KR880001436B1 - 릴리이프(relief) 복사물의 제조방법 - Google Patents

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Description

릴리이프(relief) 복사물의 제조방법

본 발명은 광중합성(photopolymerizable) 혼합물, 광 이량체화성(photodimerizable)중합체 화합물 또는 네가티브-워킹( Negative-working) 감광성 디아조 화합물을 함유하는 광-경화성(light-hardenable)복사물질의 감광성층을ㄹ 상이 형성되도록 노출ㅅ키고, 감광성층의 노출되지 않은 부분을 현상제(developer)로 씻어내는 릴리이프 복사물의 제조방법에 관한 것이다.

이러한 광경화성 물질, 특히 광중합성 물질을 대부분의 경우에 상이 형성되도록 노출된 후에도 충분히 경화되지 못한다. 노출과 형성사이의 시간 간격에 따라, 복사된 하프-톤 단계 웨지(half-tone step wedge)의 웨지 길이에 뚜렷한 차이가 있는 것으로 밝혀졌다. 이 변화는 레이저, 예를 들어 아르곤 이온 레이저에 노출되는 경우에 특히 현저하다.

선행 독일 특허원 제 P 30 45 149호에는 이러한 결점을 배제할 수 있는 방법이 이미 기술되어 있다. 이 방법은 처음에 언급한 감광성 물질을 노출동안 또는 노출후에 잠시 상승된 온도에서 가온한 다음 현상함으로써 이루어진다.

본 발명의 목적은 처음에 언급한 물질을 가공할때 항상 동인한 결과에 도달하며 적은 노출로 처리할 수 있도록 하는 처음에 언급한 일반적 형태의 방법을 제공하는 것이다.

본 발명은, 광 중합성 혼합물, 광 이량체화성 중합체 화합물 또는 디아조늄염 중축합 생성물을 함유하는 복사물질의 광-경화성 층을 상이 형성되도로 노출시킨 후 감광성층의 노출되지 않은 부분을 현상제에 의해 씻어내는 릴리이프 복사물을 제조하는 공정에 기초를 두고 있다.

본 발명에서의 공정은, 노출후 감광성층을 잠시 초음파로 처리한 다음 현상함으로써 이루어진다.

초음파처리는 바람직하게는 노출후 가능한한 즉시, 예를 들어 노출후 약 1시간이내에 수행한다.

초음파 욕조의 온도는 4 내지 50℃ 바람직하게는 15 내지 30℃가 되어야 한다.

초음파 처리 지속시간은 5초 내지 40분, 바람직하게는 30초 내지 15분 일수 있다.

노출과 초음파 처리간의 시간 간격이 짧을수록 초음파 처리의 지속시간이 더 짧이질 수 있다.

초음파 처리는 공지된 방법으로, 예를 들어 노출된 플레이트를 시판되는 초음파 욕조[예를 들면 Messrs. Schoeller Schall 로 부터의 USIG-1500(19-21KHz, 1500W) 또는 Messrs. Bransonic으로부터의 타입 12(50KHz, 60W)]중의 하나내에 침지시킴으로써 수행할 수 있다.

본 발명에 의한 방법으로 가공되는 감광성 물질은 바람직하게는 층 지지체(layer support)상에 존재하는 감광성층으로 이루어진다.

바람직한 감광성층은 광 중합성 층이다. 이 층은 필수 성분으로서, 적어도 두 ㅂ말단 에틸렌계 불포화 이중결합을 갖는 중합성 물질, 중합체 가교제 및 화학선(actinicradiation)의 작용하에 에티렌계 불포화 화합물의 자유 라디칼 중합을 개시시킬 수 있는 광 개시제(photoinitiator)를 함유한다. 추가의 성분으로서, 감광층은 단량체, 수소 공여체(hydrgen donor), 습윤제, 가소제, 감광도 조절제(Sensitometric regulator), 염료 및 무색 또는 착색된 안료의 모호한 중합을 방지하기 위해 안정화제 또는 억제제를 함유할 수 있다.

