KR900018744A - 감광성 조성물 - Google Patents

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KR900018744A
KR900018744A KR1019900006763A KR900006763A KR900018744A KR 900018744 A KR900018744 A KR 900018744A KR 1019900006763 A KR1019900006763 A KR 1019900006763A KR 900006763 A KR900006763 A KR 900006763A KR 900018744 A KR900018744 A KR 900018744A
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야스노부 오니시
요시히또 고바야시
루미꼬 하야세
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아오이 죠이찌
가부시끼가이샤 도시바
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Abstract

내용 없음

Description

감광성 조성물
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (28)

  1. 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와, 하기 일반식(Ⅰ-1) 또는 (Ⅰ-2)로 표시되는 복소환식 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    상기에서 Z1은 질소를 함유하는 복소환을 형성하는데 필요한 비금속 원자로, R1및 R2는 동일해도 달라도 좋은 각각 수소 원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디알킬 아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르복시기, 에톡시 카르복시기, 카르복시메틸기, 카르복시에틸기, 카바 모일기, 페닐기, 트릴기, 크실릴기, 메시틸기 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머캅토기, 시아노기, 할로겐 원자를 나타낸다.
  2. 제1항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅰ-1) 또는 (Ⅰ-2)로 표시되는 복소환식 화합물이 피리딘 또는 피리딘 유도체, 퀴놀린 또는 퀴놀린 유도체, 아크리딘 또는 아크리딘 유도체, 이미다졸 또는 이미다졸 유도체, 피라졸 또는 그 유도체, 이미다조린 또는 그 유도체, 벤조이미다졸 또는 그 유도체, 디아진 또는 그 유도체, 벤조 디아진 또는 그 유도체, 1, 3, 5-트리아진 또는 그 유도체, 옥사졸 또는 그 유도체, 티아졸 또는 그 유도체 피리딘-1-옥시드 또는 피리딘-1-옥시드 유도체 및 퀴놀린-1-옥시드 또는 퀴놀린-1-옥시드 유도체인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐페놀수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 이소프로페닐 페놀과 아크릴산, 메타아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 아크릴 수지, 메타 아크릴 수지, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체와의 공중합체 또는 말론산과 비닐에테르와의 공중합체이고, 전술한 일반식(Ⅰ-1) 또는 (Ⅰ-2)로 표시되는 복소환식 화합물이 2-에틸 피리딘, 2, 4-디메틸 피리딘, 2-아세틸 피리딘, 2-메톡시 피리딘, 3-하이드록시 피리딘, 3-피리딘 카르보산, 2-클로로 피리딘, 니코틴 아미드, 2-페닐피리딘, 4-메틸퀴놀린, 2-클로로 퀴놀린, 8-하이드록시 퀴놀린, 8-하이드록시-2-메틸 퀴놀린, 6-메톡시 퀴놀린, 4-퀴놀린 카르본산, 3-메틸 아크리딘, 1-클로로 아크리딘, 3-아미노 아크리딘, 1-메틸 이미다졸, 2, 4, 5-트리페닐이미다졸, 피리다진, 피리미딘 , 피라진, 프탈아진, 퀴나졸린, 퀴녹살린, 2-메틸 피리딘-1-옥시드, 3-메틸피리딘-1-옥시드, 4-메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-2-메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3,5-디 메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-2, 6-디 메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3-클로로 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3-피리딘 카르본산-1-옥시드, 4-아세틸 피리딘-1-옥시드, 2-아미노 피리딘-1-옥시드, 3-하이드록시 피리딘-1-옥시드, 2, 6-디메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로 퀴놀린-1-옥시드, 또는 4-하이드록시 아미노 퀴놀린-1-옥시드인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅰ-1) 또는 (Ⅰ-2)로 표시되는 복소환식 화합물의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체 100중량부에 대해 1 내지 500중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  5. 페놀 골격을 알칼리 가용성 중합체와, 하기 일반식(Ⅱ-1) 또는 (Ⅱ-2)로 표시되는 복소환식 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    전술한 R2및 R3는 동일해도 달라도 좋고 각각 산소를 포함한 복소환을 형성하는데 필요한 비금속 원자군 R3및 R4는 동일해도 달라도 좋고, 각각 수소원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디 알킬아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르복시기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시 메틸기, 카르복시에틸기, 카바모일기, 페닐기, 드릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머갑토기, 시아노기, 할로겐기 원자를 나타낸다.
