KR930004543B1 - Mirror finish polisher - Google Patents
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Abstract
내용 없음.No content.
Description
제1도는 본 발명의 1실시예를 표시하는 전해-연마입자의 복합연마장치의 중요부분 단면도.1 is a cross-sectional view of an essential part of a composite polishing apparatus of electrolytic-polishing particles showing one embodiment of the present invention.
제2도는 상기한 연마장치에 있어서의 공구의 일부 파단정면도.2 is a partially broken front view of the tool in the polishing apparatus described above.
제3도는 상기한 연마장치에 의한 연마의 상태를 표시하는 중요부분 단면도.3 is an essential part cross sectional view which shows the state of grinding | polishing by said grinding | polishing apparatus.
제4도는 상기한 연마장치를 사용한 자동연마장치의 구성을 표시하는 일부 절정면도.4 is a partial sectional view showing the configuration of the automatic polishing apparatus using the polishing apparatus described above.
제5도는 제4도의 일부 절결측면도.5 is a partially cutaway side view of FIG.
제6도는 상기한 자동 연마장치의 2차원적 자동이송장치에 대한 제1도의 연마장치의 부착구조를 표시하는 측면도.6 is a side view showing the attachment structure of the polishing apparatus of FIG. 1 to the two-dimensional automatic transfer apparatus of the above-described automatic polishing apparatus.
제7도는 자동이송장치의 중요부분 정면도.7 is a front view of an important part of the automatic transfer device.
제8도는 제7도에 있어서의 (A)-(A)선 단면도.FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line (A)-(A) in FIG. 7. FIG.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명* Explanation of symbols for main parts of the drawings
10 : 연마장치 12 : 회전구동기10: grinding apparatus 12: rotary actuator
12 : 회전축 20 : 공구12: axis of rotation 20: tool
21 : 공구기판 30 : 점탄성연마체21: Tool board 30: Viscoelastic polishing body
24 : 표면판 25 : 배면판24: surface plate 25: back plate
26 : 액체저류부 30 : 액체유출구26: liquid reservoir 30: liquid outlet
31 : 공급개구 33 :급전용슬라이드부재31: supply opening 33: slide feeder
38 : 공급관 45 : 피가공물38: supply pipe 45: workpiece
53 : 자동이송장치 54 : 이동대53: automatic transfer device 54: moving table
70,71 : 가이드70,71: Guide
본 발명은 피가공물 표면을 경면가공(mirror-finishing)하기 위한 연마장치에 관한 것이며, 보다 상세하게 설명하면, 일반적인 전해 가공 등에 있어서 형상 정밀도를 개선하는 경우에 비하여 가공속도 내지 가공량이 대단이 작고, 최종적으로 1/100㎛정밀도까지 표면조도의 개선을 행하기 위한 연마장치에 관한 것이다. 경면가공된 스텐레스 강판은 건축관련 내.외장에 사용되고 있는 외에, 실리콘 태양전지용 기판 등에도 용도가 확대되고 있지만, 요사이 경면가공의 정도에 대한 사용자측의 인식이 점차 엄격하게 되어 가고 있으며, 종래의 버프연마(buffing)로 가공된 저립선이 발견되는 것을 준경면(準鏡面)으로 구별하여 취급되는 한편, 완전한 경면에 대한 수요가 증대되고 있었다.The present invention relates to a polishing apparatus for mirror-finishing the surface of the workpiece, more specifically, the processing speed to the processing amount is much smaller than the case of improving the shape precision in general electrolytic machining, Finally, the present invention relates to a polishing apparatus for improving surface roughness to 1/100 탆 precision. Although mirror-machined stainless steel sheet is used for interior and exterior of construction, its use is expanding to silicon solar cell substrates, etc., but the user's perception on the degree of mirror surface processing of Yosai is becoming increasingly strict. The discovery of buffing milled gland was treated as a semi-mirror surface, while the demand for complete mirror surface was increasing.
또 종래의 버프연마에서는 분진이 심하고, 그것을 억제하여 작업환경을 개선하는 것이 대단히 곤란하다고 하는 문제도 있다. 이와같은 버프연마 대신에 피가공물 표면을 완전한 경면으로 연마하는 기술에 있어서, 연마의 대상이 되는 피가공물 표면이 평면이나 원통면 등의 특정한 기하학적인 면에 한정되는 경우에 연마장치는 용이하게 개발할 수 있는 가능성이 있으나, 임의로 만곡하는 자유곡면의 연마에도 작용할 수 있는 연마장치는 그 개발에 곤란성이 있고, 만족할 만한 장치는 아직 제안되어 있지 않다.In addition, in the conventional buff polishing, there is a problem that the dust is severe and it is very difficult to suppress it and improve the working environment. Instead of such buffing, the polishing device can be easily developed when the surface of the workpiece is polished to a specific geometric surface such as a plane or a cylindrical surface. There is a possibility that the polishing apparatus which can also act on the polishing of a free curved surface arbitrarily has a difficulty in its development, and a satisfactory apparatus has not yet been proposed.
