KR900007768B1 - 안정화된 조성물과 그 제조방법 - Google Patents
안정화된 조성물과 그 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR900007768B1 KR900007768B1 KR1019900010483A KR900010483A KR900007768B1 KR 900007768 B1 KR900007768 B1 KR 900007768B1 KR 1019900010483 A KR1019900010483 A KR 1019900010483A KR 900010483 A KR900010483 A KR 900010483A KR 900007768 B1 KR900007768 B1 KR 900007768B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- carbon atoms
- tinuvin
- silicone
- stabilizer compound
- bht
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 28
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims abstract description 78
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 67
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 28
- OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N phosphorous acid Chemical compound OP(O)O OJMIONKXNSYLSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 11
- XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N phosphonous acid Chemical compound OPO XRBCRPZXSCBRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 5
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims abstract description 4
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 81
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 15
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 3
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 claims description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 abstract description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 abstract description 5
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 abstract description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 abstract 1
- XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) decanedioate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)CCCCCCCCC(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XITRBUPOXXBIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- -1 aliphatic alcohols Chemical class 0.000 description 17
- BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N [4-[4-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphanylphenyl]phenyl]-bis(2,4-ditert-butylphenoxy)phosphane Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OP(C=1C=CC(=CC=1)C=1C=CC(=CC=1)P(OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC=1C(=CC(=CC=1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1C(C)(C)C BEIOEBMXPVYLRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 0 CC(C)(CC(CC1(C=C)C=*)O**(*)(OC)O*)N1*=C Chemical compound CC(C)(CC(CC1(C=C)C=*)O**(*)(OC)O*)N1*=C 0.000 description 4
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N dihydroxyphosphanyl dihydrogen phosphite Chemical class OP(O)OP(O)O ZJIPHXXDPROMEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 3
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 3
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 125000005624 silicic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFTBJQDQENGCPC-UHFFFAOYSA-N 2,5-ditert-butyl-4-methylphenol Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C(C)(C)C AFTBJQDQENGCPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 159000000011 group IA salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000035800 maturation Effects 0.000 description 1
- COZDRCIGYRIREC-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-yl dihydrogen phosphite Chemical compound C1=CC=C2C(OP(O)O)=CC=CC2=C1 COZDRCIGYRIREC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010525 oxidative degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000005429 oxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N phosphite(3-) Chemical class [O-]P([O-])[O-] AQSJGOWTSHOLKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/553—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having one nitrogen atom as the only ring hetero atom
- C07F9/576—Six-membered rings
- C07F9/59—Hydrogenated pyridine rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/6574—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/65744—Esters of oxyacids of phosphorus condensed with carbocyclic or heterocyclic rings or ring systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/547—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom
- C07F9/6564—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms
- C07F9/6571—Heterocyclic compounds, e.g. containing phosphorus as a ring hetero atom having phosphorus atoms, with or without nitrogen, oxygen, sulfur, selenium or tellurium atoms, as ring hetero atoms having phosphorus and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07F9/6574—Esters of oxyacids of phosphorus
- C07F9/65746—Esters of oxyacids of phosphorus the molecule containing more than one cyclic phosphorus atom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/5406—Silicon-containing compounds containing elements other than oxygen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
내용 없음.
Description
본 발명은 분자내에 방향족 아인산염이나 또는 포스포나이트(phosphonite) 작용기와 입체장애된 아민 작용기를 포함하며, 유기고분자의 안정제인, 실리콘 화합물의 안정제 유효량과 또한 하나의 유기고분자를 포함하는 고분자로 안정화된 조성물에 관계한다.
폴리올레핀과 폴리디엔 같은 유기고분자는 대기중에 노출될때 특별히 자외선의 작용에서 시간의 경과에 따라 분해하는 것으로 알려져 있다.
이러한 분해에 의해서, 예컨대 용해지수가 수반되는 기본인장강도 및 유연성의 감소와 같은 고분자의 물리적 성질의 저하를 초래한다.
이러한 분해를 억제하기 위하여 유기고분자속에 소량의 벤조트리아졸, 벤조페논 및 닉켈착염과 같은 안정제 화합물을 첨가하는 것이 본 기술분야의 통상적인 방법이다. 또한 이 목적에 유용한 것으로서 예컨대 미국특허 제3,640,928호에 발표된 것같이, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘에서 유도되는 화합물과 같은 입체 장애된 아민기를 포함하는 유기화합물이 있다.