광 개시제로 적당한 물질은 여러가지가 있다. 예를 들면, 벤조인, 베조인 에테르, 다핵성 퀴논(예를 들면 2-에틸-안트라퀴논), 아크리딘 유도체(예를 들면 9-페닐 아크리딘, 9-P-메톡시페닐아크리딘, 9-아세틸 아미노아크리딘, 및 벤조(a) 아크리딘), 페나진 유동체(ㅖ를 들면 9,10-디메틸벤조(a) 페나진, 9-메틸벤조(a) 페나진 및 10-메톡시벤조(a) 페나진), 퀴녹살린 유도체(예를 들면 6.4',4"-트리메톡시-2,3-디페닐 퀴놀살린 및 4',4"-디메톡시-2,3디페닐-5-아조-퀴녹살린), 퀴나졸린 유도체, 각종 케톤의 상조 혼합물(synergistic mixture), 염료/ 산화 환원계, 티오피릴륨염 등이 있다.

광 개시제는 일반적으로 광 중합성 층의 구성성분에 대해 0.01 내지 10중량 %, 바람직하게는 0.2 내지 5중량%의 양으로 사용한다.

본 발명의 목적은 적합한 광 중합성 단량체는 공지되어 있으며, 예를들면 미국특허 제2,760,863 및 3,060,023호에 기술되어 있다.

바람직한 예로는 디글리세롤 디아크릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디메타크릴레이트, 및, 트리메틸올 에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리트리톨 및 다가 지환족 알콜의 아크릴ㄹ레이트 및 메타크릴레이트와 같은 아크릴산 에스테르 및 메타크리산 에스테르가 있다. 이이소시아네이트, 다가 알콜의 부분 에스테르와의 반응생성물도 유리하게 사용될 수 있다. 이러한 단량체는 독일연방공화국 공개공보 제2,064,079와 2,361,041호에 기술되어 있다.

감광층내의 단량체의 비율은 일반적으로 약 10 내지 80중량%, 바람직하게는 20 내지 60중량%이다.

사용되는 수소공여체는 주로 지방족의 폴리에테르이다. 경우에 따라, 이 작용은, 결합제 또는 중합성 단량체가 불안정한 수소원자를 가지고 있다면 이런 결합제 또는 중합성 단량체에의해서도 수행될 서 있다.

결합체로서 다수의 가용성 유기 중합체가 결합제로서 사용될 수 있다. 예를 들면, 폴리아미드, 폴리비닐 에스테르, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐 에테르, 에폭시 수지, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리에틸렌 옥사이다, 폴리디메틸아크릴아미드, 폴리비닐 피롤리돈, 폴리비닐 메틸 포름 아미드, 폴리비닐 아세트아미드 및 언급된 호모폴리머(Homopolymer)를 형성하는 단량체들의 공중합체가 있다.

그외의 적합한 결합제로는 천연물질 또는 개질된 천연물질(예를 들면 젤라틴, 셀룰로오스 에테르 등)이 있다.

물중에 불용성이지만 알칼리 수용약중에 가용성이거나 적어도 팽윤될 수 있는 결합제를 사용하는 것이 특히 유리한데, 왜냐하면 이러한 결합제를 함유하는 감광층은 수성 알칼리 현상제로 현상될 수 있기 때문이다. 이러한 결합제는, 예를 들어, -COOH, -PO₃H₂, -SO₃H, -SO₂NH-CO-등과 같은 그룹을 함유한다. 이들 결합제의 예로는 말레이트 수지β-메타크릴로일옥시메틸 N-(P-톨릴 설포닐)-카바메이트의 중합체, 및 이들 및 유사 단량체와 다른 단량체와의 공중합체 뿐만 아니라 스티렌/무수 말레산 공중합체가 있다. 독일 연방공화국 공개공보 제2,064,080 및 2,363,806호에서 기술된 바 있는 메틸 메타크릴레이트/메타크릴산의 공중합체 및 메타크릴산 알킬메타크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트 및 /또는 스테렌, 아크릴로니트릴등의 공중합체가 바람직하다.