    전술한 Z4는 산소를 포함한 복소환을 형성하는데 필요한 비금속 원자군, R5는 수소 원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디 알킬아미노기, 니트로기, 카르복닐기, 메톡시 카르복닐기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시 메틸기, 카르복시 에틸기, 카바모일기, 페닐기, 드릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머캅토기, 시아노기, 할로겐기 원자를 나타낸다.
  6. 제5항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅱ-1) 또는 (Ⅱ-2)로 표시되는 복소환식 화합물이 4-피론 또는 4-피론 유도체, 4-옥시졸론 및 그 유도체, 2-피론 또는 2-피론 유도체, 하이드로 퓨란 유도체 또는 벤조 퓨란 유도체인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  7. 제5항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐노보락수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아클릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 이소프로페닐 페놀과 아크릴산, 메타아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체 또는 말론산과 비닐에테르와의 공중합체이고, 전술한 일반식(Ⅱ-1) 또는 (Ⅱ-2)로 표시되는 복소환식 화합물인 2, 6-디메틸-4-피론, 3-하이드록시-4-피론, 3-하이드록시-2-메틸-4-피론, 4-피론-2-카르본산, 5-하이드록시-4-피론-2-카르본산, 4-피론-2, 6-디카르본산, 3-하이드록시-4-피론-2, 6-디카르본산, 2, 3-벤조-4-피론, 3-하이드록시-2-피론, 4-하이드록시-6-메틸-2-피론, 2-피론-6-카르본산, 5, 6-벤조-2-피론, 3, 4-벤조-2-피론, 3-부텐-4-올리드-3-카르본산, 3-옥소-4-부타놀리드, 프탈리드 또는 3, 3-디메틸 프탈리드인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  8. 제5항 내지 제7항중 어느 한항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅱ-1) 또는 (Ⅱ-2)로 표시되는 복소환식 화합물의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체 100중량부에 대해 1 내지 500중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  9. 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와, 하기 일반식(Ⅲ-1) 내지 (Ⅲ-2)로 표시되는 복소환식 화합물의 어느 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    여기서 R6및 R9는 동일하거나 달라도 좋고, 각각 수소원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디 알킬 아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르복시기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시메틸기, 카르복시에틸기, 카바모일기, 페닐기, 트릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머캅토기, 시아노기, 할로겐 원자를 나타낸다.
  10. 제9항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐페놀수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 이소프로페닐 페놀과 아크릴산, 메타아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 아크릴 수지, 메타 아크릴 수지, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체와의 공중합체 또는 말론산과 비닐에테르와의 공중합체이고 전술한 일반식(Ⅲ-1) 내지 (Ⅲ-8)로 표시되는 복소환식 화합물이 피리다진, 3-메틸 피리디진, 4-메틸 피리미딘, 피라진, 2, 5-디메틸 피리딘, 1, 2, 5-트리아진, 2, 4, 6-트리클로로, 1, 3, 5-트리아진, 피리다진-N-옥시드, 4-피리디진-N-옥시드, 4, 5-디메틸 피리다진-N-옥시드, 4, 6-디메틸 피리미진-N-옥시드, 4-메톡시 피리미진-N-옥시드, 피라진-N-옥시드, 2, 3-디클로로 피라진-N-옥시드, 2, 6-디클로로 피라진-N-옥시드, 1, 3, 5-트리아진-N-옥시드, 2, 4, 6-트리메톡시 1, 3, 5-트리아진-N-옥시드 2, 4, 6-트리올-1, 3, 5-트리아진-N-인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  11. 제9항 또는 제10항중 어느 한항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅲ-1) 내지 (Ⅲ-8)로 표시되는 복소환식 화합물의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체 100중량부에 대해 1 내지 300중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  12. 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와, 하기 일반식 (Ⅳ-1) 내지 (Ⅳ-12)의 어느 것으로 표시되는 복소환식 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    cs
    앞의 R10내지 R17은 동일해도 달라도 좋고, 각각 수소원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미도기, 탄소수 1-5의 디 알킬 아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르보닐기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시 메틸기, 카르복시 에틸기, 카바 모일기, 페닐기, 트릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머캅토기, 시아노기, 할로겐 원자, Z는 2가의 유기기를 나타낸다.