또한 상기한 자유곡면의 경면연마는, 곡면의 요철에 따라서 자동적으로 행하여지는 것이 지극히 효과적이지만 일반적인 기술에 의하여 그것을 실현하는 경우에는, 자유곡면의 형상을 사전에 계측하거나 혹은 계측하면서 그 형상에 따라 공구를 이동시켜 되기 때문에 자동화를 위한 설비가 대단히 복잡하고 고가로 된다.In addition, it is extremely effective that the above-described mirror polishing of the free curved surface is performed automatically according to the irregularities of the curved surface, but in the case of realizing it by a general technique, the tool according to the shape while measuring or measuring the shape of the free curved surface beforehand Since it moves the equipment for automation is very complicated and expensive.
상기한 결점을 해소하기 위한 본 발명의 목적은 경면가공용 연마장치의 하기와 같다. ①다소의 요철을 보유하는 피가공물의 표면이나 임의의 자유곡면의 경면가공에 적용할 수가 있으며, 또한 가공부위에 연마용 액체를 안정적으로 공급하면서 피가공물의 경면연마를 행할 수가 있도록 한다. ②연마부분의 냉각, 연마에 의해서 제거된 미세한 절삭분의 배출, 필요에 따라서 액체의 혼입하는 유리연마체의 균일한 공급 및 전해-연마입자의 복합연마를 실시하는 경우의 전해작용 등에 요하는 비교적 소량의 액체를 공급하는데 적합한 구성을 보유토록 한다. ③연마용 액체를 공구기판의 배면과 중심의 공급 개구를 통하여 공구기판내에 대기에 개발한 액체 저류부에 일시적으로 보존유지시키며, 이것에 회전기판의 회전에 수반하는 원심력으로 유출시키도록 하여 액체의 공급에 커다란 압력을 필요로 하지 않고 그것에 의해서 장치를 대단히 간단화한다. ④공구기판을 전극으로 하여 전해연마체의 복합연마를 실시할 수 있도록 한다. 이와같은 전해-연마체의 복합연마를 실시하도록 장치를 구성할 수 있다고 하는 것은, 상기와 같이 경면 가공을 행하기 때문에 형상가공을 행하는 경우에 비해서 가공량이 대단히 적고, 따라서 전해액이 거의 필요치 않다고 하는 인식으로 부터 실현될 수 있는 것이다. ⑤공구에 연마용 액체 또는 전해액의 보유성이 우수한 구성을 가지게 하고, 그것에 의해서 기본적으로 수평인 자유곡면 뿐만 아니라 수직에 가까운 면에서도 경면연마를 할 수 있도록 한다. ⑥자유곡면의 전해연마체의 복합연마를 그 자유곡면에 따라서 자동적으로 행하여 지도록 한다. ⑦자유곡면의 전해연마체의 복합연구를 그 자유곡면에 따라서 자동적으로 행하기 위한 장치를, 간단한 2차원적 자동이송장치를 이용한 간단하고 값이 싼 구성의 것으로 한다.An object of the present invention for eliminating the above-mentioned drawbacks is as follows of a mirror polishing machine. (1) It can be applied to the mirror surface processing of the surface of the workpiece or any free curved surface which has some irregularities, and the mirror polishing of the workpiece can be performed while stably supplying the polishing liquid to the processing site. (2) comparatively required for cooling of the polished part, discharging fine cutting powder removed by polishing, uniform supply of glass abrasive bodies into which liquid is mixed, and electrolytic action in the case of performing complex polishing of electro-polishing particles, if necessary Have a configuration suitable for supplying small amounts of liquid. (3) The polishing liquid is temporarily stored in the liquid reservoir developed in the atmosphere in the tool substrate through the back of the tool substrate and the center supply opening, and the liquid is discharged by centrifugal force accompanying the rotation of the rotating substrate. The supply does not require great pressure and thereby greatly simplifies the device. ④ Combine polishing of electrolytic polishing body using tool board as an electrode. The fact that the apparatus can be configured to perform such a complex polishing of electrolytic-polishing bodies is that the amount of processing is very small compared to the case of the shape processing because the mirror processing is performed as described above, so that the electrolyte solution is rarely needed. It can be realized from. (5) The tool shall have a structure having excellent retention of polishing liquid or electrolyte solution, and thereby be able to perform mirror polishing not only on the horizontal freely curved surface but also on the vertical surface. (6) Compound polishing of electrolytic polishing bodies on a free-form surface shall be automatically performed according to the free-form surface. (7) A device for automatically conducting a complex study of electrolytic polishing bodies on a free curved surface according to the free curved surface shall have a simple and inexpensive configuration using a simple two-dimensional automatic transfer device.