1985년 5월 20일의 한국특허출원 제85/3458호에는 입체장애된 아민관능기를 포함하며 그 분자속에 또한 가수분해 가능한 규산작용기를 갖춘 유기고분자용 안정제 화합물을 발표한다. 이러한 안정제 화합물은 유기고분자의 안정화에 있어서 규산작용기의 작용에 따라 가수분해되며 이렇게 생성된 실라놀기는 상호적으로 또는 고체 보조물 또는 안정화될 유기고분자와 상호작용이 가능하며 어느경우에도 유기고분자내에서 안정하게 남을 수 있는 착염구조를 수득한다.
1985년 11월 1일의 한국특허출원 제85/8153호에는 유기고분자용 안정제 화합물을 발표하는데, 이것은 모노 또는 폴리히드록시 지방족 알코올을 알콕시 실란 작용기 및 입체장애된 아민 작용기를 포함하는 화합물과 반응시켜 수득한다. 이렇게 수득된 안정제 화합물은 고열에 대한 안정성 이외에도 유기고분자와의 용이한 분산성 및 조화성에 따른 특성을 나타낸다.
더우기 본 기술분야에는 유기고분자에 대한 지방족 아인산염과 포스포나이트에 의해서 성취되는 안정제 효과가 공지되어 있다. 특히, 입체장애된 페놀성의 산화방지제와 함께 사용하는 이러한 화합물은 유기고분자의 산화적 분해를 효과있게 제지하여 때로는 공력효과를 나타낸다. 반대로, 입체장애된 아민과 방향족 아인산염이나 포스포나이트로 구성되는 안정제 시스템을 사용할 경우 유기고분자의 안정화에 대해 특별히 유익한 결과를 얻을 수가 없다.
금번 동일한 분자내에 입체장애된 아민작용기와 지방족 아인산염이나 포스포나이트 작용기를 포함하며 유기고분자, 특히 폴리올레핀과 폴리디엔의 안정화에 있어서, 두개의 상이한 작용기 함량의 기준에서 예상되는 것보다 높은 의외의 강한 반응을 나타내는 실리콘계의 안정제 화합물종류가 발견되었다. 이러한 실리콘계의 안정제 화합물은 일반적으로 유동성이 좋고 냄새가 없으며 저장수명이 매우 긴 무색의 화합물로 나타낸다. 더우기 이들은 유기고분자의 조화성이 우수하고 실제로 같은 고분자로부터 추출할 수가 없다.
상기한 바에 따라서, 본 발명은 분자내에 입체장애된 아민작용기와 방향족 아민산염이나 포스포나이트 작용기를 포함하는 유기고분자에 대한 실리콘계의 안정제 화합물에 관한 것이며, 이것은 다음과 같은 (a) 화합물 1몰당 1 내지 1.5몰의 (b) 화합물, 0 내지 1몰의 (c) 화합물 및 0.5 내지 1몰의 (d) 화합물을 서로 반응시켜 수득한다: (a) 아래의 일반식으로 표현되는 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시알킬렌-γ- 알킬-디-(옥시알킬)-실란 :
여기서 : R는 1 내지 6개의 탄소원자, 바람직하게는 3개의 탄소원자 3개를 포함하는 직쇄나 측쇄의 알킬렌기이고 : R1과 R2는 같거나 서로 상이하며 메틸이나 에틸기를 나타낸다 ; (b) 아래의 일반식으로 표현되는 지방족 디히드록시 알코올 :
HO-R3-OH
여기서 R3는 4 내지 12개의 탄소원자, 바람직하게는 6개의 탄소원자를 포함하는 직쇄나 측쇄의 알킬렌기 또는 시클로 알킬렌기이고 ; (c) 아래의 일반식으로 표시되는 모노히드록시 알코올 :
R4-OH
여기서 R4는 1 내지 10의 탄소원자, 바람직하게는 4의 탄소원자를 가지는 직쇄나 측쇄의 알킬그룹 ; (d) 다음중에서 선택되는 방향족 아인산염, 포스포나이트 또는 2아인산염 : (i) 아래의 일반식으로 정의되는 아인산염이나 포스포나이트 ;
여기서 R5와 R6는 페닐기이고 R7은 페닐이나 페녹시기이다 ; (ii) 상기한 일반식으로 정의되는 아인산염, 여기서 R5와 R6는 모두가 페닐렌기를 나타내고 R7은 페녹시 그룹이다 ; (III) 아래의 구조식으로 나타내는 방향족 2아인산염 :
본 발명에 따른 실리콘계 안정제 화합물의 한종류를 아래의 구조식으로 표현할 수 있다:
여기서, R, R1, R3,R4및 R7은 위에서 지적한 것과 같은 의미이다.