  13. 제12항에 있어서, 전술한 일반식 (Ⅳ-7) 내지 (Ⅳ-12)에 도입되는 2가의 유기기가 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 비닐렌기, 2-부테닐렌기, 말로닐기, 석시닐기, 글루타릴기, 푸말로일기, 카르보닐기, 옥살릴기, 카르보닐 디옥시기, 설피닐기, 설포닐기, 디티오기, 티오카르보닐기, 아미노기, 하이드라지드기, 우레이렌기, 카르보니미드 일기, 또는 포밀 이미노기인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  14. 제12항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐페놀수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 이소프로페닐 페놀과 아크릴산, 메타아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 아크릴 수지, 메타 아크릴 수지, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체와의 공중합체 또는 말론산과 비닐에테르와의 공중합체이고, 전술한 일반식(Ⅳ-1) 내지 (Ⅳ-12)의 어느 것으로도 표시되는 복소환식 화합물이 2, 2'-디피리디진, 디-2-피리딜 케톤, 2, 2'-디피리딜 아민, 3, 3'-디피리딜, 6, 6'-디메틸-3, 3'-디피리딜, 디-3-피리딜 케톤, 4, 4'-디피리딜 1, 2-비스(4-피리딜)에탄, 1, 2-비스(4-피리딜)에틸렌, 2, 2'-디피리딜-N-옥시드, 2, 2'-디 티오 비스(피리딘-N-옥시드) 1, 2-비스(2-피리딜)에틸렌-N-옥시드, 4, 4'-디메틸-2, 2'-디 피리딜-N-옥시드, 디-1, 2-피리딜 케톤-N-옥시드, 3, 3'-디피리딜-N-옥시드, 6, 6'-디메틸-3, 3'-디 피리딜-N-옥시드, 4, 4'-디 피리딜-N-옥시드, 1, 2-비스(4-피리딜)에탄-N-옥시드, 디-4-피리딜 케톤-N-옥시드, 또는 3, 3'-디메틸-4, 4'-디 피리딜-N-옥시드인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  15. 제1항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅳ-1) 내지 (Ⅳ-12)의 어느것으로 표시되는 복소환식 화합물의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체 100중량부에 대해 1 내지 300중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  16. 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와, 하기 일반식(Ⅴ-1) 내지 (Ⅴ-4)로 표시되는 피리디늄염의 어느 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    여기에서 R18내지 R27은 동일해도 달라도 좋고, 각각 수소원자, 탄소수 1-20의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디알킬 아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르보닐기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시 메틸기, 카르복시 에틸기, 카마보일기, 페닐기, 트릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 머캅토기, 시아노기, 할로겐 원자 X-는 음이온, Z는 2가의 유기기를 나타낸다.
  17. 제16항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅴ-3)로 표시되는 피리디늄으로 도입되는 2가의 유기기 Z가 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라메틸렌기, 비닐렌기, 2-부테닐렌기, 말로닐기, 석시닐기, 글루타릴기, 푸말로일기, 카르보닐기, 옥살릴기, 카르보닐 디옥시기, 설피닐기, 설포일기, 디티오기, 티오카르보닐기, 이미노기, 하이드라지드기, 우레이렌기, 카르보니미드일기 또는 포밀 이미노기인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  18. 제16항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅴ-1) 내지 (Ⅴ-4)에 있어서, 음이온 X-가 할로겐이온, 황산이온, 과염소산이온, 설폰산이온, 또는 붕소, 알루미늄, 철, 아연, 비소, 안티몬, 또는 인등의 할로겐 화합물의 음이온인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  19. 