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 경면 가공용 연마장치는, 회전구동기의 회전축 선단에 설치되는 공구기판을, 원판상의 표면판과, 그 표면판의 배면 주위에 액체 저류부를 형성하는 배면판을 둘레 가장 자리에 있어서 일체적으로 접합하여 구성하고, 이 공구기판에 있어서의 배면판의 중심에 있어서 회전축과의 사이에 연마용 액체의 공급 개구를 설치하여, 이 개구에 액체의 공급관을 개수상태로서 면하게 하고, 상기한 표면판에 있어서의 둘레가장자리에서 약간 내측 근처 위에 다수의 액체 유출구를 설치하며, 이 표면판에 통액성(通液性)이 있는 점탄성 연마체를 부착하고, 이 점탄성 연마체의 표면을, 연마체를 보존유지하고 도한 피가공물의 표면에 따라서 변형가능한 가공면으로 한 것을 특징으로 하는 것이다.In order to achieve the above object, in the mirror polishing apparatus of the present invention, a tool substrate provided at the front end of a rotating shaft of a rotary actuator includes a surface plate on a disk and a back plate for forming a liquid reservoir around the rear surface of the surface plate. It is formed by joining integrally at the edge, and at the center of the back plate of the tool board, a supply opening for polishing liquid is provided between the rotating shaft, so that the supply pipe of the liquid is faced in this opening in a repaired state. In addition, a plurality of liquid outlets are provided on the inner side of the surface plate slightly above the inner periphery, and a liquid-tight viscoelastic abrasive body is attached to the surface plate, and the surface of the viscoelastic abrasive body It is characterized in that the working surface which is deformable according to the surface of the workpiece which preserve | saves an abrasive body is also characterized by the above-mentioned.
이와같은 구성을 보유하는 연마장치는 공구 기판내에 액체의 공급개구를 통하여 액체를 공급하면서 회전구동기로 회전시키면, 피가공물의 표면에 다소의 요철이 있어도 점탄성 연마체가 그 요철형상에 따라서 변형하고 그것에 적응하므로써, 임의의 자유곡면의 경면가공이 가능하게 되며, 그때 공구기판내에 공급된 액체는 그 주변부의 액체 저류부에 일시적으로 저류된 후 공구의 회전에 따르는 원심력으로서 점탄성 연마체와 피가공물과의 접촉부분의 전체에 차례로 안정공급되어, 예컨대 공구기판의 중심에서 가압한 상태로 액체를 공급하는 경우와 같이 피가공물의 표면의 쵸요 등에 의하여 점탄성 연마체의 접촉압력이 낮은부분, 혹은 점탄성 연마체와 피가공물 표면과의 사이에 있어서 간극이 생겨 있는 부분에 주된 흐름이 생기는 것 같은 일은 없고, 액체의 흐름이 점탄성 연마체의 전체에 대략 균일화되고, 그 때문에 점탄성 연마체의 주변의 일부만을 피가공물에 접촉시켜서 연마하는 것도 가능한 것이다.When the polishing apparatus having such a configuration rotates with the rotary actuator while supplying liquid through the supply opening of the liquid in the tool substrate, even if there are some irregularities on the surface of the workpiece, the viscoelastic abrasive body deforms and adapts to the irregularities. This makes it possible to mirror any free curved surface, at which time the liquid supplied into the tool substrate is temporarily stored in the liquid reservoir at its periphery, and then contacted with the viscoelastic abrasive and the workpiece as a centrifugal force following the rotation of the tool. A part that is stably supplied to the whole part in order, for example, when the liquid is supplied in a pressurized state at the center of the tool substrate, such as when the surface of the workpiece is low, or a part where the contact pressure of the viscoelastic abrasive is low, or the viscoelastic abrasive is Thing that main flow occurs in the part where the gap occurs between the workpiece surface There, the flow of the liquid is substantially uniform throughout the visco-elastic polishing member, so it is possible to polish into contact only a portion of the periphery of the viscoelastic abrasive body to the workpiece.
이하, 본 발명에 대하여 도면을 참조하면서 상세히 설명한다. 도면은 본 발명의 연마장치를 전해-연마체의 복합연마장치로허 구성한 경우를 표시하는 것이다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail, referring drawings. The figure shows the case where the grinding | polishing apparatus of this invention is comprised with the electrolytic-polishing complex grinding | polishing apparatus.