이러한 실리콘의 화합물은 일반적으로 (a)(b)(c) 및 (d)를 서로서로 반응시키되, 상호 몰비율을 약 1:1:1:0.5로 하여 수득하고 반응물(d)는 방향족 아인산염이거나 (i)류의 방향족 포스포나이트로 한다.
본 발명에 따른 안정제인 실리콘계 화합물의 또다른 종류를 아래의 구조식으로 나타낼 수가 있다 :
여기서 R, R1, R3, R4및 R7는 위에서 지적한 의미이다.
이러한 실리콘 화합물은 일반적으로 (a)(b)(c) 및 (d)를 1:1.5:1:1의 상호 몰비율로서 서로 반응시켜 수득하고 (d) 반응물은 방향족 아인산염이나 (i)류의 방향족 포스포나이트로 한다.
본 발명에 따른 또다른 종류의 안정제 실리콘 화합물은 아래의 구조식으로 표현할 수 있다 :
여기서 R, R1, R3은 위에서 지적한 의미이다.
이러한 실리콘 화합물은 일반적으로 (a)(b) 및 (d)를 서로서로가 약 1:1.5:1의 상호 몰비율로서 서로 반응시켜 수득하고 반응물(d)는 (ii)류의 아인산염으로 한다.
본 발명에 따른 또다른 종류의 안정제 실리콘 화합물은 아래의 구조식으로 표현할 수가 있다 :
여기서, R, R1, R3및 R4는 위에서 지적한 의미이다.
이러한 실리콘 화합물은 일반적으로 (a)(b)(c) 및 (d)를 서로서로 약 1:1:1:0.5 상호 몰비율로 반응시켜 수득하고 반응물 (d)는 (iii)류의 2아인산염으로 한다.
본 발명에 따른 안정제 실리콘 화합물의 제조방법은 전이 에스테르화 조건에서 전이 에스테르화 촉매의 존재하에 (a)(b)(c) 및 (d)를 반응시키는 것을 필수적으로 포함한다.
그러나, 실제 실시예의 바람직한 형태에서는 상기 지적한 비율의 (a)(b) 및 (c)를 질소 대기하에서 또한 전이 에스테르화 촉매가 있을때 처리하고 반응부산물로 형성된 메탄올이나 에탄올을 계속적으로 제거하여 1차 반응시킨다. 이 목적에 적합한 촉매는 알칼리금속의 알콕시드이며 이것의 사용량은 반응혼합물에서 0.01 내지 1중량%이다. 이 목적에 적합한 온도는 일반적으로 80 내지 120℃의 범위이고 관련된 반응시간은 1 내지 6시간 정도이다.
그리고 이렇게 수득한 반응혼합물에. 상기 몰 비율의 화합물(d)를 첨가하고 예컨대 약 1torr(133, 32Pa)와 같이 감압상태로 유지하는 것외에는 1차 반응단계의 동일한 조건의 범위에서 페놀과 반응시키며, 여기서 부산물로 생성되는 페놀은 계속적으로 제거한다. 2차 반응단계는 대체로 1 내지 2시간 정도의 시간이 소요된다.
반응이 완결되면, 수득한 실리콘계 안정제 화합물은 이산화탄소 기체나 아세트산으로 중화시켜 촉매로부터 정제해낸다. 그리하여, 예컨대 전이 에스테르화 촉매로부터 나온 알칼리성염의 제거를 용이하게 하기 위해 반응혼합물을 탄화수소용매로 희석시켜 반응생성물을 회수할 수 있고, 전술한 염은 여과나 원심분리법으로 분리한다. 그리고 이 탄화수소용매는 증발하여 제거하고 안정제 실리콘 화합물은 상기의 증발후 남은 잔유물으로서 회수한다.
이렇게 수득한 실리콘 안정제 화합물은 상술한 것과 같은 구조식을 보여주거나 또는 이들의 제조과정중에서도 본질적으로 전술한 구조식으로 표현할 수 있고, 한편 제한된 양은 보다 복잡한 구조로 형성될 수 있고 이 복잡한 구조의 물질 역시 유기고분자의 안정제로서 작용할 수 있으며 따라서 다른 반응생성물로부터 분리할 필요는 없다.