제16항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐페놀수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아클리로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 아크릴 수지, 메타 아크릴 수지, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체와의 공중합체이고, 전술한 일반식 (Ⅴ-1)내지 (Ⅴ-4)로 표시되는 피리디늄염이 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2-메틸 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2-클로로-1-메틸 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2, 4, 6-고리딘-P-톨루엔 설포네이트, 1-에틸 피리디늄 클로라이드, 1-펜틸 피리디늄 클로라이드, 1-도데실 피리디늄 클로라이드, 1-헥사데실 피리디늄 클로라이드, 1-벤질-3-하이드록시 피리디늄 클로라이드, 1-카르복실 메틸 피리디늄 클로라이드, 2, 6-디메-1-메틸 피리디늄 클로라이드, 1, 1'-디메틸-4, 4'-비 피리디늄 디 클로라이드-1, 1-디메틸-4, 4'-디메틸-2, 2'-비 피리디늄 디 클로라이드, 2, 4'-비 피리디늄 디 클로라이드, 2, 3'-디 피리디늄 디 클로라이드, 1, 2-비스(4-피리디늄)에탄 디 클로라이드, 1, 2-비스(2-피리디늄)에틸렌 디 클로라이드, 2, 2'-디티오 비스 피리디늄 디 클로라이드 디-2-피리디늄 게톤 디 클로라이드, 퀴녹실늄-P-에틸 설포네이트 또는 8-하이드록시-1-메틸 퀴녹실늄-P-톨루엔 설포네이트인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  20. 제16항 내지 19항중 어느 한항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅴ-1) 내지 (Ⅴ-4)로 표시되는 피리디늄염의 배합 비율이 전술한 페놀골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체 100중량부에 대해 1 내지 300중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  21. 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와, 질소를 포함한 복소환식 화합물을 중합 단위로 갖는 중합체를 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  22. 제21항에 있어서, 전술한 질소를 포함한 복소환식 화합물을 중합단위로 갖는 중합체가 폴리(2-비닐 피리딘), 폴리(4-비닐 피리딘) 폴리(2-비닐-3-메틸피리딘), 폴리(2-이소프로페닐 피리딘), 폴리(4-비닐피리미딘) 폴리(2-비닐 피리딘) 폴리(2-비닐 피리딘-1-옥시드), 폴리(2-비닐-3-메틸 피리딘-1-옥시드), 폴리(1-비닐 피리디늄 플루오로보레이트), 폴리(2-비닐-1-메틸 피리디늄 메틸 설포네이트), 폴리(4-비닐-1-메틸 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트) 및 이들의 중합체와 폴리 스티렌, 폴리 아크릴산 메틸, 폴리 메타 아크릴산 메틸, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 풀리 비닐페놀, 폴리 이소프로페닐 페놀등과의 공중합체인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  23. 제21항에 있어서, 전술한 질소를 포함한 복소환식 화합물을 중합단위로서 갖는 중합체의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 중합체 100중량부에 대해 5 내지 400중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  24. 제21항에 있어서, 아래 일반식(Ⅵ-1) 내지 (Ⅵ-15)의 어느 것으로도 표시되는 복소환식 화합물을 또 함유하는 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    여기에서 R25내지 R37은 동일해도 달라도 좋고, 각각 수소원자, 탄소수 1-10의 비치환 또는 치환 알킬기, 알콕시기, 아실기, 알케닐기, 수산기, 아미노기, 탄소수 1-5의 디알킬 아미노기, 니트로기, 카르복시기, 메톡시 카르보닐기, 에톡시 카르보닐기, 카르복시 메틸기, 카르복시 에틸기, 카바모일기, 페닐기, 트릴기, 크실릴기, 메시틸기, 벤질기, 스티릴기, 신나밀기, 미갑토기, 시아노기, 또는 할로겐 원자 X-는 음이온, Z는 2가의 유기기를 나타낸다.
