KR930000712A - 스테인레스강 표면의 화학적 연마용 중탕과 연마방법 - Google Patents

스테인레스강 표면의 화학적 연마용 중탕과 연마방법 Download PDF

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KR930000712A
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티트게트 다니엘
바텔레미 나탈리
Original Assignee
피. 안토인
솔베이 앤드 시에(소시에떼 아노님)
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내용 없음

Description

스테인레스강 표면의 화학적 연마용 중탕과 연마방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (13)

  1. 수용액으로 염산, 질산과 인산의 혼합물과, 치환 또는 비치환 히드록시 벤조산을 함유함을 특징으로하는 스테인레스강 표면의 화학적 연마용 중탕.
  2. 제1항에 있어서, 아민이 이의 분자에 10개 이상의 탄소 원자를 함유함을 특징으로하는 중탕.
  3. 제2항에 있어서, 아민에서 탄소원자의 수가 11 내지 20개 임을 특징으로하는 중탕.
  4. 제3항에 있어서, 아민이 12-18개의 탄소원자를 갖는 1차 아민임을 특징으로하는 중탕.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 아민이 용액의 리터당 1-100mg의 양으로 수용액에 존재함을 특징으로하는 중탕.
  6. 제1항 내지 제5항중 어느 한 항에 있어서, 중탕이 페리시안화물이온과 페로시안화물 이온을 유리함을 특징으로하는 중탕.
  7. 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 중탕이 과염소산과 과염소산의 수용성염 수용액에서 선택한 첨가제를 함유함을 특징으로하는 중탕.
  8. 제1항 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서 중탕이 수용액으로 아질산을 분해할 수 있는 첨가제를 함유함을 특징으로하는 중탕.
  9. 제8항에 있어서, 아질산을 분해할 수 있는 첨가제를 우레아와 우레아 유도체에서 선택함을 특징으로하는 중탕.
  10. 제1항 내지 제9항중 어느 한 항에 있어서, 중탕이 수용액 리터당.0.5-5몰의 염산,0.005-1몰의 질산, 0.005-1몰의 인산, 0.001-5g의 히드록시벤조산, 0.001-1g의아민, 0-0.5몰의 과염소산과 과염소산의수용성 염에서 선택한 첨가제, 0-0.005g의 아질산을 분해할 수 있는 첨가제로 이루어짐을 특징으로하는 중탕.
  11. 오오스테나이트강 표면을 화학적 연마하는데 사용하는 제1항 내지 제 10항중 어느 한 항에 따른 중탕.
  12. 표면을 화학적 연마용 중탕과 접촉시켜서하는 스테인레스강 표면을 연마하는 방법에 있어서, 제1항 내지 제11항중 어느 하나에 따른 중탕을 사용함을 특징으로하는 연마 방법.
  13. 제12항에 있어서, 중탕의 온도를 20-65℃로 조절함을 특징으로 하는 연마방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019910009860A 1991-06-14 1991-06-14 스테인레스강 표면의 화학적 연마용 중탕과 연마방법 KR930000712A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101367633B1 (ko) * 2013-08-28 2014-03-12 전윤희 반도체 장비용 진공볼트의 무전해 연마 방법

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