결합제의 양은, 일반적으로, 감광성층 구성성분의 20 내지 90중량%, 바람직하게는 40 내지 80중량%이다.

일반적으로, 광 중합 동안, 광 중합성 층을 대기중의 산소의 영향으로부터 보호하는 것, 즉 무엇보다도, 광중합성 층으로의 대기산소의 연속 확산을 방지하는 것이 아주 유리하다. 이것은 공정이 진공 복사프레임(Vacuum copying frame)없이 수행되는 경우, 예를 들어 투사(projection) 또는 레이저 방사에 의한 노출시에 특히 중요하다. 광감성 혼합물이 얇은 복사층의 형태로 사용되는 경우, 산소의 투과도가 낮은 적합한 피복필름(Covering film)을 사용하는 것이 바람직하다. 이 필름은 자기-지지형 일수 있고 복사층을 현상하기 전에 벗겨질 수 있어야 한다. 예를 들면, 폴리에스테르 필름이 이 목적에 적합하다. 피복필름은, 현상액중에 용해하거나 적어도 경화되지 않은 부분에서 현상동안 제거될 수 있는물질로 이루어질 수 있다. 이 목적에 적합한 물질은, 예를 들면, 왁스, 폴리비닐 알콜,폴리포스페이트, 설탕등이 있다.

적합한 광이량체화성 물질로는, 무엇보다도, 신남산 유도체, 특히 폴리비닐 신나메이트와 같은 폴리히드록시 화합물의 신남산 에스테르가 있다. 이 형태의 복사 물질은 영국 특허 제645197호에 기술되어 있다.

디아조늄염 중축함 생성물을 기재로한 복사물질도 사용할 수 있다.

적합한 디아조늄염 중축합 생성물로는 축합 가능한 방향족 디아조늄염(예를 들면 디페닐아민-4-디아조늄염)과 알데히다, 바람직하게는 포름알데히드와의 축합 생성물이 있다. 디아조늄염 이외에 감광성이 아닌 다른 구성단위를 함유하는 축합가능한 화합물, 특히 방향족 아민, 페놀, 페놀-에테르, 방향족 티오에테르, 방향족 타노하수소, 방향족 헤테로사이클 화합물 및 유기산 아미드로부터 유도되는 공-축합 생성물을 사용하는 것이 특히 바람직하다. 이들 축합 생성물은 미합중국 특허 제3,867,147호에 기술되어 있다.

일반적으로, 미합중국 특허 제4,186,017호에 기술되어 있는 디아조늄염 중축합 생성물은 모두 적합하다.

이들 복사 물질의 감광성층은 추가로 결합제, 염료, 지시약(indicator), 안료, 안정화제, 습윤제 및 다른 통상적인 첨가제를 함유할 수 있다. 결합제는 수용성 또는 수-불용성 일 수 있다. 바람직하게는, 수-불용성수지 결합제는 특히 디아조늄염의 공-축합 생성물과 함께 사용된다. 적합한 결합제의 예로는 폴리알킬 아크릴레이트, 메타트릴산/알킬 메ㅌ타크릴레이트 공중합체, 측쇄 설포닐우레탄 그룹을 갖는 중합체, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 폴리우레탄, 폴리비닐 에스테르 및 폴리비닐 아세탈이 있다.

디아조늄염 축합생성물의 비율은 일반적으로 전체층을 기준하여 10 내지 100중량%, 바람직하게는 20 내지 95중량%이며, 결합제의 양은 0 내지 90중량%, 바람직하게는 5 내지 80중량%이다.

