KR920003429A - 실리콘 웨이퍼의 자동 세척 건조장치 - Google Patents

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KR920003429A
KR920003429A KR1019900010513A KR900010513A KR920003429A KR 920003429 A KR920003429 A KR 920003429A KR 1019900010513 A KR1019900010513 A KR 1019900010513A KR 900010513 A KR900010513 A KR 900010513A KR 920003429 A KR920003429 A KR 920003429A
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백덕기
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문정환
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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    • H01L21/302Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to change their surface-physical characteristics or shape, e.g. etching, polishing, cutting
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Abstract

내용 없음.

Description

실리콘 웨이퍼의 자동 세척 건조장치
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명의 요부인 로우더의 사시도.
제2도는 본 발명의 요부인 분사봉의 사시도.
제3도 및 제4도는 본 발명의 작동상태도.
제5도는 종래 장치의 작동상태도.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1 : 웨이퍼 2 : 운반구
3 : 회전로우더 4 : 초순수분사공
5 : 질소가스공 6 : 분사봉

Claims (2)

  1. 대략 25매의 웨이퍼(1)가 저장되는 운반구(2)를 90도 각도로서 4개를 배치 고정하는 원통형 회전로우더(3)와, 상기 회전로우더(3)를 회전시켜주는 회전수단과, 상기 회전로우더(3)의 중앙부로 배치되어 초순수분사공(4)과 질소가스공(5)이 형성된 장봉형상의 분사봉(6)으로 구성하여서 됨을 특징으로 하는 실리콘웨이퍼의 자동세척 건조장치.
  2. 제1항에 있어서, 분사봉(6)에 쐐기형의 절결홈(7)을 형성하고 절결홈(7)의 양면 상에 초순수 분사공(4)과 질소가스공(5)을 대향 형성하여서 됨을 특징으로 하는 실리콘 웨이퍼의 자동 세척 건조장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019900010513A 1990-07-11 1990-07-11 실리콘 웨이퍼의 자동 세척 건조장치 KR920010428B1 (ko)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100360402B1 (ko) * 2000-03-22 2002-11-13 삼성전자 주식회사 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법

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KR100360402B1 (ko) * 2000-03-22 2002-11-13 삼성전자 주식회사 회전성 분사노즐을 구비하는 웨이퍼 건조 장치 및 이를이용한 웨이퍼 건조 방법

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