즉 제1도에 표시하는 전해연마체의 복합연마장치(10)는 피스톨형을 이루는 장치본체(11)내에, 모우터로 이루어진 회전구동기(12) 및 그 출력측에 설치한 감속장치(13)를 구비하고 그것들에 의해서 회전하는 회전축(14)을 장치본체(11)에서 도출하고, 그 선단에 공구(20)를 부착하고 있다.That is, the
상기한 공구(20)는 제1도 및 제2도에서 알수 있는 바와같이, 전해연마를 위한 전극으로서도 기능시키기 위하여 도전성을 보유하는 동(銅), 기타 재료에 의하여 형성한 대략 원판상의 공구기판(21)과, 그 표면에 부착하는 점탄성 연마체(22)를 주체로 하여서 구성되어 있다.As can be seen from FIGS. 1 and 2, the
상기한 공구기판(21)은 회전축(14)의 선단에 부착하는 원판상의 표면판(24)과, 그 표면판의 배면주위에 액체저류부(26)를 형성하는 배면판(25)을, 둘레 가장자리에 있어서 일체적으로 접합하여 구성한 것으로써, 상기한 표면판(24)에는 그 중앙에 회전축(14)에 부착하기 위한 나사(28)의 머리부분이 몰입하는 오목부(29)를 설치함과 아울러, 둘레 가장자리에서 약간 내측 근처 위치에 다수의 액체 유출구(30)를 설치하고, 또 상기한 배면판(25)에는, 그 중심에 회전축(14)과의 사이에 액체의 공급개구(31)를 형성함과 아울러, 그 공급개구(31) 주위에 후술하는 전해용전류를 공급하는 급전용 슬라이드 부재(33)를 접촉시키기 위한 슬라이드 접촉면(32)을 형성하고 있다.The
상기한 공구기판(21)의 표면에 부착하는 점탄성 연마체(22)는 발포폴리우레탄, 기타의 합성수지 발포체등의 스폰지상 부재, 혹은 나일론 부직포와 같은, 통액성을 보유하는 점탄성체로 구성하며, 그것을 공구기판의 표면에 부착하도록 한 것으로서, 도면 표시한 바와같이 스폰지상부재에 의하여 형성한 경우에는, 그 내부에 오목개소(34)를 형성하여 그것을 공구기판(21)에 설치하고, 또한 점탄성 연마체(22)와 그 중심부에 맞대기판(35)을 공구기판(21)과 함께 회전축(14)에 나사(28)로 고정 하므로써 그들을 회전축에 부착할 수가 있다.The viscoelastic
또 나일론 부직포로 된 점탄성 연마체(22)를 사용하는 경우에는, 그 주변부분을 공구기판(21)의 표면에 접착하거나 혹은 소정수단으로써 고정하고, 그 다음에 맞대기판(35)을 맞닿게 하여 회전축(14)에 나사(28)로서 고정하면 좋다.In the case of using a viscoelastic
또 상기한 점탄성 연마체(22)는, 그 표면 또는 내부 전체에 연마입자를 분산 유지시켜서 놓을 수가 있으며, 그 경우에는 알루미나 등의 연마입자를 혼합한 합성수지본드에 의하여 나일론 부직포등에 연마입자를 접착상태로 고정적으로 보전시키거나 혹은 그와 같은 연마입자의 고정을 행하는 일없이 유리된 상태의 연마입자를 부직포의 체눈에 지지시키도록 할 수도 있다.The above-described viscoelastic
상기한 표면판(24)에 설치한 다수의 액체 유출구(30)는 상기한 공구기판(21)의 둘레 가장자리에서 약간 내측 근처에 설치하고, 공구기판(21)내의 주변부에는 연마용 액체 또는 전해액의 액체 저류부(26)를 형성하며, 이 액체 저류부(26)에 그들 액체를 일시적으로 저류하여 다수의 액체유출구(20)로 부터 액체를 안정적으로 공급할 수 있도록 하는 것이다.The plurality of
따라서, 공구(20)가 회전하는 동안에 액체유출구(30)로부터 연마용 액체 또는 전해액이 차례로 유출하고, 그 액체가 공구의 회전에 수반하는 원심력으로 주로 공구(20)주변에 있어서의 점탄성 연마체(22)와 피가공물과의 접촉부분에 공급된다.Therefore, while the
또한, 공구(20)가 액체의 보유성이 우수하기 때문에, 수평인 자유곡면뿐만 아니라 수직에 가까운 곡면에서도 액체를 안정적으로 공급하여 연마할 수가 있다.In addition, since the
액체 공급관(38)은 공구(20)의 주변에 있어서의 연마작용 부분에 대하여 연마용 액체 또는 전해액을 공급하기 위한 것으로써, 장치본체(11)의 일단에 송급구(40)를 개구시키고, 또, 장치 본체내를 통하여 상기한 공구기판(21)의 배면판(25)의 중심에 설치한 회전축(14)주위의 액체의 공급개구(31)안으로 타단의 송출구(41)를 개구상태로서 위치하게 하고 있다.The
이와같이 연마용 액체 또는 전해액은 대기에 개방한 액체저류부에 주입하는 것뿐이며, 그 때문에 그들 액체를 압송하기 위한 설비를 대단히 간단한 것으로 할 수 있는데, 예컨대 액체를 수용한 용기를 연마장치보다도 약간 높게 위치시키는 것만으로 펌프 등을 사용할 필요가 없다.In this way, the polishing liquid or the electrolyte is only injected into the liquid reservoir open to the atmosphere, and therefore, a facility for transporting these liquids can be made very simple. For example, the container containing the liquid is positioned slightly higher than the polishing apparatus. It is not necessary to use a pump or the like just to make it.