층 지지체의 성질은 감광성 물질의 의도된 용도에 따라 달라진다. 평판 인쇄 판을 제조하기 위해서는, 바람직하게는 양극 생성된 다공성 산화물층을 갖는 알루미늄이 일반적으로 사용된다. 알루미늄은 양극 산화 전에 기계적으로, 화학적으로 또는 전해에 의해 바람직하게 거칠어 진다. 양극 산화는 공지된 방법으로, 예를 들면, 황산 및/.또는 인산중에서, 바람직하게는 5 내지 10g/m²의 산화물 층을 얻을 수 있는 조건하에서 수행한다.

감광성 층을 적용하기 전에 산화물층을 프린팅, 특성, 특히 친수성을 증진시케기 위해 예비처리(예를 들면 실리케이트, 폴리비닐 인산, 헥사플루오르지르코네이트, 헤테로 다중산 테트라알킬 티타네이트 또는 폴리앝크릴산을 사용한 예비처리)하는 것이 바람직하다. 지지체의 피복은 스핀-피복(spin-coating), 분무 또는 침지, 또는 로울러 또는 슬롯 다이(Slot die)에 의한 피복, 또는 주조(Casting) 또는 닥터(doctor)적용법에 의해 공지된 방법으로 수행한다.

알루미늄 뿐만 아니라 철, 아연, 구리, 크롬-도금 철, 크롬-도금 구리, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 또는 셀룰로오즈 아세테이트의 플라스틱 필름, 펄론 가제(perlon gauze)또는 니켈 스크린과 같은 스크린-프린팅(screen-printing)지지체 등도 사용할 수 있다.

본 발명에 따르는 방법은 바람직하게는 평판 인쇄 조판(planographic printing form)을 만드는데 사용할 수 있다. 또한 그라비아(gravure)인쇄조판, 레터프레스(letter press)< 특히 만곡인쇄조판(flexographic printing form), 스크린 인쇄 판형(Screen printing stencil), 메치 내식막 (etch resist) 및 전기도금내식막(electroplating resist) 의 제조에도 사용할 수 있다.

복사 물질의 영상화(inaging)를 공지된 방법으로, 예를 들면 투명한 원판(original)하에서의 접촉 노출에 의해 수행한다. 이를 위해, 카본아-크등, 크세논등 금속 할로겐-개질 고압 수은등과 같은 통상적인 광원이 사용될 수 있다.

영상화는 아르곤 이온 레이저와 같은 레이저 광을 이용하여 바람직하게 수행할 수도 있다. 이러한 형태의 노출에 있어서, 본 발명에 따르는 방법에 의해 노출의 효율이 특히 크게 증대된다.

본 발명의 범위내에서 일반적을 화학선, 즉, 근 자외선 및 단파장 가시광선 범위내의 방사선이 영상 노출에 적합하다.

노출되고 가온된 복사물질의 현상은 감광성층의 노출되지 않은 부분을 현상제로 씻어냄으로써 공지된 방법으로 수행한다. 현상제의 조성은 감광성층의 성질 및 용해도에 좌우된다. 적합한 현상제로는 유기 용매, 습윤제, 염료 및 다른 통상적인 첨가제를 함유할 수 있는 알칼리성 또는 약산성 수용액이 있다. 유기 용매를 함유하지 않은 현상제가 바람직하다.

본 발명은, 노출된 층부위의 경화가, 노출시간을 초음파 처리없이 요구되는 시간의 1/2까지 감소시킬 수 있을 정도로 증가되는 효과를 갖는다. 레이저 광을 조사하는 경우, 차이는 더욱 커진다. 초음파처리의 추가 효과로서는, 층의 노출된 부위의 경화가 명확하게 더 충분히 일어난다. 더우기, 스크린 부분은 더 선명하게 완전히 현상되고, 하프-톤 웨제끝이 보다 더 날카롭게 되며, 감광성 층의 가교되지 않은 부분은 보다 더 빨리 현상된다. 이러한 이점은 인쇄판, 특히 인쇄가 경화된 영상층으로부터 수행되는 평판 인쇄판을 제조하는 경우에 특히 증대된다.

