KR930004497A - 레이저어블레이션 장치 - Google Patents

레이저어블레이션 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR930004497A
KR930004497A KR1019920014266A KR920014266A KR930004497A KR 930004497 A KR930004497 A KR 930004497A KR 1019920014266 A KR1019920014266 A KR 1019920014266A KR 920014266 A KR920014266 A KR 920014266A KR 930004497 A KR930004497 A KR 930004497A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
laser
target
ablation
particle
particle decomposition
Prior art date
Application number
KR1019920014266A
Other languages
English (en)
Other versions
KR950006279B1 (ko
Inventor
요시카즈 요시다
유끼오 니시카와
쿠니오 타나카
Original Assignee
다니이 아끼오
마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다니이 아끼오, 마쯔시다덴기산교 가부시기가이샤 filed Critical 다니이 아끼오
Publication of KR930004497A publication Critical patent/KR930004497A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR950006279B1 publication Critical patent/KR950006279B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)

Abstract

내용 없음.

Description

레이저어블레이션 장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 실시예에 있어서의 레이저어블레이션 장치의 도면도.

Claims (4)

  1. 어블레이션용 레이저발진기와, 레이저광을 집광하는 렌즈와, 진공조와, 상기 진공조에 형성된 레이저입사 창과, 상기 진공조내에 있고 레이저가 조사되는 타게트와, 상기 타게트상에 있는 기판홀더를 구비하고, 타게트와 기판홀더사이에 타게크와는 평행으로 입사할 수 있는 입자분해용 레이저발진기와, 타케트의 측면에 설치하고타게트에 평행으로 입자분해용 레이저광을 다중반사시키는 1쌍의 미러를 구비하고, 어블레이션입자에 입자분해용 레이저광을 조사하는 것을 특징으로 하는 레이저어블레이션장치.
  2. 제1항에 있어서, 레이저발진기는 펄스레이저로서 어블레이션용과 입자분해용을 동기시킨 것을 특징으로 하는 레이저 어블레이션장치.
  3. 제1항에 있어서, 입자분해용 레이저는 타게트에 가까운 쪽에서부터 입사되어 기판홀더쪽으로 다중반사된 것을 특징으로 하는 레이저어블레이션장치.
  4. 제1항에 있어서, 입자분해용 레이저는 연속 발진인 것을 특징으로 하는 레이저어블레이션장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019920014266A 1991-08-09 1992-08-08 레이저어블레이션 장치 KR950006279B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3200596A JPH0544022A (ja) 1991-08-09 1991-08-09 レーザーアブレーシヨン装置
JP3-200596 1991-08-09
JP91-200596 1991-08-09

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR930004497A true KR930004497A (ko) 1993-03-22
KR950006279B1 KR950006279B1 (ko) 1995-06-13

Family

ID=16426988

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019920014266A KR950006279B1 (ko) 1991-08-09 1992-08-08 레이저어블레이션 장치

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPH0544022A (ko)
KR (1) KR950006279B1 (ko)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5658891B2 (ja) * 2010-02-24 2015-01-28 株式会社フジクラ 酸化物超電導膜の製造方法
CN113245097B (zh) * 2021-05-07 2024-05-10 广东旭业光电科技股份有限公司 一种光学镜头生产用高效镀膜装置及其方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0544022A (ja) 1993-02-23
KR950006279B1 (ko) 1995-06-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5227608A (en) Laser ablation apparatus
ES2104152T3 (es) Procedimiento para producir una pelicula delgada de polimero mediante evaporacion por laser pulsado.
KR920013655A (ko) 반도체 칩 위치 검출 장치
KR930001305A (ko) 마그네트론 스패터링장치
Srinivasan Interaction of laser radiation with organic polymers
GR3004812T3 (ko)
KR930004497A (ko) 레이저어블레이션 장치
JPH10263873A (ja) レーザ加工装置及び加工方法
CA2083478A1 (en) Method for forming microilluminants
KR920020528A (ko) 핵 시설의 오염 구역내의 레이저 작업방법 및 장치
KR930019853A (ko) 레이저스패터링 장치
JPH0371991A (ja) レーザ加工方法
JPH02270962A (ja) スパッタリング方法
KR960703361A (ko) 레이저 가공장치와 레이저 가공방법 및 댐바 가공방법(laser processing apparatus, laser processing method and dam bar processing method)
KR950010199A (ko) 레이저 광 발사기, 레이저 광 처리장치 및 방법
JPS62204243A (ja) 最大光強度を制限するための装置
JPH05123886A (ja) レ−ザ加工装置
KR970076537A (ko) 광픽업장치
KR940019882A (ko) 레이저 애블레이션장치
Poulain et al. Interactions of intense ultraviolet laser radiation with solid aerosols
KR930001639B1 (ko) 영화필름 자막 조각방법
SU884526A1 (ru) Лазер
GB1261706A (en) Cutting workpieces
JPS57178390A (en) Laser device
FI901186A (fi) Sensor som aer baserad pao ytplasmonresonansfenomenet.

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
G160 Decision to publish patent application
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20020610

Year of fee payment: 8

LAPS Lapse due to unpaid annual fee