  25. 제24항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅵ-1) 내지 (Ⅵ-15)에 있어서, 2가의 유기기 Z가 메틸렌기, 에틸렌기, 트리메틸렌기, 테트라 메틸렌기, 비닐렌기, 2-부테닐렌기, 말로닐기, 석시닐기, 글루타릴기, 푸말로일기, 카르보닐기, 옥살릴기, 카르보닐 디옥시기, 설피닐기, 설포닐기, 디티오기, 티오카르보닐기, 이미노기, 하이드라지드기, 우레이렌기, 카르보니미드일기 또는 포밀 이미노기인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  26. 제24항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅵ-1) 내지 (Ⅵ-15)에 있어서 음이온 X-가 할로겐이온, 황산이온, 과염소산이온, 설폰산이온, 또는 붕소, 알루미늄, 철, 아연, 비소, 안티몬, 또는 인 등의 할로겐 화합물의 음이온인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  27. 제24항에 있어서, 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체가 페놀 노보락 수지, 크레졸 노보락 수지, 크실레놀 노보락 수지, 비닐페놀수지, 이소프로페닐 페놀수지, 비닐 페놀과 아크릴산, 메타 아크릴산 유도체, 아클리로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 이소프로페닐 페놀과 아크릴산, 메타아크릴산 유도체, 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체등과의 공중합체, 아크릴 수지, 메타 아크릴 수지, 아크릴산 또는 메타아크릴산과 아크릴로 니트릴, 스티렌 유도체와의 공중합체 또는 말론산과 비닐에테르의 공중합체이고, 전술한 일반식(Ⅵ-1) 내지 (Ⅵ-15)로 표시되는 복소환식 화합물 피리딘이 2-에틸 피리딘, 2, 4-디메틸 피리딘, 2-아세틸 피리딘, 2-메톡시 피리딘, 3-하이드록시 피리딘, 3-피리딘 카르본산, 2-클로로 피리딘, 니코틴 아미드, 2-페닐 피리딘, 피리다진, 3-메틸 피리다진, 4-메틸 피리미딘, 피라진, 2, 5-디메틸 피라진, 2, 2'-디 피리딜, 디-2-피리딜케톤, 2, 2'-디피리딜 아민, 3, 3'-디 피리딜, 6, 6'-디메틸-3, 3'-디 피리딜, 디-3-피리딜 케톤, 4, 4'-디 피리딜, 1, 2-비스(4-피리딜)에탄, 1, 2-비스(4-피리딜)에틸렌, 피리딘-1-옥시드, 2-메틸-피리딘-1-옥시드 8-메틸 피리딘-1옥시드, 4-메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-2-메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3, 5-디메틸 피리딘-1-옥시드 4-니트로-2, 6-디 메틸 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3-클로로 피리딘-1-옥시드, 4-니트로-3-피리딘 카르본산-1-옥시드, 4-아세틸 피리딘-1-옥시드, 2-아미노 피리딘-1-옥시드, 4-아세틸 피리딘-1-옥시드, 2-아미노 피리딘-1-옥시드, 3-하이드록시 피리딘-1-옥시드, 2, 6-디메틸 피리딘-1-옥시드, 피리다진-N-옥시드, 4-메틸 피리다진-N-옥시드, 4, 5-디메틸 피리다진-N-옥시드, 4, 6-디메틸 피리미진-N-옥시드, 4-메톡시 피리미진-N-옥시드, 피라진-N-옥시드, 2, 3-디클로로 피라진-N-옥시드, 2, 6-디클로로 피라진-N-옥시드, 2, 2'-디피리딜-N-옥시드, 2, 2'-디티오비스(피리딘-N-옥시드), 1, 2-비스(2-피리딜)에틸렌-N-옥시드, 4, 4'-디메틸-2, 2'-디 피리딜-N-옥시드, 디-1, 2-피리딜 케톤-N-옥시드, 3, 3'-디피리딜-N-옥시드, 6, 6'-디메틸-3, 3'-디 피리딜-N-옥시드, 2, 4'-디피리딜-N-옥시드, 1, 2-비스(4-피리딜)에탄-N-옥시드, 디-4-피리딜 케톤-N-옥시드, 3, 3'-디메틸-4, 4'-디피리딜-N-옥시드, 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2-메틸 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2-클로로-1-메틸 피리디늄-P-톨루엔 설포네이트, 2, 4, 6-고리딘-P-톨루엔 설포네이트, 1-에틸 피리디늄 클로라이드, 1-펜틸 피리디늄 클로라이드, 1-도데실 피리디늄 클로라이드, 1-헥사 데실 피리디늄 클로라이드, 1-벤질-3-하이드록시 피리디늄 클로라이드, 1-카르복실 메틸 피리디늄 클로라이드, 2, 6-디메틸-1-메틸 피리디늄 클로라이드, 1, 1'-디메틸-4, 4'-비 피리디늄 디 클로라이드, 1, 1'-디메틸-2, 2'-비 피리디늄 디 클로라이드, 2, 4'-비피리디늄 디 클로라이드, 2, 3'-디피리디늄 디 클로라이드, 1, 2-비스(4-피리디늄)에탄 디 클로라이드, 1, 2-비스(2-피리디늄)에틸렌 디 클로라이드, 2, 2'-디 티오 비스 피리디늄 디 클로라이드, 디-2-피리디늄 케톤 디 클로라이드, 퀴녹실늄-P-에틸 설포네이트 또는 8-하이드록시-1-메틸 퀴녹실늄-P-톨루엔 설포네이트인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
  28. 제24항에 있어서, 전술한 일반식(Ⅵ-1) 내지 (Ⅵ-15)의 어느 것으로 표시되는 복소환식 화합물의 배합 비율이 전술한 페놀 골격을 갖는 알칼리 가용성 중합체와 전술한 복소환식 화합물을 중합단위로서 갖는 중합체와의 혼합물 100중량부에 대해 1 내지 300중량부인 것을 특징으로 하는 감광성 조성물.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5744281A (en) * 1993-09-14 1998-04-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Resist composition for forming a pattern and method of forming a pattern wherein the composition 4-phenylpyridine as an additive