다음의 실시예는 본 발명 내용을 설명하다. 중량부(p.b.w)와 부피부(p.b.v)ㅡ이 관계는 g가 ml사이의 관계와 같다. 별다른 언급이 없는한 퍼센트 데이타와 양비율은 중량단위이다.

[실시예 1]

폴리비닐인산의 0.1% 수용약으로 예비처리된, 3g/m²의 산화물층을 갖는 전기 화학적으로 거칠어지고 양극산화된 알루미늄을 인쇄판을 위한 층 지지체로서 사용한다. 지지체를 하기와 같은 조성의 용약으로 피복한다. 메틸 에틸 케톤 중의 110의 산가 및 35ㅡ,000의 평균 분자량을 갖는 메타크릴에이트/메타크릴산 공중합체의 34.7% 용약 11.7중량부, 헵타-1,6-디엔-2,6-디카복실산의 디메틸에스테르 2.0중량부, 트리메틸올탄 트리아크릴레이트 2.0중량부, 9-페닐아크리딘 0.07중량부, 4-디메틸아미노-4'-메틸디벤잘아세톤 0.07중량부, 2,4-디니트로-6-클로로 벤젠디아조늄염 및 2-메톡시-5-아세틸아미노-N-시아노에틸-N-히드록시에틸아닐린으로부터 수득된 아조 염료 0.04중량부, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 38.0중량부 및 부틸 아세테이트 13.5 중량부.

혼합물은 스핀-코팅에 의하여 2.8내지 3.0g/m²의 건조중량이 제공되도록 적용한다. 그 다음, 판을 100℃의 순환 공기 건조기내에서 2분동안 건조시킨다.

감광성 피복된 판을 폴리비닐알콜 15% 수용액(칼륨가 4, 잔류아세틸그룹 12%)으로 피복시킨다. 건조후, 중량이 4 내지 5g.m³인 피복 필름을 수득한다.

수득된 인쇄판을 0.15의 밀도증가를 갖는 13 단계 노출 우지하에 110cm의 거리에서 5kw 금속 할라이드 램프를 사용하여 30초동안 노출시킨다.

노출된 판을 반으로 절단한다. 반쪽을 즉시 현상시키고 나머지 반쪽은 수욕조가 25℃로 가온된 시판용 초음파 장치(USIG 1500from Messrs. Sohoeller schall, Rrankfurt, 15-21KHz, 1500W)를 통해 통과시킨다. 장치내에서 판의 체류 시간은 10분이다.

그후, 2개의 반쪽 판을 하기 조성의 현상제로 현상한다 : 나트륨 메타실리케이트 x9 H₂o 120중량부, 스트론튬 클로라이드 2.13중량부, 비이온성 습윤제(약 8개의 옥시에틸렌 단위를 함유하는 코코낫 지방 폴리옥시에틸렌 에테르) 1.2중량부, 소포제 0.12중량부 및 완전한 탈염수 4,000중량부.

판을 1%인산으로 산성화시키고, 집아 인쇄 잉크로 도포시킨다. 하기와 같은 완전히 가교 결합된 웨지 단계가 수득된다 :

초음파 처리함 초음파 처리 안함

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현상하기 전에 초음파처리를 받은 인쇄판은 210,000의 인쇄수명을 갖는 반면에, 초음파 처리하지 않은 판은 190,000의 인쇄수명을 갖는다.

[실시예2]

실시예 1에서 언급된 층 지지체를 3g/m²의 피복물 중량을 제공하도록 하기 조성의 용약으로 스핀-피복한다 : 실시예 1에서 언급된 공중합체용약 11.7중량부, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 38.0 중량부, 헵타-16-디엔-2,6-디카복실산의 디에틸 에스테르 3.9중량부, 9-페닐아크리딘 0.07중량부, 실시예 1에서 언급된 아조염료0.04중량부, 4-디메틸아미노-4'-메틸디벤잘아세톤 0.07중량부.