더우기, 전술한 실리콘의 안정제 화합물은 유기고분자와 완전히 융화할 수 있으며 이는 유기고분자 속에서 안정적으로 유지되고 또한 여기에 이 고분자와 동등한 량의 입체장애된 아민과 방향족 아인산염을 별도로 첨가할 때 얻을 수 있는 것보다 더 높은 안정도 특성을 고분자에 부여한다.
본 발명의 실리콘성 안정제 화합물을 사용하여 일반적인 유기고분자를 안정화할 수 있으며 특별히 폴리프로필렌, 폴리부타디엔 및 고-저-밀도의 폴리에틸과 같은 올레핀 및 디올레핀의 단중합체와 공중합체를 안정화시킬 수 있다.
본 발명에 따라서 안정화된 고분자 조성물은 유기고분자와 최소한 하나의 실리콘성 안정제 화합물을 포함하며, 이 안정제 화합물의 사용량은 이 조성물에 0.005 내지 0.2중량% 범위의 양으로된 질소(입체장애된 아민의 작용기로부터 나온)와 0. 01 내지 0.4중량%의 양으로된 인(방향족 아인산염이나 포스포나이트 작용기로부터 나온)을 공급할 수 있는 양으로 한다.
아래의 실험적 실시예를 본 발명을 설명하려는 목적으로서 제시하며 여기에 제한되지 않는다.
실시예 1
질소유입구, Liebig 응축기, 증유생성물을 수거하는 플라스크 및 자기-막대 교반기가 설치된 100ml 플라스크에 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시프로필-γ-메틸-디메톡시실란(12.8g ; 40.26mmol), n-부탄올(3.68ml ; 40.26mmol), 헥산디올(4.75g, 40.26mmol)과 또한 메탄올속에서 30중량% 용액의 형태(0.06g ; 0.3중량%)로된 나트륨메톡시드를 충전한다.
플라스크에 질소를 매우 서서히 통과시키면서 이 플라스크를 105℃의 온도로 조절되는 오일배드(bath)에 넣고 그속의 함유물을 1시간동안 계속해서 교반한다. 이 기간중에, 플라스크로부터 메탄올이 소량의 부탄올과 함께 제거된다. 이 싯점에서 플라스크에 트리페닐아인산염(5.25ml ; 6.24g ; 20.13mmol)을 충전하고, 대기압하의 105℃의 온도에서 30분간 반응시키고 감압(약 1torr(133,32Pa))하에서 40분간 반응시킨다. 이 기간이 종료되면 페놀은 응축기 내부에 완전히 수거되며 플라스크에 포함된 생성물을 I.R. 분석하여 수산기가 완전히 제거된 것을 확인하였다.
플라스크의 함유물을 4용량의 이소옥탄으로 희석하고 다음에 이 플라스크에 작은 드라이아이스 덩어리를 첨가한다.
이렇게하면, 백색고체(탄산나트륨)가 석출하며 이것을 걸러 낸다.
수득된 여과액으로부터 진공 플래싱(flashing)하여 용매를 제거하고 19.07g의 무색 액체 생성물을 수득하며 이 생성물은 원소분석에서 다음의 조성을 나타낸다 : C=64.7중량% ; H=9.1중량% ; N=2.7중량% ; P=3.3중량%.
이 생성물은 열중량분석에 높은 안정도를 나타내었으며 근본적으로 다음의 구조식으로 표현될 수 있다 :
실시예 2
이 방법은 실시예1과 같은 방법으로 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시프로필-γ-메틸-디메톡시실란(4.08g;13.46mmol), 헥산디올(2.38g;20.18mmol), n-부탄올(1.23ml, 0.998g ; 13.46mmol) , 나트륨메톡시드(0.15ml, 0.045g) 및 디페녹시데페닐포스핀(3.22ml ; 13.46mmol)을 출발물질로 하여 실시한다.
반응생성물을 처리한 후 9.8g의 무색액체를 수득하며 이는 원소분석에서 다음의 조성을 나타낸다 : C=65.2중량% ; H=9.1중량% ; N=2.3중량% ; P=5.18중량%.
