KR910008166A - 스테인레스강 표면의 화학적 연마를 위한 배드와 방법 - Google Patents

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KR910008166A
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프랭크 크리스티안
오라인스 장-마리에
Original Assignee
엘. 메이어스
솔베이 앤드 시에(소시에떼 아노님)
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    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Abstract

내용 없음

Description

스테인레스강 표면의 화학적 연마를 위한 배드와 방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (10)

  1. 염산과 질산 혼합물의 수용액으로 이루어지는 스테인레스강 표면의 화학적 연마를 위한 배드에 있어서, 이들이 퀴논 유도체. 계면활성제와 하나 이상의 수산기와 술포네이트기로 치환된 퀴놀린과 나프탈렌에서 선택된 광택제의 수용액으로 이루어짐을 특징으로 하는 상기 배드.
  2. 제1항에 있어서, 퀴논유도체를 치환 또는 비치환 히드록시벤젠에서 선택함을 특징으로 하는 배드.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 계면활성제가 하나 이상의 알킬, 아릴, 알킬아릴 또는 아릴알킬기에 의하여, 페놀기가 치환된 폴리알콕실화 페놀임을 특징으로 하는 배드.
  4. 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, 광택제를 1.8-디히드록시나프탈렌-3.6-디술포네이트 2.3-디히드록시 나프탈렌-7-술포네이트, 4-히드록시-6-아미노나프탈렌-2-술포네이트와 8-히드록시퀴놀린-5-술포네이트에서 선택함을 특징으로 하는 배드.
  5. 제1항 내지 제4항중 어느 한 항에 있어서, 아질산을 분해할 수 있는 첨가제수용액으로 이루어짐을 특징으로 하는 배드.
  6. 제5항에 있어서, 아질산을 분해할 수 있는 첨가제를 요소, 요소 유도체와 술팜산에서 선택함을 특징으로 하는 배드.
  7. 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, 산의 혼합물이 인산과/또는 황산을 함유함을 특징으로 하는 배드.
  8. 제1항 내지 제7항중 어느 한 항에 있어서, 수용액 리터당 다음 성분을 특징으로 하는 배드: ㆍ1.5-5몰의 인산, ㆍ0.05-0.5몰의 질산, ㆍ0-1몰의 인산, ㆍ0-1몰의 황산, ㆍ0.001-0.2몰의 퀴논 유도체, ㆍ0.001-0.05몰의 광택제, ㆍ0-0.7몰의 아질산을 분해할 수 있는 첨가제ㆍ0.5-10㎖의 계면활성제.
  9. 제1항 내지 제8항중 어느 한 항에 있어서, 니켈, 크롬과 몰리브텐과 합금된 오오스테나이트 강철의 표면을 연마함을 특징으로 하는 배드.
  10. 표면을 화학적 연마 배드와 접촉시켜서 하는 스테인레스강 표면을 연마하는 방법에 있어서, 제1항 내지 제7항중 어느 한 항에 따른 배드를 사용하고 배드를 표면과 접촉시에 정체 상태에서 유지함을 특징으로 하는 연마방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900017056A 1989-10-26 1990-10-24 스테인레스강 표면의 화학적 연마를 위한 배드와 방법 KR910008166A (ko)

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