판을 실시예 1에서와 같이 같은 방법으로 제조한다.

하기와 같은 수의 완전하게 가교 결합된 단계 웨지를 수득한다.

초음파 처리함 초음파 처리안함

(38℃에서 5분간)

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인쇄시험을 수행한다. 이 목적을 위하여, 지방산 잉크로 도포된 옵셋 인쇄판을 시판용 인쇄기(Heidellberg 타입 GTO)에 고정시킨다. 200,000 회 인쇄후, 60라인 스크린에서 파열(breking-off)을 관찰할 수 없을지라도 인쇄시험을 중지한다.

9-페닐아크리딘 대신에 2,2-디메톡시-2페닐 아세토페논 또는 2-(4-에톡시나프스-1-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-S-트리아진 도는 2-(아세나프스-5-일)-4,6-비스-트리클로로메틸-S-트리아진을 사용하여 비교결과를 수득한다.

[실시예 3]

실시예 1에서 언급된 층지지체를 3.5g/m²의 피복물 중량을 수득하도록 하기 조성의 용약으로 스핀-피복한다 : 부타논 중의, 190의 산가를 갖는 스티렌, n-헥실메타크릴레이트 및 메타크릴산(10 : 60 : 30) 터폴리마의 21.7% 용약 10중량부, 트리메틸올에탄 트라아크릴레이트 2.0중량부, 9-페닐아크리딘 0.06중량부 및 부타논18.0중령부 및 아세테이트 7.5중량부중의 메틸 바이오렛(C.I. 42,535) 0.03 중량부

그 다음, 피복된 판을 100℃의 순환공기 건조기내에서 2분동안 건조시키고, 실시예 1에서와 같이 피복필름을 제공한다. 판을 실시예 1에서 설명된 바와 같이 13단계 노출 웨지하에서 4,8,15 및 30초 동안 노출시키고 하기 조성의 현상제로 현상한다. : 나트륨 메타실리케이트 x9H2O 5.3중량부, 3급-인산타트륨 x12H2O 3.4중량부, 2급-인산나트륨 0.3중량부, 완전한 탈염수 91.0중량부.

병행하여, 판을, 노출후 직접 판을 실시예 1에서 언급된 초음파 장치내의 22℃ 물중에서 15분동안 초음파 처리하는 것을 제외하고는 동일한 방법으로 제조하고 노출시킨다. 판을 인산으로 산성화시키고 지방 인쇄 잉크로 도포한다. 완전히 가교결합된 광택 단계를 거쳐 하기 도포를 수득한다 :

*) 22℃ 물중에서 15분 동안 초음파 처리

[실시예 4]

실시예 3에 기술된 바와 같이 제조된 인쇄판을 13단계 연속-계조(tone) 단계 웨지 하에서 30초 동안 노출시킨다. 5웨지 단계가 수득된다. 다른 상응하는 판은 15초동안 노출시킨 다음 5분동안 초음파 처리한다. 두판은 5경화된 웨지 단계를 제공한다.

그 다음, 판을 시판용 인쇄기(Heidelberger GTO)에 사용한다. 초음파 처리를 하지 않은 판은 150,000 인쇄후 마모의 징조를 보이는 반면 초음파 처리를 받은 판은 단지 180,000회 인쇄후 마모의 징조를 보인다.

[실시예 5]

