KR930007180Y1 - 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 - Google Patents
바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 Download PDFInfo
- Publication number
- KR930007180Y1 KR930007180Y1 KR2019890005505U KR890005505U KR930007180Y1 KR 930007180 Y1 KR930007180 Y1 KR 930007180Y1 KR 2019890005505 U KR2019890005505 U KR 2019890005505U KR 890005505 U KR890005505 U KR 890005505U KR 930007180 Y1 KR930007180 Y1 KR 930007180Y1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- transistor
- nmos
- schottky
- inverter
- cmos
- Prior art date
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
- H01L21/82—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
- H01L21/822—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
- H01L21/8248—Combination of bipolar and field-effect technology
- H01L21/8249—Bipolar and MOS technology
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/085—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only
- H01L27/088—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate
- H01L27/092—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors
- H01L27/0928—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including field-effect components only the components being field-effect transistors with insulated gate complementary MIS field-effect transistors comprising both N- and P- wells in the substrate, e.g. twin-tub
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
제1도는 씨모스로 구성한 일반적인 인버터 회로도.
제2도는 씨모스로 구성한 인버터 소자의 단면도.
제3도는 본 고안의 인버터 회로도.
제4도는 본 고안 인버터 소자의 단면도.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
NM1-NM3 : 엔모스 PM1 : 피모스
Q11, Q12 : 쇼트키트랜지스터 D1, D2 : 쇼트키다이오드
본 고안은 인버터에 관한 것으로, 특히 바이폴라와 씨모스 트랜지스터로 구성되어 저전력이고, 집적도 및 출력 구동력이 우수하며, 빠른 회로의 응답특성을 얻는데 적당하도록 한 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터에 관한 것이다.
인버터 논리회로의 하나인 씨모스로 구성되는 인버터는 제1도에 도시한 바와같이 피모스(PM1)와 엔모스(NM1)의 게이트를 접속하여 입력단을 형성하고, 상기 피모스(PM1)의 소스와 상기 엔모스(NM1)의 드레인을 접속하여 출력단을 구성하는 것으로, 고전위 신호가 입력되면 피모스(PM1), 엔모스(NM1)가 각기 오프, 온되어 출력단자(VO)로 저전위신호가 출력되고, 저전위신호가 입력되면 피모스(PM1), 엔모스(NM1)는 각각 온, 오프되어 출력단자(VO)로 고전위신호가 출력된다.
즉, 고전위, 저전위 입력신호가 반전되어 출력되는 것으로, 상기의 인버터를 구성하기 위해 반도체소자상에 피모스와 엔모스를 제2도에 나타낸 바와같이 형성한다.
그런데 이와같은 인버터 회로는, 입력의 잡음이 직접 피모스와 엔모스에 입력되어 회로가 오동작하는 결함이 있었다.
이에 따라 본 고안은 상기의 결점을 없애기 위해 바이폴라와 씨모스 트랜지스터로 인버터를 구성하여 입력의 잡음을 차단함으로써 오동작이 방지되게 안출한 것으로, 이를 첨부한 도면에 의하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
본 고안의 인버터 회로는 제3도에 도시한 것처럼 입력단자(Vi)를 저항(R1)을 통해 전원(Vcc)에 역방향 접속된 쇼트키다이오드(D1)의 애노우드와 자기바이어스 (Self-bias)된 쇼트키트랜지스터(Q11)의 콜렉터에 공통접속해 이 접속됨을 피모스(PM1)와 엔모스(NM1),(NM2)의 게이트에 공통접속하고, 그 피모스(PM1)의 소오스와 엔모스(NM1)의 드레인과의 접속점 및 상기 엔모스(NM2)의 소오스와 엔모스 (NM3)의 드레인과의 접속점을 각기 트랜지스터(Q1) 및 쇼트키트랜지스터( Q12)의 베이스에 접속함과 아울러 상기 엔모스(NM2)의 드레인을 상기 엔모스(NM3)의 게이트, 상기 트랜지스터(Q1)의 에미터, 상기 쇼트키트랜지스터(Q12)의 콜렉터에 공통접속하여 출력단을 형성하며, 그 접속점을 쇼트키다이오드(D2)를 통해 상기 트랜지스터(Q1)의 베이스에 접속하여 구성한 것으로, 이의 작용 및 효과는 아래와 같다.
입력신호의 잡음성분은 쇼트키다이오드(D1) 및 쇼트키트랜지스터(Q11)에 의해 제거되는데, 고전위신호가 입력되면 피모스(PM1)는 오프되고, 엔모스(NM1),(N M2)가 온되어 트랜지스터(Q1)의 베이스에 저전위신호가 가해진다.
따라트랜지스터(Q1)가 오프되고, 엔모스(NM2)가 온됨에 의해 엔모스(NM3) 및 쇼트키트랜지스터(Q12)가 온상태가 되어 출력단자(VO)로 저전위신호가 출력된다.
