상기 청소 및 건조부재는 상기 개구부를 통해서 상기 청소 및 건조챔버로부터 그리고 쪽으로 물품을 수평으로 이송하기 위한 이송부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.2. The cleaning and drying chamber of claim 1, wherein the cleaning and drying chamber has an opening with an openable shutter, through which the article is loadable and unloadable into the cleaning and drying chamber, wherein the cleaning and drying member is And a conveying member for conveying the article horizontally from and towards said cleaning and drying chamber through said opening. 제 1 항에 있어서, 상기 청소 및 건조챔버는 개폐가능한 셔터가 구비된 개구부를 갖추고 있으며, 셔터 개구부를 통해서 물품은 상기 청소 및 건조챔버로의 적재 및 해제가능하며, 여기에서 상기 청소 및 건조부재는 상기 개구부를 통해서 상기 청소 및 건조챔버로부터 그리고 쪽으로 물품을 수직으로 이송하기 위한 이송부재를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 장치.2. The cleaning and drying chamber of claim 1, wherein the cleaning and drying chamber has an opening with an openable shutter, through which the article is loadable and unloadable into the cleaning and drying chamber, wherein the cleaning and drying member is And a conveying member for vertically conveying the article from and towards said cleaning and drying chamber through said opening. 증기청소 및 건조방법에 있어서, 매체공급부재를 사용하여 매체저장소로부터 중기챔버까지 소정량의 청소매체를 공급하는 단계와, 중기챔버에서의 청소매체를 발생중기가 되도록 중기화하기 위해 가열부재를 사용하여 중기챔버에서의 청소매체를 가열하는 단계와, 중기챔버에서 발생한 중기로 청소 및 건조챔버에 위치한 물품의 청소 및 건조를 위해서, 증기유입튜우브를 통해서 청소 및 건조챔버쪽으로 중기챔버에서 발생한 중기를 유입하는 단계로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 중기청소 및 건조방법.In the steam cleaning and drying method, using a medium supply member, supplying a predetermined amount of cleaning medium from the medium reservoir to the intermediate chamber, and using a heating member to neutralize the cleaning medium in the intermediate chamber so as to generate medium. Heating the cleaning medium in the medium chamber, and cleaning and drying the goods placed in the drying chamber and the medium generated in the medium chamber, through the steam inlet tubing. Medium cleaning and drying method, characterized in that consisting of the step of introducing. 제 11 항에 있어서, 소정의 온도로 가열된 가열매체는 중기챔버 주위의 부분에 공급되는 것을 특징으로 하는 방법.12. The method of claim 11, wherein the heating medium heated to a predetermined temperature is supplied to a portion around the medium chamber.
KR1019890016488A 1988-11-15 1989-11-14 Vopor cleaning method KR930007614B1 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63286748A JP2544971B2 (en) 1988-11-15 1988-11-15 Steam cleaning and drying equipment
JP63-286748 1988-11-15

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR900007493A KR900007493A (en) 1990-06-01
KR930007614B1 true KR930007614B1 (en) 1993-08-14

Family

ID=17708524

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019890016488A KR930007614B1 (en) 1988-11-15 1989-11-14 Vopor cleaning method

Country Status (6)

Country Link
JP (1) JP2544971B2 (en)
KR (1) KR930007614B1 (en)
DE (1) DE3937864C2 (en)
FR (1) FR2638984B1 (en)
GB (1) GB2224639B (en)
NL (1) NL8902810A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101395716B1 (en) * 2012-09-26 2014-05-16 주식회사 코디엠 Glass substrate drying apparatus

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5142873A (en) * 1990-02-15 1992-09-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Vapor control system for vapor degreasing/defluxing equipment
US5470154A (en) * 1991-04-18 1995-11-28 Osaka Sanso Kogyo Ltd. Method of cleaning the reflector mirror in an optical dew point meter and an optical dew point meter equipped with a cleaning device
US5351419A (en) * 1992-07-27 1994-10-04 Motorola, Inc. Method for vapor drying
JP3151613B2 (en) * 1997-06-17 2001-04-03 東京エレクトロン株式会社 Cleaning / drying method and apparatus
DE102011121019A1 (en) * 2011-12-13 2013-06-13 Thermo Electron Led Gmbh Cleaning procedure for the working space of a incubator

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB988038A (en) * 1962-05-14 1965-03-31 Du Pont Method and apparatus for cleaning metals and other materials with boiling solvents
DE6610651U (en) * 1967-04-24 1975-04-30 Walter Becker STEAM CLEANER.
NL7010229A (en) * 1970-07-22 1972-01-12
US4569695A (en) * 1983-04-21 1986-02-11 Nec Corporation Method of cleaning a photo-mask
DE3509122C3 (en) * 1985-03-14 1995-03-23 Gerald Dipl Ing Harms Process for cleaning objects with the aid of solvents and device therefor
US4777804A (en) * 1987-08-26 1988-10-18 Texas Instruments Incorporated Method and apparatus for easing surface particle removal by size increase

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101395716B1 (en) * 2012-09-26 2014-05-16 주식회사 코디엠 Glass substrate drying apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
FR2638984B1 (en) 1996-08-09
JP2544971B2 (en) 1996-10-16
GB2224639A (en) 1990-05-16
DE3937864A1 (en) 1990-06-21
GB8925091D0 (en) 1989-12-28
GB2224639B (en) 1993-03-24
JPH02133925A (en) 1990-05-23
NL8902810A (en) 1990-06-01
FR2638984A1 (en) 1990-05-18
DE3937864C2 (en) 1994-11-24
KR900007493A (en) 1990-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4429305B2 (en) Deposition source for organic electroluminescent film deposition
KR101343784B1 (en) Method for the vaporization of liquid raw material which enables low-temperature vaporization of liquid raw material and vaporizer for the method
EP0386447B1 (en) Apparatus and method for processing a semiconductor wafer
KR930007614B1 (en) Vopor cleaning method
JP2004510058A (en) In particular, a method and an apparatus for depositing an organic film by an OVPD method
KR940004739A (en) Substrate Drying Equipment
US4254820A (en) Heat transport device
JP2007534844A (en) Evaporating apparatus and method for evaporating coating material
EP0498622B1 (en) Liquid vaporizer-feeder
JP2022522760A (en) Target material control in EUV light source
KR100634654B1 (en) ESR chamber cooling system and treatment
US6615914B1 (en) Programmable, heatable, coolable reaction vessel utilizing phase change refrigeration
KR20100044862A (en) Vacuum evaporation apparatus for solid materials
JP5270165B2 (en) Control of adhesion of vaporized organic materials
JP5144268B2 (en) Method and apparatus for controlling vaporization of organic materials
US6161300A (en) Alcohol vapor dryer system
CH658122A5 (en) REFRIGERATION APPARATUS AND REFRIGERATION TRAP COMPRISING SUCH AN APPARATUS.
KR100762769B1 (en) Process for heating steam
JP2005268366A (en) Lpp type euv light source apparatus
US1926252A (en) Means for the reduction or the elimination of the deposit of scale on heating elements of water heaters
JP6081904B2 (en) Development processing apparatus, development processing method, program, and computer storage medium
JPH03154338A (en) Vapor cleaning drying device
JPH10300173A (en) Operation for constant-temperature and constant humidity air supply device
KR100484030B1 (en) Vaporizer with integral diaphragm
JPH0450895Y2 (en)

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20080722

Year of fee payment: 16

LAPS Lapse due to unpaid annual fee