실시예 1에서 언급된 층 지지체를 3.5g/m²의 피복물 중량을 제공하도록 하기 조성의 용액으로 스핀-피복한다 : 헵타-1,6-디엔-2,6-디카복실산의 디에틸 에스테르 2.6중량부, 및 140℃ 내지 160℃의 연화점 및 145 내지 160의 산가를 갖는 스틸렌/말레산 에스테르 공중합체 6.5중량부, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 70.0중량부, 9-페닐아크리딘 0.1중량부, 실시예 1에서 언급한 아조 염료 0.035중량부, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌 디이소시아네이트 1몰 및 2-히드록시에틸 메타크릴레이트 2몰 부터 수득된 반응 생성물 1.0중량부, 그 다음, 피복된 판을 100℃의 순환공기 건조기내에서 2분동안 건조시키고 실시예 1에서와 같이 피복필름을 제공한다. 판을 아르곤 이온 레이저가 장치된 Laserite(R) 150R 장치(Messre Eocom Corp)내에서 200mW 및 1200 L/인치=5.3mJ/cm2로 조사한다. 조사후, 영상 대비는 우수하였다. 그 다음, 판을 실시예 1의 현상제로 현상한다. 연속-계조 단계 웨지의 완전히 가교 결합된 웨지 단계의 수는 노출후 즉히 현상한 경우 3이다.

노출과 현상사이에 초음파 장치의 20℃물중에서 10분동안 초음파 처리하는 것을 제외하고 동일한 판을 동일한 방법으로 가공하는 경우에 7웨지 단계가 수득된다.

그 다음, 노출 1시간후, 판을 초음파 처리후 현상하면, 마찬가지로 7웨지 단계가 수득된다.

교정인좨(proof printing) 및 생산인쇄(production printing)를 Heidelberger GTO 옵셋 인쇄기상에서 알콜성 저장용약을 사용하여 수행하여 150,000 시이트를 수득한다. 초음파 처리한 판의 경웅에는 170,000 시이트가 수득된다.

[실시예 6]

a) 3g/m²의 산화물층을 함유하며 전기 화학적으로 거칠어지고 양극산화된 알루미늄 표면을 하기 조성물의 용약으로 총 중량 3g/m²의 제공하도록 스핀-피복한다 : 실시예 1에서 언급된 공중합체 용약 11.4중량부, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르 37.9중량부, 부틸 아세테이트 13.45중량부, 트리메틸올에탄 트리아크릴에이트 4.0중량부, 4-메틸벤잘퀴날딘 0.07중량부, 실시예 1에서 언급된 아조염료 0.08중량뷰ㅡ 4-디메틸아미노-4'-메틸디벤잘아세토 0.07중량부, 및 비스-언데실 디설파이드 0.56중량부.

피복된 판을 100℃의 건조기내에서 2분동안 건조시킨다.

b) 추가의 판을 동일한 방법으로 제조하고 실시예 1에서와 같이 폴리비닐 알콜 4 내지 5ㅍg/m²의 피복필름을 제공한다.

c) 제3의 판을 비스-운데실 디설파이드의 첨가없이 a)와 같이 제조한다.

d)제4의 판을 c)와 같이 제조하고, b)와 같이 피복필름을 제공한다.

수득된 옵셋 인쇄판의 샘플을 5Kw 금속 할라이드 램프를 사용하여, 0.15의 밀도 증가를 갖는 13단계 노출웨지하에서 10, 20 및 40초 동안 노출시킨다. a) 내지 d) 하에서 언급된 각 판의 반쪽을 노출후 즉시 실시예1에서 언급된 초음파 장치를 통하여 통과시킨다. 온도는 25℃ 이고 체류시간은 50초이었다. 각 경우에, 나머지 반쪽은 초음파 처리를 하지 않는다.

그후, 모든판을 실시예 1에서 기술된 현상제로 현상한다.

그 다음, 1% 인산으로 산성화시키고 지방인쇄 잉크로 도포한다. 완전히 가교 결합된 웨지 단계의 하기와 같은 수가 수득된다 :

[실시예 7]

본 발명의 광범위한 용도를 설명하기 위하여, 시판용 광중합성 평판 인쇄판(Lydel^(R)Ia, Dupont, 및 XN, 3M CO.)을 연속-계조 웨지 하에서 30초 동안 노출시킨 다음 30초동안 초음파 처리한다. 그후, 판을 제조업자에 의해 제공된 현상제로 정해진 지시에 따라 현상한다. 초음파 처리를 하지 않은 비교 샘플을 직접 현상한다. 하기와 같은 웨지 단계가 수득된다 :