상기한 점탄성 연마체(22)에 연마입자를 보존유지시키는 대신 혹은 이것에 더하여 이 액체의 공급관(38)을 통하여 송급하는 연마용 액체, 혹은 전해액중에 유리연마입자를 혼입시킬 수 있고, 특히, 미세한 입자에 의한 연마를 행하는 경우에는 이 유리연마입자를 사용하는 것이 잇점이 크고, 점탄성 연마체(22)의 전체에 대하여 연마입자의 균일한 공급을 행할 수가 있다.Instead of storing or retaining the abrasive particles in the above-mentioned viscoelastic
전해를 위한 전류를 공급함이 없이 연마입자만을 이용하여 연마하는 경우, 상기한 공급관(38)을 통하여 공급하는 액체는, 연마부분의 냉각, 연마에 의해서 제거된 미세한 절삭분의 배출등의 작용을 행하며, 전해의 경우와 마찬가지로 비교적 소량의 액체로 기대치를 만족하는 기능을 발휘시킬 수가 있다.When polishing using only abrasive particles without supplying electric current for electrolysis, the liquid supplied through the
장치본체(11) 말단의 급전단자(43)는, 급전용 슬라이드부재(33) 및 그것에 접촉하는 슬라이드 접촉면(32)를 통하여 전극공구(20)에 전해용 전류를 공급하기 위한 것으로써, 피가공물을 플러스극, 전극공그(20)를 마이너스극으로 하여서 그들을 도면표시하지 않은 전원에 접속할 수 있도록 구성하고 있다. 또한, 도면중, 부소(44)는 회전구동기(12)를 회전시키는 스위치 조작부재를 표시하고 있다.The
이러한 구성의 전해-연마입자 복합연마장치는 그것을 휴대용으로 하여 피가공물 표면의 소정취지에 수동으로 가볍게 압접하거나 혹은 수평면내에 있어서 자유롭게 이동할 수 있는 이동대를 갖춘 자동이송장치(비도시)를 부착하여 그 연마를 행하는 것으로서, 제3도에 표시한 바와같이 피가공물(45)에 있어서의 자유곡면의 연마시에는, 액체의 공급관(38)을 통하여 전극공구(20)에 NaNO3또는 KNO3등의 수용액을 공급하면서 적극공구(20)와 피가공물(45)의 사이에 몇 볼트 내지 십여볼트의 전압으로 몇 암페어의 전류를 흐르게 하고, 또한 회전구동기(12)에 의하여 공구(20)를 회전시키면서 전해와 연삭입자의 복합작용에 의하여 연마한다.The electrolytic-polishing particle polishing apparatus having such a configuration is made by carrying it by hand and lightly presses it to a predetermined effect on the surface of the workpiece or by attaching an automatic transfer device (not shown) equipped with a movable table which can move freely in a horizontal plane. As shown in FIG. 3, when polishing the free-form surface in the
이 경우에, 전극공구(20)에 있어서의 점탄성 연마체(22)의 주변부분을 피가공물(45)의 자유곡면에 압접한 상태로 가공할 수도 있다.In this case, the peripheral portion of the viscoelastic
상기한 전극공구(20)는 그 직경을 12cm정도로 한 경우, 회전구동기(12)에 의한 수백 rpm이하의 회전속도에 있어서, 다소의 요철을 보유하는 피가공물 표면에 압접하여도 그 점탄성 연마체(22)의 주변부분이 피가공물 표면형상에 따라서 변형하여, 그 표면에 적응하므로써 그것을 경면연마할 수가 있다.When the
이 경우, 점탄성 연마체(22)와 피가공물(45)과의 접촉면에 있어서의 피가공물 표면의 블록부에 대한 공구(20)의 내리누르는 압력은 당연히 그 접속면중의 오목부에 대한 압력보다도 크며, 따라서 그 볼록부에 있어서는 연마입자 등에 의한 제거량이 커진다.In this case, the pressing pressure of the
그러나 표면조도로서는 비교적 큰 블록부 및 오목부에 있어서 양자를 동일한 정도의 가공상태로 할 수가 있으므로, 형상정밀도를 문제삼지 않을 경우에 능률적인 연마를 행할 수가 있다.However, as surface roughness, both of the relatively large block portions and concave portions can be processed to the same degree, so that efficient polishing can be performed when the shape accuracy is not a problem.
