KR920008856A - 반도체 웨이퍼의 표면 세정방법 - Google Patents

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KR920008856A
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semiconductor wafer
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surface cleaning
wafer
pure water
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KR1019900016196A
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Inventor
오경택
Original Assignee
문정환
금성일렉트론 주식회사
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내용 없음

Description

반도체 웨이퍼의 표면 세정방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 세정방법에 사용되는 세정장치의 개략구성도.

Claims (1)

  1. 웨이퍼가 담겨진 배쓰에 순수를 일정한 유속으로 공급하여 순수가 오버플로우 됨에 따라 웨이퍼 표면이 세정되게 함을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼의 표면 세정방법.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900016196A 1990-10-12 1990-10-12 반도체 웨이퍼의 표면 세정방법 KR920008856A (ko)

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