이 생성물은 실질적으로 다음의 구조식을 나타낼 수 있다:
실시예 3
이 방법은 실시예1에 발표된 것과 같은 방법으로 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시프로필-γ-메틸-디메톡시실란(4.38g ; 14.46mmol), 헥산디올(1.70g ; 14.46mmol), n-부탄올(1.32ml ; 1.07g ; 14.46mmol); 나트륨메톡시드(0.15ml ; 0.045g) 및 디페녹시페닐포스핀(2.12ml ; 7.22mmol)을 출발물질로 하여 실시한다.
실시예1에 발표한 것같이 반응생성물을 처리한 후 5.7g의 무색액체를 수득하며 원소분석에서 다음의 조성을 나타낸다: C=65.2중량% ; H=9.4중량% ; N=2.4중량% ; P=3.7중량%.
이 생성물은 본질적으로 아래의 구조식을 나타낼 수 있다:
실시예 4
이 방법은 실시예1에 발표된 것과 같은 방법으로 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시프로필-γ-메틸-디메톡시실란(4.1g ; 13.53mmol), n-부탄올(1.23ml ; 1.0g ; 13.53mmol), 헥산디올(1.46g ; 13.53mmol), 나트륨메톡시드(0.15ml ; 45mg)과 또한 다음 구조식의 펜타에리트리롤에서 유도되는 2아인산염(1.70g ; 6.77mmol)을 출발 물질로 하여 실시한다:
실시예1에 발표된 것같이 반응생성물을 처리한 후, 5.1g의 무색액체를 수득하며 이는 원소분석에서 아래의 조성을 나타낸다: C=57.1중량% ; H=10.0중량% ; N=2.7중량% ; P=6.1중량%.
이 생성물은 실제적으로 아래의 구조식으로 나타낼 수 있다:
실시예 5
이 방법은 실시예 1에 발표된 것과 같은 방법으로 2,2,6,6-테트라메틸-피페리디닐-4-옥시프로필-γ-메틸-디메톡시실란(4.25g ; 14.0mmol), 헥산디올(2.48g ; 21mmol), 나트륨메톡시드(0.15ml ; 45mg) 및 벤조페닐아인산염(3.25g ; 14.0mmol)을 출발물질로 하여 실시한다. 이 반응생성물은 디에틸에테르로 희석하고 다음에 0.3ml의 아세트산으로 처리한다.
분리하고 진공-건조한 후, 7.5g의 무색액체를 수득하며 이는 원소분석에서 2.4중량%의 N, 5.2중량%의 P를 나타낸다.
이 생성물은 실제적으로 다음 구조식으로 표현될 수 있다:
상기 실시예에서 제조한 실리콘 안정제 화합물을 Montedison을 써서 폴리프로필렌 Moplefan(R)RLF 20으로 혼합시키고 실험실(WOM 및 UV-Con)과 실외에서 폴리프로필렌필름에 대해서 가속화한 숙성시험의 방법으로서 폴리프로필렌 파괴의 억제력을 측정한다.
실리콘 안정제의 안정력을 폴리프로필렌에 대해 0.1, 0.25 및 0.5중량%의 농도로서 시판되는 제품으로서 다음 구조식의 TINUVIN 770과 비교하였다.
TINUVIN 770
폴리프로필렌에 존재하는 실리콘 안정제 화합물의 양은 어느 경우든 상기한 세가지 농도에서 시판제품 TINUVlN 770으로 공급되는 양과 같게, 입체장애된 그룹으로부터 나온 질소의 양을 보장할 정도가 된다.
더우기, TINUVIN 770에 시판제품 포스포나이트 화합물중 하나인 SANDOSTAB PEPQ(테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)4,4-디페닐렌디포스포나이트)를 본 발명에 따른 실리콘 안정제 화합물에 의해서 공급되는 양과 같은 양의 인을 얻을 수 있을 정도의 양으로 첨가한다.
더우기, 모든 시료는 일정량의 공정 안정제인 BHT(2,5-디-tert-부틸-4-메틸페놀)을 폴리프로필렌에 대해 0.2중량%으로 사용하여 제제형으로 만든다.
모든 경우에서 조성물 성분은 DIOSNA 혼합기를 써서 30분간 혼합한다. 이렇게 제조된 분말을 레프스(reps)여과기와 1:4의 압축비를 가지는 스크류가 있는 압출기에서 30rpm의 회전속도로 하되 190, 235, 270, 270℃의 온도 프로파일로 입자화한다.