또한 전해액은 예컨대 매분, 1 이하의 적은 유량으로 하는 것이 좋다.In addition, it is good to set electrolyte solution to a small flow volume of 1 or less, for example.
이와 같은 전해-연마입자 복합연마는 각종 금속재료 제품의 자유곡면의 연마에 적용할 수가 있으나, 특히 스텐레스강 등의 표면연마에 적합한 것이다.Such electrolytic-polishing particle composite polishing can be applied to the polishing of free curved surfaces of various metal material products, but is particularly suitable for surface polishing of stainless steel.
제4도 내지 제8도는 상기한 전해-연마입자 복합연마장치(10)를 이용한 자동연마장치를 구성을 표시하고 있다.4 to 8 show the configuration of the automatic polishing apparatus using the electrolytic-polishing particle
이 자동연마장치는 제4도 및 제5도에 표시한 바와 같이, 직육면체의 각 능선에 따라서 재치한 앵글을 접합하여 이루어진 프레임(50)을 구비하고, 이 프레임(50)의 상면에 부착한 지자판(51)에 2차원적 자동이송장치(50)를 구비하고, 이 프레임(50)의 상면에 부착한 지지판(51)에 2차원적 자동이송장치(53)를 부착하고 있다.As shown in FIGS. 4 and 5, the automatic polishing apparatus includes a
이 자동이송장치(53)는 상기한 연마장치(10)를 부착한 이동대(54)를, 수평면내에 있어서, 서로 직교하는 XY방향으로 자유롭게 이동시키도록 한 것으로써, 지지판(51)에 부착한 기판(55)의 양단의 1쌍의 지지부재(56),(57)사이에, 서로 평행한 1쌍의 X방향 안내봉(58)(58)를 부착함과 아울러, 기판(55)에 부착한 모우터(59)로서 회전구동되는 이송나사(60)를 회전이 자유자재롭게 지지시키고, 상기한 X방향 안내봉(58)(58)을 슬라이드작동이 자유자재롭게 삽입관통 시키므로써 X방향의 이동을, 안내된 X방향 이동대(61)에 상기한 이송나사(60)를 나사식으로 삽입하고 있다.The
따라서 모우터(59)의 화전에 의하여 이송나사(60)를 회전시키면 X방향 이동대(61)가 X방향 안내봉(58)(58)에 안내되어서 X방향으로 이송된다.Therefore, when the
또 상기한 X방향 이동대(61)에는 X방향 안내봉(58)(58)과 직각으로 교차하는 방향으로 1쌍의 Y방향 안내봉(63)(63)을 슬라이드 자재하게 삽입관통함과 아울러 이송나사(64)를 나사식으로 삽입하고 있다.In addition, the pair of Y-
이들의 Y방향 안내봉(63)(63)은 상기한 이동대(54)양단의 지지부재(65)(66)사이에 고정하고, 또 상기한 이송나사(64)는 양 지지부재(65)(66)에 회전자재하게 지지시킨 것이다. 그리고 상기한 이송나사(64)의 일단은 이동대(54)상에 설치한 모우터(68)에 연결하고 있다.These Y-
따라서 모우터(68)를 회전시키므로써 이동대(54)가 X방향 이동대(61)에 대해서 상대적으로 Y방향으로 이동하게 된다.Therefore, by rotating the
상기한 자동이송장치(53)에 있어서의 각 모우터(59)(68)는 도면표시하지 않은 제어기(controller)에 접속되어서 그 구동이 제어되는 것이다. 이 제어기는 이동대(54)를 미리 설정한 경로에 따라서 이동 시키도록 모우타(59)(68)의 구동을 제어하는 것으로써, 각종의 2차원적 이송장치에 사용되고 있는 공지의 것을 이용할 수가 있다.Each of the
제6도 내지 제8도에 상세하게 표시한 바와같이, 상기한 이동대(54)에는 연마장치(10)를 XY평면에 대하여 수직인 Z방향으로 슬라이드 자재하게 부착하기 위하여 1쌍의 가이드(70)(71)을 대향상태로 수직설치하고 있다.As shown in detail in Figs. 6 to 8, the pair of
이 가이드(70)(71)에는 그 길이방향에 각각 가이드 장공(72)(73)을 설치하고 있다.Guide long holes 72 and 73 are provided in the
한편, 상기한 연마장치(10)의 홀더(74)는, 지지부재(77)(78)를 돌출설치한 1쌍의 분할편(75)(76)과, 그것들에 대향 설치한 분할지지편(79)(80)과, 상기한 분할편(75)(76)을 연결하는 연결판(81)을, 볼트(82)(83)에 의하여 일체화하고, 그들 사이에 연마장치(10)를 고정하도록 한 것이다.On the other hand, the
그리고 분할편(75)(76)에 부착한 지지부재(77)(78)에는 외주면이 4각형상을 이루는 슬라이드부재(85)(86)를 회전자재하고 감합하고 나비형 너트(87)(88)에 의하여 고정하며, 이 슬라이드부재(85)(86)를 상기한 가이드(70)(71)의 장공(72)(73)에 슬라이드 자재하게 감삽하고 있다.The
