KR920013598A - 반도체 진공장치의 반응실 정화/배기장치 - Google Patents

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KR920013598A
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문정환
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Abstract

내용 없음

Description

반도체 진공장치의 반응실 정화/배기장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명이 설치된 진공장치의 구성도.

Claims (2)

  1. 반응식(2), 공정가스공급부(3), 진공부(4)로 구성된 진공장치에 있어서, 반응실부(2)의 반응식(21)과, 공정가스 공급부(3)의 다기관(372)과 전기밸브제어기(373), 진공부(4)의 진공배관(41)에 정화가스 공급부(5), 가스배기부(6), 밸브구동부(7)를 각각 연결하며 반응식(21)과 진공배관(41)내부를 정화 및 배기시키도록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 진공자치의 반응실 정화/배기장치.
  2. 제1항에 있어서, 정화가스 공급부(5)는 수동밸브(51), 유량계(52), 책크밸브(53)로 구성하여 반응실(21)과 진공배관(41)에 정화가스를 공급하도록 하고, 가스배기부(6)는 수동밸브(61)와 책크밸브(62)로 구성하여 반응실(21)과 진공배관(41)의 잔류가스를 배기기관(43)으로 배출시키도록 하며, 밸브구동부(7)는 반응실(21)과 진공배관(41)으로 공급되는 정화가스를 공급 및 차단하도록 공기밸브(71)(72)(73)를 설치한뒤 전기밸브제어기(373)에 제어되는 전기밸브(74)(75)(76)를 상기 공기밸브(71)(72)(73)와 연결하여 다기관(372)으로 부터 공급되는공기에 의하여 공기 밸브(71)(72)(73)를 열림 또는 닫힘상태로 절환되게 하고, 밸브구동부(7)의 진공배관(41)측에 수동밸브(77)을 설치하여 반응실(21)내부로 정화토록 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 진공장치의 반응실 정화/배기장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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