EP0672954B1 (en) * 1994-03-14 1999-09-15 Kodak Polychrome Graphics LLC Radiation-sensitive composition containing a resole resin, a novolac resin, an infrared absorber and a triazine and use thereof in lithographic printing plates
JPH08110635A (ja) * 1994-10-07 1996-04-30 Shin Etsu Chem Co Ltd 化学増幅ポジ型レジスト材料
DE69711802T2 (de) * 1996-10-16 2002-11-28 Sumitomo Chemical Co Eine Dipyridylverbindung enthaltender positiver Photolack
JP3883706B2 (ja) 1998-07-31 2007-02-21 シャープ株式会社 エッチング方法、及び薄膜トランジスタマトリックス基板の製造方法
JP2010518014A (ja) * 2007-01-31 2010-05-27 バーテックス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッド キナーゼ阻害剤として有用な２−アミノピリジン誘導体
KR101550471B1 (ko) * 2007-07-30 2015-09-04 브레우어 사이언스 인코포레이션 포토리소그래피 공정을 위한 비공유성으로 가교 가능한 물질
KR20100093552A (ko) 2007-11-02 2010-08-25 버텍스 파마슈티칼스 인코포레이티드 단백질 키나제 ｃ-세타로서의 [1ｈ-피라졸로[3,4-ｂ]피리딘-4-일]-페닐 또는 -피리딘-2-일 유도체
NZ590784A (en) 2008-07-23 2012-12-21 Vertex Pharma Pyrazolopyridine kinase inhibitors
WO2010011768A1 (en) 2008-07-23 2010-01-28 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Tri-cyclic pyrazolopyridine kinase inhibitors
US8569337B2 (en) 2008-07-23 2013-10-29 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Tri-cyclic pyrazolopyridine kinase inhibitors
MX2011001319A (es) * 2008-08-06 2011-04-05 Vertex Pharma Inhibidores de aminopiridina cinasa.
JP5627675B2 (ja) 2009-05-06 2014-11-19 バーテックス ファーマシューティカルズ インコーポレイテッドＶｅｒｔｅｘ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ ピラゾロピリジン
AU2011209649A1 (en) 2010-01-27 2012-08-09 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pyrazolopyrazine kinase inhibitors
AU2011209651A1 (en) 2010-01-27 2012-08-09 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pyrazolopyrimidine kinase inhibitors
CA2787315A1 (en) 2010-01-27 2011-08-04 Vertex Pharmaceuticals Incorporated Pyrazolopyridine kinase inhibitors
JP5601309B2 (ja) * 2010-11-29 2014-10-08 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法
US9541834B2 (en) * 2012-11-30 2017-01-10 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Ionic thermal acid generators for low temperature applications
JP6044566B2 (ja) * 2014-03-04 2016-12-14 信越化学工業株式会社 ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法
US10241411B2 (en) * 2016-10-31 2019-03-26 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Topcoat compositions containing fluorinated thermal acid generators

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2064380C3 (de) * 1970-12-30 1981-01-22 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches Gemisch
DE2547905C2 (de) * 1975-10-25 1985-11-21 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
JPS542720A (en) * 1977-06-08 1979-01-10 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Forming method of photopolymerized image
DE3246106A1 (de) * 1982-12-13 1984-06-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
DE3528930A1 (de) * 1985-08-13 1987-02-26 Hoechst Ag Polymere verbindungen und diese enthaltendes strahlungsempfindliches gemisch
JPH0717737B2 (ja) * 1987-11-30 1995-03-01 太陽インキ製造株式会社 感光性熱硬化性樹脂組成物及びソルダーレジストパターン形成方法

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DE69031785D1 (de) 1998-01-22

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