경사각도를 표시한 각도지시판(89)은 상기한 슬라이드부재(85)에 고정한 것이며, 화살표시판(90)은 상기한 지지부재(77)에 축방향으로는 슬라이드 동작하지만 회전불가능하게 끼워넣은 것이다.The
따라서 제4도에 표시한 바와같이, 연마장치(10)를 소정각도로 경사시킨 상태에서 나비형 너트(87)(88)를 체결하므로써, 각형의 슬라이드 부재(85)(86)를 그 방향으로 고정하면, 연마장치(10)는 그들의 슬라이드부재(85)(86)가 가이드(70)(71)의 장공(72)(73)내를 자유롭게 슬라이드하기 때문에 그 각도를 유지한 채로 자유롭게 Z방향으로 슬라이드하게 되며, 그, 경사각도는 각도지시판(89)의 각도표시에 대한 화살표시판(90)의 방향에 의해서 알 수가 있다.Therefore, as shown in FIG. 4, by tightening the
상기한 슬라이드부재(85)(86)가 가이드(70)(71)의 장공(72)(73)을 슬라이드하는 경우의 미끄럼저항이 문제되는 경우에는, 그와같은 2부재의 미끄럼저항을 경감시키도록 배려한 공지의 각종 리니어슬라이드(linerslide)기구를 사용할 수가 있다.In the case where the sliding resistance when the
상기한 구성을 보유하는 자동연마장치에 있어서는 프레임(50)내에 피가공물을 설치하고, 그 피가공물을 표면의 요철형상에 따라서 연마장치(10)를 소정각도로 경사시키며, 그 상태에서 제3도에서 설명한 바와같이 점탄성 연마체의 주변부분을 피가공물 표면에 접촉시킨다.In the automatic polishing apparatus having the above-described configuration, a workpiece is provided in the
그리고 피가공물이 형상에 따라서 이동대(54)를 이동시키는 적절한 경로를 미리 제어기에 설정해 놓고, 그 경로에 다러서 이동대(54)를 2차원적으로 이동시킨다.Then, an appropriate path for moving the movable table 54 according to the shape of the workpiece is set in advance in the controller, and the movable table 54 is moved two-dimensionally along the path.
상기한 자동연마시에 전극공구의 회전축의 경사각도는, 그 회전축이 피가공물과 점탄성 연마체의 접촉면에 대하여 항상 앞에서 설명한 적절한 각도범위로 보전되어 있는 것이 필요하지만 그것이 불필요한 경우에는 연마가공의 도중에 일단 가공을 중지하고, 상기한 경사각도를 바꾼 다음에 다시 자동연마를 계속하면 좋다. 상기한 2차원적 이송장치(53)에 의하여 연마장치(10)가 2차원적으로 이동하는 사이에, 상기한 점탄성 연마체는 연마장치(10)의 자중에 의하여 피가공물 표면을 억누르며, 따라서 연마장치(10) 자체의 중량을 적절하게 설정해 놓을 필요가 있다. 연마장치 자체의 중량이 필요한 만큼의 압압력을 얻기 힘든 경우에는, 이동대(54)와 연마장치(10)와의 사이에 스프링을 설치하면 좋지만 연마장치(10)에 의하여 수직인 피가공물 표면을 연마하는 경우에는, 상기한 자동연마장치를 횡형으로 형성하고, 점탄성 연마체의 필요한 압압력을 얻기 위하여 상기한 스프링을 설치하는 것이 필요하게 된다.The angle of inclination of the rotating shaft of the electrode tool during the above-mentioned automatic polishing needs to be maintained at the appropriate angular range described above with respect to the contact surface between the workpiece and the viscoelastic abrasive, but if it is unnecessary, It is good to stop processing, change the inclination angle mentioned above, and continue automatic polishing again. During the two-dimensional movement of the polishing
피가공물 표면에 대한 점탄성 연마체의 압압력은 수십 KPa정도의 경미한 것이므로, 종래의 견고한 연삭숫돌에 비교하여 현저하게 연마입자의 절입량이 적어서 피가공물을 칩핑(chipping)하는 정도이며, 연마시의 마찰저항의 대부분은, 점탄성 연마체와 피가공물과의 사이에서 발생한다고 생각된다.Since the pressure of the viscoelastic abrasive against the surface of the workpiece is only a few tens of KPa, the cutting amount of the abrasive particles is significantly smaller than that of the conventional solid grinding wheel, so that the workpiece is chipped. Most of the frictional resistance is considered to occur between the viscoelastic abrasive and the workpiece.