[실시예 8]

에틸렌 글리콜 메틸 에테르 아세테이드 2.2중량부 및 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르 95중량부 중의, 3-메톡시 디페닐아민-4-디아조늄염 1몰 및 4,4'-비스-메톡시메틸디페닐 에테르 1몰로부터 수득된 중축합 생성물(이 생성물은 메시틸렌 설포네이트로서 분리된다) 0.6중량부, 인상 0.05중량부, Hostaperm Blue B2G(CI.74, 160)0.27중량부, 폴리비닐 포르말(Formvar 12/85)1.87중량부 및 메틸 오렌지 0.01중량부의 용약을 실시예 1에서 언급된 층 지지체에 적용하고 90℃에서 4분동안 건조시킨다.

수득된 인쇄판의 샘플을 13단계 노출 웨지하에서 40초 동안 노출시킨 다음 물 72.4중량부중의 MgSO4 x7H2o 5.7중량부, n-프로판올 20.2중량부, 에틸렌 글리콜 모노부틸 에테르 1중량부 및 에톡시화된 알킬페놀 0.7중량부의 용액으로 현상한다. 완전히 가교 결합된 5웨지 단계가 수득된다.

동일한 감광성 인쇄판의 추가의 샘풀을 상술한 바와 같이 노출시키고, 노출후 40℃에서 10분동안 초음파 처리를 한다. 현상후, 6 내지 7웨지 단계가 수득된다.

[실시예 9]

에틸렌 글리콜 에틸 에테르 아세테이트 90중량부중의 폴리비닐 신나메이트 7중량부, 365 내지 420의 에폭시 당량을 갖는 에폭시수지(Araldite B) 12.5중량부, 수소화된 로진 에스테르(Staybelite Ester 10) 2중량부, 2-벤조일 메틸렌-1-메틸-β-나프토티아졸린 0.07중량부 Renol Carmin FBB'-H(C.I. 12, 485) 10중량부의 용약을 전기 화학적으로 거칠어지고 양극산화된 알루미늄판에 적용한 다음, 90℃에서 3분동안 건조시킨다. 판의 일부분을 13단계 노출웨지하에서 25초 동안 노출시키고 이어서 에틸렌 글리콜 에틸에테르 아세테이트 43중량부, 에틸렌글리콜 모노 에틸 에테르 21중량부, 트리데칸올과 약 8 내지 12몰의 에틸렌 옥사이드와의 부가 생성물 15중량부, 부티롤 락톤 1.25중량부, 아세트산 4중량부, 인산 3중량부, 및 물 0.3중량부의 용약으로 현상시킨다. 경화된 7웨지 단계가 수득된다.

감광성 인쇄판의 추가의 샘플을 상술된 바와 같이 노출시키고, 노출후 60초동안 초음파 처리를 수행한다. 현상후, 경화된 9웨지 단계가 수득된다.

Claims (4)

1. 광중합성 혼합물, 광이량체화성(photodimerizable)중합체 화합물 또는 디아조늄염 중축합 생성물을 함유하는, 광-경화성 복사물질의 광-경화성 층을 상이형성되도록 노출시킨후, 층의 노출되지 않은 부분을 현상제로 씻어내어 릴리이프(relief) 복사물을 제조하는 방법에 있어서, 광-경화성 층을 노출시킨 후에 잠시 초음파로 처리한 다음 현상시킴을 특징으로 하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 층을 4내지 50℃ 범위의 온도에서 초음파 처리하는 방법.
3. 제1항에 있어서, 층을 5초 내지 40분 동안 초음파 처리하는 방법.
4. 제1항에 있어서, 2이상의 말단 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 중합성 화합물, 중합체 결합제 및 노출시 유리 라디칼을 생성시킬 수 있는광-개시제를 함유하는 광 중합성층을 갖는 광-경화성 복사물질이 사용되는 방법.