KR890013716A - 웨이퍼를 프로파일링하고 그 위에 다이를 배치시키기 위한 방법 - Google Patents

Abstract

내용 없음.

Description

웨이퍼를 프로파일링하고 그 위에 다이를 배치시키기 위한 방법

본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

제1도는 본 발명의 방법에 따라 프로파일되고 검사되는 웨이퍼의 개략 평면도.

제2도는 기준 다이가 위에 배치된 제1도의 웨이퍼의 개략 평면도.

Claims (9)

1. 다수의 다이가 위에 형성된 웨이퍼(100)의 표면을 프로파일하는 방법에 있어서, 선정된 좌표계에 관련하여, 웨이퍼(100)의 원주(115)를 따라 최소한 2개의 기준점 셋트(110,111)을 배치시키고, 상기 기준점의 좌표[(X1,Y1),(X2,Y2)를 결정하며, 상기 기준점의 좌표를 통과하는 웨이퍼의 원주의 방정식을 정의하고, 웨이퍼의 상기 방정식의 관련하여, 웨이퍼상에 임의의 타켓트 다이(102)의 좌표(X4,Y4)를 배치하며, 선정된 단계 차원을 사용함으로써, 웨이퍼를 물리적 위치 및 차원에 기초한 다이 그리드로 전체 웨이퍼 표면을 맵핑하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 웨이퍼가 거의 원형의 원주를 갖고 있고, 원주의 방정식을 정의하는 상기 단계가 웨이퍼의 원주를 대략적으로 윤곽하는 가정적 원의 방정식을 정의하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
3. 제2항에 있어서, 상기 배치 단계가 2개의 기준 원주점(110,111)의 좌표를 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한는 방법.
4. 제3항에 있어서, 웨이퍼의 거의 원형 원주의 중심(120)의 좌표(a,b)를 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
5. 제4항에 있어서, 타켓트 다이(102)의 좌표를 계산하는 단계가 선정된 단계 차원을 이용하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
6. 제5항에 있어서, 웨이퍼의 반경(r)을 계산하기 위해 제3원주 점(112)의 좌표를 결정하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
7. 제4항에 있어서, 미리 선택된 원주 다이를 배제시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
8. 제5항에 있어서, 웨이퍼가 최소한 1개의 메이저플랫(105)를 포함하고, 상기 원주 기준점이 상기 메이저플랫상에 배치되지 않는 것을 특징으로 하는 방법.
9. 다수의 다이스가 위에 형성된 웨이퍼(100)의 표면을 프로파일링하는 장치에 있어서, 선정된 좌표계에 관련하여 웨이퍼의 원주를 따라 최소한 2개의 기준 점 셋트(110,111)을 배치시키기 위한 수단, 상기 기준점의 좌표[(X1,Y1),(X2,Y2)를 결정하기 위한 수단, 상기 기준점의 좌표를 통과하는 웨이퍼의 원주의 방정식을 정의하기 위한 수단, 웨이퍼의 상기 방정식에 관련하여, 웨이퍼상에 임의의 타켓트 다이(102)의 좌표를 배치하기 위한 수단, 및 선정된 단계 차원을 사용함으로써, 웨이퍼의 물리적 위치 및 차원에 기초한 다이 그리드로 전체 웨이퍼 표면을 맵핑하기 위한 수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 장치.

   ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.