KR930005666A - 유동층내의 가스 및 고체 미립자의 처리방법 및 장치 - Google Patents

유동층내의 가스 및 고체 미립자의 처리방법 및 장치 Download PDF

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Abstract

유동층의 가스 및 고체를 처리하는 장치로서, 유동층 반응장치는 하향흐름, 혼합챔버, 라이저 파이프 및 혼합챔버와 연결된 고체 귀환파이프를 가진 사이클론을 포함하며, 가스는 혼합챔버의 입구 포트 전위에서 35m/sec 이상의 속도로 혼합챔버로 유입된다.

Description

유동층내의 가스 및 고체 미립자의 처리방법 및 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 혼합챔버의 단면을 나타내는 개략도이다.
제2도는 본 발명의 장치의 단면을 나타내는 개략도이다.

Claims (17)

  1. 가스 및 고체 미립자가 혼합챔버에 유입되고, 혼합챔버로 부터 사이클론으로 공급되기 위하여 가스 및 고체 미립자가 방출되고, 그리고 분리된 고체가 부분적으로 혼합챔버로 재순환되며, 가스가 35m/sec이상의 속도로 혼합챔버로 유입되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 가스가 적어도 입구포트의 직경보다 긴 거리를 대략 일정한 속도로 혼합챔버로 유입되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  3. 제1 또는 2항에 있어서, 4g/cm3이상의 특정 중량을 가진 고체미립자와 혼합된 가스가 60m/sec 이상의 입구속도로 유입되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  4. 제1 내지 3항의 어느 한 항 또는 그 이상에 있어서, 혼합챔버안의 고체입자의 하향의 가장자리 흐름이 혼합챔버로 유입되는 고온 가스의 흐름과 적어도 20°의 각도로 부딪히기 위하여 유도되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  5. 제1항 내지 4항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 고온 환원가스가 적어도 60cm/sec, 바람직하게는 100cm/sec의 입구속도로 혼합챔버에 유입되고, 4g/cm3이상의 특정 중앙을 가진 고체 입자가 혼합챔버의 유동층내의 위치하며, 그리고 혼합챔버로부터의 고체 입자의 세정(wash)이 오직 하향흐름에 영향을 주는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  6. 제1항 내지 제5항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 라이저 파이프의 유동층 온도가 금속광물에 따라서 금속 광물의 환원에 적당한 온도로 조정되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  7. 제1항 내지 제6항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 유동층 온도가 750℃내지 1050℃, 바람직하게는 900℃로 철광석을 환원시키기 위하여 조정된 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 미립자를 처리하는 방법.
  8. 제1항 내지 제7항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 혼합챔버내의 유동층 온도가 혼합챔버의 내장된 내부표면을 강제 냉각시키는 비율을 변화시키거나, 냉각제를 변화시키거나, 냉각제 유동속도를 변화시키거나, 광석공급 속도를 변화시키거나, 냉각 작용제나 또는 가열작용제를 첨가함으로써 조정하는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  9. 제8항에 있어서, 혼합챔버의 온도가 모든 상술한 단계를 결합하거나 또는 몇 몇의 상술한 단계를 결합하거나 하나의 단계에 의하여 조정되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법
  10. 제1항 내지 제9항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 혼합챔버가 환원가스, 특히 용련 환원베슬로부터의 폐기가스용의 가스냉각기로 사용되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  11. 제1항 내지 제10항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 고체 입자 및 가스 현탁액의 생성물 흐름농도가 혼합챔버내에서 10 내지 200kg/m3, 바람직하게는 20 내지 100 kg/m3로 조정될수 있으며 사이클론 앞에서의 라이저 파이프에서 2 내지 30kg/m3바람직하게는 3 내지 10kg/m3로 조정될 수 있는것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체 미립자를 처리하는 방법.
  12. 제1항 내지 제11항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 고온가스가 가스터빈 연소기, 가스화기 또는 고온가스를 발생시키는 또다른 고온 처리공정으로부터 35 내지 80m/sec의 가스속도로 혼합챔버로 유입되고, 그것에 의하여 주로 4 내지 200 마이크로미터의 입자크기와 4g/cm3미만의 특정질량을 가진 고체 입자가 유동층내에 존재하며, 고체 입자가 흐름을 거슬러 가스 공급 파이프로 탈출하지 못하는 것을 특징으로 하는 유동츙내의 가스 및 고체미립자를 처리하는 방법.
  13. 본질적으로 하향유체, 혼합유체, 라이저 파이프 및 혼합챔버로 연결된 고체 귀환 파이를 가진 사이클론을 포함하는 유동층 반응장치로서, 혼합챔버는 가스용 가스공급 파이프를 가지며, 이 가스공급 파이프는 1보다 큰 길이 대 직경 비 I/D를 가지며, 그리고 혼합챔버가 70℃이하의 원추 경사각을 가진 하부 원추 베슬을 갖는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 처리하는 장치.
  14. 제13항에 있어서, 혼합챔버의 하부 원추부가 45°및 70°사이의 원추 경사각을 갖는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 처리하는 장치.
  15. 제13항 또는 14항에 있어서, 혼합챔버의 금속외벽이 전체 또는 부분적으로 강제 냉각, 바람직하게는 물에 의하여 냉각되는 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 처리하는 장치.
  16. 제13항 내지 제15항이 한 항 또는 그 이상에 있어서, 혼합챔버의 내벽에 전체 또는 부분적으로 하나 또는 다수의 내화 라이닝층이 설치된 것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 처리하는 장치.
  17. 제13항 내지 16항의 한 항 또는 그 이상에 있어서, 혼합챔버의 가수입구포트에 부가적인 가스를 유도하기 위한 링 노즐이 설치된것을 특징으로 하는 유동층내의 가스 및 고체를 처리하는 장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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