이와같이 압압력이 경미하므로, 피가공물의 자유곡면의 연마에 있어서는, 상기한 2차원적 이송장치(53)에 의하여 연마장치(10)을 2차원 이송하는 것 만으로써, 그 연마장치(10)을 Z방향으로 자동적으로 이동시켜서 그 피가공물에 따르도록 동작시킬 수가 있다.Since the pressing pressure is small in this manner, in the polishing of the free curved surface of the workpiece, the polishing
상기한 자동연마장치에서는 제1도 내지 제3도에 표시하는 수동조작용 연마장치를 홀더(74)에 부착하여 사용하도록 하고 있으나, 자동연마장치로 전용의 연마장치를 사용할 수 있는 것은 물론이다.In the above-described automatic polishing device, the manual operation polishing device shown in FIGS. 1 to 3 is attached to the
또한 이상이 있어서는, 본 발명의 연마장치를 전해-연마입자의 복합연마장치로서 구성한 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명에 있어서는 위에서 설명한 전해를 위한 장치를 구비하는 일없이 연마입자에 위한 경면연마 만을 행하는 장치로서 구성할 수가 있다.In the above, the case where the polishing apparatus of the present invention is configured as a composite polishing apparatus of electrolytic-polishing particles has been described. However, in the present invention, only mirror polishing for abrasive grains is performed without providing the above-described electrolytic apparatus. It can be configured as a device.
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US5396737B1 (en) * | 1989-01-18 | 1997-12-23 | Minnesota Mining & Mfg | Compound glazing or polishing pad |
US5185964A (en) * | 1989-01-18 | 1993-02-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Compounding, glazing or polishing pad |
JP2966235B2 (en) * | 1993-06-04 | 1999-10-25 | 古舘 忠夫 | Plastic soft grinding wheel |
EP0619165A1 (en) * | 1993-04-07 | 1994-10-12 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article |
US5716259A (en) * | 1995-11-01 | 1998-02-10 | Miller; Paul David | Surface polishing method and system |
US6081959A (en) * | 1996-07-01 | 2000-07-04 | Umbrell; Richard | Buffer centering system |
US6241579B1 (en) | 1997-01-10 | 2001-06-05 | Auto Wax Company, Inc. | Surface polishing applicator system and method |
DE19723987A1 (en) * | 1997-06-06 | 1998-12-10 | Engelbert Gmeilbauer | Grinding tool, in particular for hand-held oscillation devices |
US6105197A (en) * | 1998-04-14 | 2000-08-22 | Umbrell; Richard T. | Centering system for buffing pad |
US6298518B1 (en) | 1998-04-14 | 2001-10-09 | Richard T. Umbrell | Heat dissipating buffing pad |
JP4782214B2 (en) | 2009-04-01 | 2011-09-28 | ジョイボンド株式会社 | Plastic flexible composition for polishing and coating of surface protective material |
DE202011004912U1 (en) | 2011-04-06 | 2011-08-10 | Deckel Maho Seebach Gmbh | polishing tool |
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CN110587460A (en) * | 2019-09-10 | 2019-12-20 | 合肥嘉东光学股份有限公司 | Angle-adjustable plane inclined shaft refiner |
CN111531450B (en) * | 2020-06-19 | 2021-07-30 | 湘潭大学 | Take chip-breaker carbide blade chemical mechanical polishing equipment |
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Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR420551A (en) * | 1909-09-20 | 1911-02-02 | August Puggel | Polishing or varnishing machine for woodworking |
US2309819A (en) * | 1941-04-18 | 1943-02-02 | Carborundum Co | Art of grinding and polishing glass and apparatus therefor |
US3089287A (en) * | 1961-07-11 | 1963-05-14 | Lukens Steel Co | Slab grinder, hydraulic counterbalance and lift control |
FR1374441A (en) * | 1962-08-15 | 1964-10-09 | Micromatic Hone Corp | Improvements in processes and devices for electrolytic rectification |
US3353305A (en) * | 1965-01-27 | 1967-11-21 | Bliss E W Co | Tilted spindle grinder |
US3619401A (en) * | 1968-04-03 | 1971-11-09 | Norton Co | Apparatus for electrodeposition |
US3706650A (en) * | 1971-03-26 | 1972-12-19 | Norton Co | Contour activating device |
US3779887A (en) * | 1972-03-14 | 1973-12-18 | Sifco Ind Inc | Vibratory applicator for electroplating solutions |
JPS4913992U (en) * | 1972-05-06 | 1974-02-05 | ||
US4140598A (en) * | 1976-06-03 | 1979-02-20 | Hitachi Shipbuilding & Engineering Co., Ltd. | Mirror finishing |
JPS58206317A (en) * | 1982-05-25 | 1983-12-01 | Hitachi Zosen Corp | Electrode tool for electrolytic complex mirror machining |
JPS5914113U (en) * | 1982-07-14 | 1984-01-28 | アルプス電気株式会社 | magnetic head |
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