Claims (8)
기판상에 염색가능한 감광성수지를 도포하는 공정; 상기 공정에 따라 형성된 감광성수지층에 소정의 패턴을 노광하고 현상하여 소정의 패턴층을 남기고 공정; 상기 남겨진 패턴층을 소정의 색소로 염색하는 공정; 상기 염색된 패턴층의 표면상에 소정 곡률반경을 가지는 집광렌즈를 형성하는 공정; 및 상기 일련의 공정들과 동일하게 염색가능한 감광성 수지를 도포하고 노광, 현상, 염색 및 집광렌즈형성을 순차반복해서 서로 다른 색소로 염색된 적어도 3개 이상의 착색패턴층을 형성하는 공정을 구비하여서 된 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.Applying a dyeable photosensitive resin onto the substrate; Exposing and developing a predetermined pattern on the photosensitive resin layer formed according to the above process to leave a predetermined pattern layer; Dyeing the remaining pattern layer with a predetermined dye; Forming a light collecting lens having a predetermined radius of curvature on the surface of the dyed pattern layer; And applying a photosensitive resin that can be dyed in the same manner as the above series of steps, and repeating exposure, development, dyeing and condensing lens formation to form at least three or more coloring pattern layers dyed with different pigments. Method for producing a color filter, characterized in that.
제1항에 있어서, 상기 집광렌즈는 내염색성이 좋은 투명한 상기 수지로 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the condenser lens is formed of the transparent resin having good stain resistance.
제1항에 있어서, 상기 집광렌즈는 상기 감광성수지층과는 다른 방사선감응 특성을 가지는 감광성수지로 형성하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the condenser lens is formed of a photosensitive resin having a radiation sensitive property different from that of the photosensitive resin layer.
제1항에 있어서, 상기 집광렌즈는 아크릴계수지로 형성한 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the condenser lens is formed of an acrylic resin.
제1항에 있어서, 상기 기판은 고체이미지센서 장치이며, 상기 최초의 감광성수지를 도포하기 전에 고체이미지센서장치의 포토셀어레이 영역에 입사광이 포커싱되도록 두께를 조절하면서 폴리이미드계의 유기고분자 물질을 도포하여 표면을 평탄화하는 공정; 및 상기 평탄화공정 이후 상기 포토셀어레이영역의 주변부에 배치된 본딩패드를 보호하기 위한 보호층을 도포하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of claim 1, wherein the substrate is a solid-state image sensor device, the polyimide-based organic polymer material is adjusted while adjusting the thickness so that incident light is focused on the photocell array region of the solid-state image sensor device before applying the first photosensitive resin Applying to planarize the surface; And applying a protective layer for protecting the bonding pads disposed on the periphery of the photocell array region after the planarization process.
제5항에 있어서, 상기 고체이미지센서장치의 소정영역위에 탑재되는 컬러필터의 전체두께는 5~6㎛정도인 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.6. The manufacturing method of a color filter according to claim 5, wherein the total thickness of the color filter mounted on a predetermined area of the solid state image sensor device is about 5 to 6 mu m.
제1항부터 제5항중 어느 한항에 있어서, 상기 적어도 3개이상의 착색패턴층은 각기 적, 청, 녹색 중 어느 한색으로 착색되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of manufacturing a color filter according to any one of claims 1 to 5, wherein the at least three or more color pattern layers are colored in any one of red, blue, and green colors, respectively.
제1항부터 제5항중 어느 한항에 있어서, 상기 적어도 3개이상의 착색패턴층은 각기 시안, 엘로우, 마젠타중 어느 한색으로 착색되는 것을 특징으로 하는 컬러필터의 제조방법.The method of manufacturing a color filter according to any one of claims 1 to 5, wherein the at least three or more coloring pattern layers are colored in any one of cyan, yellow, and magenta, respectively.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.※ Note: The disclosure is based on the initial application.