한편, 저전위 신호가 입력되면 쇼트키트랜지스터(Q11)에 의해 입력전압이 음의 전압이하로 내려가지 않으며, 피모스(PM1)가 온되고, 엔모스(NM1),(NM2)가 오프되어 트랜지스터(Q1)의 베이스에 고전위 신호가 가해지며, 엔모스(NM3) 및 쇼트키트랜지스터(Q12)가 오프된다.
이에 따라 트랜지스터(Q1)가 온되며 출력단자(VO)로 고전위신호가 출력된다.
이와 같은 본 고안의 인버터는 제4도에 보인 것과 같이 하나의 반도체소자상에 형성되는 것으로, 쇼트키트랜지스터(Q11) 및 쇼트키다이오드(D1)에 의해 입력단의 잡음이 차단되고, 트랜지스터(Q1)에 의해 래치업현상이 방지되며, 쇼트키다이오드(D2)에 의해 고전위에서 저전위로의 전달지연시간(Propagation Delay Time)이 개선되고, 쇼트키트랜지스터(Q12)에 의해서는 출력구동력과 칩면적이 줄어드는 효과가 있다.
Claims (1)
- 입력단자(Vi)가 저항(R1)을 통해 전원(Vcc)에 역방향 접속된 쇼트키다이오드 (D1)의 애노우드와 자기바이어스된 쇼트키트랜지스터(Q11)의 콜렉터에 공통접속됨과 아울러 피모스(PM1)와 엔모스(NM1), (NM2)의 게이트에 공통접속되고, 상기 피모스(PM1)의 소스와 상기 엔모스(NM1)의 드레인과의 접속점 및 상기 엔모스(NM2)의 소오스와 상기 엔모스(NM3)의 드레인과의 접속점이 각기 트랜지스터(Q1)와 쇼트키트랜지스터(Q12)의 베이스에 접속되며, 상기 엔모스(NM2)의 드레인이 상기 엔모스( NM3)의 게이트, 상기 트랜지스터(Q1)의 에미터, 상기 쇼트키트랜지스터 (Q12)의 콜렉터에 공통접속되어 출력단을 형성하며, 그 접속점이 쇼트키다이오드( D2)를 통해 상기 트랜지스터(Q1)의 베이스에 접속되어 구성된 것을 특징으로 하는 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019890005505U KR930007180Y1 (ko) | 1989-04-29 | 1989-04-29 | 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR2019890005505U KR930007180Y1 (ko) | 1989-04-29 | 1989-04-29 | 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900019368U KR900019368U (ko) | 1990-11-09 |
KR930007180Y1 true KR930007180Y1 (ko) | 1993-10-13 |
Family
ID=19285642
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR2019890005505U KR930007180Y1 (ko) | 1989-04-29 | 1989-04-29 | 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR930007180Y1 (ko) |
-
1989
- 1989-04-29 KR KR2019890005505U patent/KR930007180Y1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900019368U (ko) | 1990-11-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5057715A (en) | CMOS output circuit using a low threshold device | |
JPH041440B2 (ko) | ||
KR880010576A (ko) | 논리회로 | |
US4740718A (en) | Bi-CMOS logic circuit | |
KR910006513B1 (ko) | 바이폴라-상보형 금속산화물 반도체 인버터 | |
JPH0583004B2 (ko) | ||
WO1987003435A1 (en) | Cmos to ecl interface circuit | |
US4612458A (en) | Merged PMOS/bipolar logic circuits | |
US4948990A (en) | BiCMOS inverter circuit | |
US5132569A (en) | High speed Bi-COMS input circuit fabricated from a small number of circuit components | |
US5166551A (en) | High speed output circuit without fluctuation for semiconductor integrated circuits | |
KR930007180Y1 (ko) | 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 | |
JPH0562479A (ja) | 入力バツフア再生ラツチ | |
US5132566A (en) | BiMOS semiconductor integrated circuit having short-circuit protection | |
US5103119A (en) | Ttl-level bicmos driver | |
JPS641325A (en) | Semiconductor device | |
KR940005975B1 (ko) | 출력회로 | |
US5519339A (en) | Complementary signal BiCMOS line driver with low skew | |
JPH0284815A (ja) | 半導体集積回路装置 | |
KR930007181Y1 (ko) | 바이폴라와 씨모스를 이용한 인버터 | |
JP2795046B2 (ja) | 出力バッファ回路 | |
KR0121169B1 (ko) | 바이시모스 버퍼회로 | |
JPH03295314A (ja) | Bi―CMOS論理回路 | |
KR910001097B1 (ko) | 바이씨 모스 인버터 회로 | |
KR970000292Y1 (ko) | 저 잡음형 출력 버퍼 회로 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
REGI | Registration of establishment | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20020918 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |