KR920703519A - 자외선 흡수 화합물 및 차광 제제와 이러한 화합물 또는 이것의 잔기를 함유하는 중합체 물질 - Google Patents

자외선 흡수 화합물 및 차광 제제와 이러한 화합물 또는 이것의 잔기를 함유하는 중합체 물질

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KR920703519A
KR920703519A KR1019920700357A KR920700357A KR920703519A KR 920703519 A KR920703519 A KR 920703519A KR 1019920700357 A KR1019920700357 A KR 1019920700357A KR 920700357 A KR920700357 A KR 920700357A KR 920703519 A KR920703519 A KR 920703519A
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제임스 존 크루탁
막스 알렌 위버
클라렌스 알빈 코테스
사무엘 데이비드 힐버트
테리 앤 올드필드
윌리암 화이트필드 파람
웨인 페이톤 프루엣
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존 디. 후써
이스트만 코닥 컴퍼니
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Abstract

내용 없음

Description

자외선 흡수 화합물 및 차광 제제와 이러한 화합물 또는 이러한 잔기를 함유하는 중합체 물질
[도면의 간단한 설명]
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (56)

  1. 다음 일반식을 갖는 화합물.
  3. 식중, R1은 각각 독립적으로 시아노, 카복시, 알케닐옥시카보닐, 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 탄소환식 또는 복소환식 아릴 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알카노일, 시클로알카노일, 또는 아로일라디칼, 치환되지않았거나 치환된 카바모일 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알킬설포닐, 시클로알킬설포닐 또는 아릴설포닐 라디칼로부터 선택되고, R2는 각각 독립적으로 시아노 또는 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼로부터 선택되고, A는 각각 독립적으로 치환되지않았거나 치환된 1, 2-페닐렌 또는 1, 2-나프틸렌 라디칼로부터 선택되고, Z는 각각 독립적으로 -O- 또는 -S-로 부터 선택되고, L은 각 Z원자에 옥소가 없는 탄소원자에 의해 결합된 유기 연결 그룹임.
  4. 제1항에 있어서, 각 A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌인 화합물.
  5. 제1항에 있어서, R1이 치환되지않았거나 치환된 C24까지의 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼이고, R2가 시아노이고, A가 치환되지 않은 1, 2-페닐렌이고, Z가 -O-이며, L이 C12까지의 알킬렌, 2-하이드록시-1,3-프로판디일, 2-메틸-1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-에틸렌, 티오-비스-에틸렌, 1,2-1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-메틸렌, 1, 2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-에틸렌,1,4-시클로헥실렌-비스-메틸렌 1,2-1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-(옥시에틸렌), 메틸설포닐이미노-비스-에틸렌, 페닐이미노-비스-에틸렌, 아세틸이미노-비스-에틸렌, 페닐카바모일이미노-비스-에틸렌 또는 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌인 화합물.
  6. 다음 일반식을 갖는 화합물.
  8. 식중, R3는 C20까지의 알킬, L은 C2-C8알킬렌, 1,2-, 1,3- 는 1,4-페닐렌디메틸렌 또는 1, 2-, 1, 3-는 1, 4-페닐렌디에틸렌임.
  9. (1) 다음 일반식을 갖는 화합물과
  11. 식중, R1은 각각 독립적으로 시아노, 카복시, 알케닐옥시카보닐, 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 탄소환식 또는 복소환식 아릴 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알카노일, 시클로알카노일, 또는 아로일라디칼, 치환되지않았거나 치환된 카바모일 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알킬설포닐, 시클로알킬설포닐 또는 아릴설포닐 라디칼로부터 선택되고, R2는 각각 독립적으로 시아노 또는 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼로부터 선택되고, A는 각각 독립적으로 치환되지않았거나 치환된 1, 2-페닐렌 또는 1, 2-나프틸렌 라디칼로부터 선택되고, Z는 각각 독립적으로 -O- 또는 -S-로 부터 선택되고, L은 각 Z원자에 옥소가 없는 탄소원자에 의해 결합된 유기 연결 그룹임.
  12. (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 조성물.
  13. 제5항에 있어서, 성분(1)의 화합물중 A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌인 차광 조성물.
  14. 제5항에 있어서, (1) 다음 일반식을 갖는 화합물과
  16. 식중, R1이 치환되지않았거나 치환된 C24까지의 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, R2가 시아노, A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌, Z가 -O-, L은 C12까지의 알킬렌, 2-하이드록시-1,3-프로판디일, 2-메틸-1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-에틸렌, 티오-비스-에틸렌, 1,2-1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-메틸렌, 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-에틸렌, 1,4-시클로헥실렌-비스-메틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-(옥시에틸렌), 메틸설포닐이미노-비스-에틸렌, 페닐이미노-비스-에틸렌, 아세틸이미노-비스-에틸렌, 페닐카바모일이미노-비스-에틸렌 또는 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌, (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 조성물.
  17. 제5항에 있어서, (1) 다음 일반식을 갖는 화합물과
  19. 식중, R3는 C20까지의 알킬, L은 C2-C8알킬렌, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디메틸렌 또는 1,2-, 1,3-는 1,4-페닐렌디에틸렌임, (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 조성물.
  20. 다음 일반식을 갖는 최소한 하나의 폴리메틴 화합물의 잔기와 반응하였거나 또는 이것이 공중합되어 있는 폴리에스테르로 이루어진 중합체 조성물.
  22. 식중, R1은 각각 독립적으로 시아노, 카복시, 알케닐옥시카보닐, 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 탄소환식 또는 복소환식 아릴 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 카바모일 라디칼, 치환된 알카노일, 시클로알카노일, 또는 아로일 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알킬설포닐, 시클로알킬설포닐 또는 아릴설포닐 라디칼로부터 선택되고, R2는 각각 독립적으로 시아노 또는 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐라디칼로부터 선택되고, A는 각각 독립적으로 치환되지않았거나 치환된 1, 2-페닐렌 또는 1, 2-나프틸렌 라디칼로부터 선택되고, Z는 각각 독립적으로 -O- 또는 -S-로 부터 선택되고, L은 각 Z원자에 옥소가 없는 탄소원자에 의해 결합된 유기 연결 그룹인데, 단 폴리메틴 화합물을 폴리에스테르가 유도된 단량체중 하나의 반응성이 있는 최소한 하나의 치환체를 갖음.
  23. 제9항에 따른 최소한 하나의 폴리메틴 화합물의 잔기 1.0-50.0중량%와 반응하였거나 또는 이것의 공중합되어 있는 폴리에스테르로 이루어진 중합체 조성물.
  24. 식중, R1이 치환되지않았거나 치환된 C20까지의 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, R2가 시아노, A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌, Z는 -O-, L은 C12까지의 알킬렌, 2-하이드록시-1,3-프로판디일, 2-메틸-1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-3-프로판디일, 2-메틸, -1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-에틸렌, 티오-비스-에틸렌, 1,2-1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-메틸렌, 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-에틸렌, 1,4-시클로헥실렌-비스-메틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-(옥시에틸렌), 메틸설포닐이미노-비스-에실렌, 페닐이미노-비스-에틸렌, 아세틸이미노-비스-에틸렌, 페닐카바모일이미노-비스-에틸렌 또는 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌.
  25. 제10항에 있어서, 폴리에스테르가 0.1-0.6의 고유점도를 갖고 A. 최소한 50몰%의 테레프탈산 및/또는 2,6-나프탈렌디카복실산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 최소한 50몰%의 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 및/또는 1,4-시클로헥산디메탄올 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성된 중합체 조성물.
  26. 제10항에 있어서, 폴리에스테르가 0.1-0.6의 고유점도를 갖고 A. 최소한 90몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 최소한 90몰%의 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 및/또는 1,4-시클로헥산디메탄올 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성된 중합체 조성물.
  27. 고유 점도가 0.1-0.6인 폴리에스테르가 A. 최소한 90몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 최소한 90몰%의 에틸렌 글리콜, 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올 및/또는 1,4-시클로헥산메탄올 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성되고, 여기에 다음 일반식을 갖는 1.0-50.0중량%의 폴리메틴 화합물이 공중합되어 있는 것으로 구성된 중합체 조성물.
  29. 식중 R3는 C4까지의 L은 C2-C8알킬렌, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디메틸렌 또는 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디에틸렌임.
  30. (1) 제9항의 중합체 조성물과 (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 제제.
  31. (1) 제11항의 중합체 조성물과 (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 제제.
  32. (1) 제제의 중량을 기준으로 하여 0.1-20.0중량%의 제13항의 중합체 조성물과 (2) 피부의학적으로 허용가능한 베이스의 용액, 분산액 또는 현탁액으로 이루어진 차광 제제.
  33. 캐스팅시키거나 압출시키거나 또는 성형시킬 수 있는 등급의 축합 중합체에 다음 일반식을 갖는 최소한 하나의 폴리메틴 화합물이 물리적으로 혼합되어 있는 것으로 구성된 중합체 조성물.