그리고 이렇게 수득한 입자를 필름제조용 의장(outfit)이 장착된 같은 압출기로 아래의 조건으로 다시 압출한다: 60rpm ; 온도 프로파일 : 175, 200, 210, 220℃, 이러한 방법으로 두께가 약 50㎛되는 필름을 수득하고 숙성시험 처리한다. UV 형광등의 빛과 암실에서의 축합 사이클을 변화시키는 고분자 필름을 제공할 수 있는 ATLAS사의 장치로 UV-콘에서의 숙성처리를 실시한다. 형광단계는 60℃ 온도의 흑색판넬에서 8시간동안 실시하고 축합단계는 40℃에서 4시간동안 실시한다.
Weather-O-Meter(WOM)에서의 숙성을 위하여 90%의 상대습도와 60℃의 흑색판넬온도에서 최대광도 싸이클(full-light cycle)로 프로그램된 ATLAS GJ65 계기를 사용한다.
실외 숙성은 이태리의 Asiago 지방의 해발 1,000미터의 표고에서 8개월간(4월부터 11월까지)실시한다.
모든 숙성시험에서 고분자 조성물에 미친 분해정도를 평가하기 위하여 ASTM-D882 기준에 따른 파괴점에서의 신장도를 측정한다(표 1,3,5,7,9 및 10) 더우기 UV-Gon과 WOM에서 이루어진 분해는 각종 첨가제 조성물에 대해 상응하는 고분자 필름의 특성을 비교하면서, 시료가 부서질때까지 계속한다(표 2, 4, 6 및 8).
[표 1]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물의 인함량과 같은 량의 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ를 첨가한다.
[표 2]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은 량의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 3]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2의 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물의 인함량과 같은 양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 2]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은 량의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 4]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ를 첨가한다.
[표 5]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은 량의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 6]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물의 인함량과 같은 양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 7]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물의 인함량과 같은 양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ를 첨가한다.
[표 8]
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 2 또는 4의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 동일량의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ을 첨가한다.
[표 9]
실외에서의 고분자 필름의 최초 신장도 값에 대한 상대적인 파괴점에서의 잔유신장도%
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 1의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은 양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ를 첨가한다.
[표 10]
옥외에서의 고분자 필름의 최초 신장도에 대한 잔유신장도%
주 :
시료 A-0.1중량%의 TINUVIN 770, 또는 동일량의 실시예 2,4 또는 6의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 B-0.25중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2, 4 또는 6의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
시료 C-0.5중량%의 TINUVIN 770 또는 동일량의 실시예 2,4 또는 6의 실리콘 안정제 화합물, 0.2중량%의 BHT.
TINUVIN 770으로된 조성물에 추가로 실시예 2,4 또는 6의 실리콘 안정제 화합물에 함유된 인함량과 같은 양의 시판되는 아인산염인 SANDOSTAB PEPQ를 첨가한다.
Claims (6)
- 0.005 내지 0.2중량% 범위내의 양으로된 질소(입체장애된 아민작용기에서 나온)와 0.01 내지 0.4중량% 범위내의 양으로된 인(방향족 아인산염이나 포스포나이트 작용기에서 나온)을 공급할 수 있는 양의 다음 구조식으로된 실리콘 안정제 화합물과 또한 유기고분자를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기고분자의 안정화된 조성물.여기서, R은 1 내지 6탄소원자를 포함한 직쇄 혹은 측쇄 알킬렌기이고, R1은 메틸 혹은 에틸기이고, R3은 4 내지 12탄소원자를 포함한 직쇄 혹은 측쇄 알킬렌기 또는 시클로알킬렌기이고, R4는 1 내지 10탄소원자를 포함한 직쇄 혹은 측쇄 알킬기이고, 또한 R7은 페녹시기이다.