  35. 식중, R1은 각각 독립적으로 시아노, 카복시, 알케닐옥시카보닐, 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 탄소환식 또는 복소환식 아릴 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알카노일, 시클로알카노일, 또는 아로일 라디칼, 치화되지않았거나 치환된 카바모일 라디칼, 치환되지않았거나 치환된 알킬설포닐, 시클로알킬설포닐 또는 아릴설포닐 라디칼로부터 선택되고, R2는 각각 독립적으로 시아노 또는 치환되지않았거나 치환된 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐라디칼로부터 선택되고, A는 각각 독립적으로 치환되지않았거나 치환된 1, 2-페닐렌 또는 1, 2-나프틸렌 라디칼로부터 선택되고, Z는 각각 독립적으로 -O- 또는 -S-로 부터 선택되고, L은 각 Z원자에 옥소가 없는 탄소원자에 의해 결합된 유기 연결 그룹임.
  36. 캐스팅시키거나 압출시키거나 또는 성형시킬 수 있는 등급의 축합 중합체에 50-10,000ppm의 제17항에 따른 최소한 하나의 폴리메틴 화합물이 물리적으로 혼합되어 있는 것을 구성된 중합체 조성물.
  37. 식중, R1이 치환되지않았거나 치환된 C20까지의 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, R2가 시아노, A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌, Z는 -O-, L은 C12까지의 알킬렌, 2-하이드록시-1,3-프로판디일, 2-메틸-1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-에틸렌, 티오-비스-에틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-메틸렌, 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-에틸렌, 1,4-시클로헥실렌-비스-메틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-(옥시에틸렌), 메틸설포닐이미노-비스-에실렌, 페닐이미노-비스-에틸렌, 아세틸이미노-비스-에틸렌, 페닐카바모일이미노-비스-에틸렌 또는 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌.
  38. 제18항에 있어서, 폴리에스테르가 0.4-1.2의 고유점도를 갖고 A. 75-100몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 75-100몰%의 에틸렌 글리콜 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성된 중합체 조성물.
  39. 고유점도가 0.4-1.2인 캐스팅시키거나 압출시키거나 또는 성형시킬 수 있는 등급의 폴리에스테르가 A. 75-100몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 75-100몰%의 에틸렌 글리콜 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성되고 여기에 다음 일반식을 갖는 50-1500ppm의 폴리메틴 화합물의 전기가 물리적으로 혼합되어 있는 것으로 구성된 중합체 조성물.
  41. 식중, R3는 C4까지의 알킬, L은 C2-C8알킬렌, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디메틸렌 또는 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디에틸렌임.
  42. 제17항에 따른 중합체 조성물의 성형제품.
  43. 제18항의 중합체 조성물로 만들어진 필름, 시트재료 또는 포장재료.
  44. 폴리메틴 화합물의 농도가 1000-10,000인 제18항의 중합체 조성물로 압출된 25-254μ두께의 필름.
  45. 제20항의 중합체 조성물로 만들어진 용기.
  46. 제9항에 따른 50-10,000ppm의 최소한 하나의 폴리메틴 화합물의 잔기와 반응하였거나 또는 이것이 공중합되어 있는 폴리에스테르로 이루어진 중합체 조성물.
  47. 식중, R1이 치환되지않았거나 치환된 C20까지의 알콕시카보닐, 시클로알콕시카보닐 또는 아릴옥시카보닐 라디칼, R2는 시아노, A가 치환되지않은 1, 2-페닐렌, Z가 -O-, L은 C12까지의 알킬렌, 2-하이드록시-1,3-프로판디일, 2-메틸-1,3-프로판디일, 옥시-비스에틸렌, 옥시-비스-1,4-부탄디일, 설포닐-비스-에틸렌, 티오-비스-에틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-메틸렌, 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-에틸렌, 1,4-시클로헥실렌-비스-메틸렌, 1,2- 1,3- 및 1,4-페닐렌-비스-(옥시에틸렌), 메틸설포닐이미노-비스-에실렌, 페닐이미노-비스-에틸렌, 아세틸이미노-비스-에틸렌, 페닐카바모일이미노-비스-에틸렌 또는 1,2-, 1,3- 및 1,4-페닐렌.
  48. 제24항에 있어서, 폴리에스테르가 0.4-1.2의 고유점도를 갖고 A. 75-100몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 75-100몰%의 에틸렌 글리콜 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성된 중합체 조성물.
  49. 고유점도가 0.4-1.2인 캐스팅시키거나 압출시키거나 또는 성형시킬 수 있는 등급의 폴리에스테르가 A. 75-100몰%의 테레프탈산 잔기로 이루어진 디카복실산 잔기, 및 B. 75-100몰%의 에틸렌 글리콜 잔기로 이루어진 디올 잔기로 구성되고 여기에 다음 일반식을 갖는 50-1500ppm의 폴리메틴 화합물의 전기가 공중합되어 있는 것으로 구성된 중합체 조성물.
  51. 식중, R3는 C4까지의 알킬, L은 C2-C8알킬렌, 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디메틸렌 또는 1,2-, 1,3- 또는 1,4-페닐렌디에틸렌임.
  52. 제25항에 따른 중합체 조성물의 성형제품.
  53. 제25항의 중합체 조성물로 만들어진 필름, 시트재료 또는 포장재료.
  54. 폴리메틴 화합물의 농도가 1000-10,000인 제26항의 중합체 조성물로 압출된 25-254μ두께의 필름.
  55. 제27항의 중합체 조성물로 만들어진 용기.
  56. ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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