- 제1항에 있어서, R은 3탄소원자를 포함한 알킬렌이고, R3은 6탄소원자를 포함한 알킬렌기이고 또한, R4은 4탄소원자를 포함한 알킬기인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제3항에 있어서, R은 3탄소원자를 포함한 알킬렌이고, R3은 6탄소원자를 포함한 알킬렌이고 또한, R4은 4탄소원자를 포함한 알킬기인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제1항에 있어서, 유기고분자가 올레핀이나 디올레핀의 단중합체이거나 공중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제3항에 있어서, 유기고분자가 올레핀이나 디올레핀의 단중합체이거나 공중합체인 것을 특징으로 하는 조성물.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1019900010483A KR900007768B1 (ko) | 1986-05-02 | 1990-07-09 | 안정화된 조성물과 그 제조방법 |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT20297/86A IT1189096B (it) | 1986-05-02 | 1986-05-02 | Composti stabilizzanti e procedimento per la loro preparazione |
IT20297A | 1986-05-02 | ||
KR1019870004292A KR900006036B1 (ko) | 1986-05-02 | 1987-05-01 | 안정화된 조성물과 그 제조방법 |
KR1019900010483A KR900007768B1 (ko) | 1986-05-02 | 1990-07-09 | 안정화된 조성물과 그 제조방법 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019870004292A Division KR900006036B1 (ko) | 1986-05-02 | 1987-05-01 | 안정화된 조성물과 그 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR900007768B1 true KR900007768B1 (ko) | 1990-10-19 |
Family
ID=27273052
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019900010483A KR900007768B1 (ko) | 1986-05-02 | 1990-07-09 | 안정화된 조성물과 그 제조방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR900007768B1 (ko) |
-
1990
- 1990-07-09 KR KR1019900010483A patent/KR900007768B1/ko not_active IP Right Cessation
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR900006036B1 (ko) | 안정화된 조성물과 그 제조방법 | |
US3510507A (en) | Novel polycarbonates | |
RU2093516C1 (ru) | Способ получения твердого, замещенного органическими радикалами дифосфаспироундекана | |
US2952701A (en) | Organophosphorus derivatives of 2, 2-dimethyl-1, 3-propanediol | |
US4111899A (en) | Heat stabilized thermoplastic resins containing compounds with phosphorus to phosphorus bonds | |
US3533989A (en) | Phosphite antioxidants in polyolefins | |
WO1990008767A1 (en) | Dioxaphosphorinane compounds and polyolefin compositions stabilized therewith | |
US4739000A (en) | Antioxidant aromatic tetraphosphites | |
US3737486A (en) | Polyphosphorous bisphenal condensates | |
KR900007768B1 (ko) | 안정화된 조성물과 그 제조방법 | |
US4246170A (en) | Phenol phosphorus compounds as polyolefin stabilizers | |
JP2754268B2 (ja) | 2,4‐ジ‐tert‐ブチルフエノールの有機燐誘導体並びにビフエニルの4,4,‐ジハロマグネシウム化合物の有機燐誘導体の製造方法および該有機燐誘導体をプラスチックス、特にポリオレフイン成形材料の安定化に使用する方法 | |
US3655718A (en) | Polycarbonate stabilizer compositions | |
JPS62273987A (ja) | 液状混合トリアリ−ルチオホスフェ−トの製法 | |
US3838100A (en) | Reaction products of phenol derivatives with phosphorous compounds as stabilizers for polymers | |
JPS6319517B2 (ko) | ||
EP0487036B1 (en) | Organic phosphites suitable as stabilizers and polymer compositions comprising them | |
US3691132A (en) | Stabilizer system | |
JP2764282B2 (ja) | 長鎖N−アルキル−α−アルキルニトロン及び安定剤としてのそれらの使用方法 | |
US3489826A (en) | Bis(2-t-butyl-4-methyl-6-chlorophenyl) phenyl phosphite | |
BE1009490A5 (fr) | Bisphenylphosphites de composes stabilisants a la lumiere de type amine encombree monomeres et oligomeres utilisables comme stabilisants. | |
RU2665039C1 (ru) | Новое химическое соединение бис(3,5-ди-трет-бутил-4-гидроксифенил)пропил)фосфонат | |
US5128066A (en) | Antioxidant aromatic fluorophosphites | |
JPS61254597A (ja) | 6−〔1−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラアルキル−ピペリジン−4−オキシ〕ジベンゾジオキサホスフエピン及びジオキサホスホシン、該化合物を含有する有機組成物及び該化合物を使用する有機材料の安定化法 | |
FR2620715A1 (fr) | Compositions de resines synthetiques ayant un comportement au feu ameliore renfermant une polyolefine, un additif ignifugeant phosphore associe a des composes bromes et oxyde d'antimoine ou bien associe ou combine avec un compose azote et eventuellement d'autres additifs et/ou charges et objets conformes produits a partir de ces compositions |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A107 | Divisional application of patent | ||
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
G160 | Decision to publish patent application | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 19991014 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |