KR850001308A - 금속 세척 조성물 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (4)
- HLB값이 3 내지 18인 비이온 활성제 및/또는 음이온 활성제, 하기 일반식(I)의 카복실산 또는 이의 염, 하나의 질소원자와 하나의 황원자를 갖거나 세 개의 질소원자를 가진 5-원환(員環)화합물 및/또는 히드록실기를 가진 퀴놀린 유도체로 이루어진 금속 세척조성물.R-X-(CH2)m-COOM (I)상기식에서, X는 N-H, N(CH2)n-COOM 또는 CH-COOM이고, R은 포화 또는 불포화된 탄소수 4내지 18의 지방족 탄화수소기, 페닐기 또는 톨릴기이고, m 및 n은 각각 1 내지 3의 정수이며, M은 양이온이다.
- 제1항에 있어서, 언급된 5-원환화합물이 벤조트리아졸, 메틸벤조트리아졸, 에틸벤조트리아졸, 벤조티아졸 및 2-머캅토벤조티아졸 중의 하나 이상의 화합물인 금속세척조성물.
- 제1 또는 2항에 있어서, 하기의 언급한 (1) 술폰산 및 술포네이트, (2) 카복실산 또는 이의 염 및 (3) 무기산의 염중 하나이상의 부식제를 더 함유하는 금속세척조성물.(1) 술폰산 및 술포네이트[상기식에서, R1및 R2는 각각 수소, 메틸 또는 에틸이고, M'는 양이온이다.](2) 카복실산 또는 카복실레이트(a) 아세트산 또는 이의 유도체[상기식에서, R1, R2및 R3는 각각 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 3의 알킬기, 또는 아릴기이고, M'는 양이온이다.](b) 옥살산 및 포름산(c) α, ø-불포화 디카복실산 및 이의 유도체[상기식에서, R1및 R2는 각각 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 또는 아릴기이고, M'는 양이온이다.](d) 방향족 디카복실산 및 이의 유도체[상기식에서, R1및 R2는 각각 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 또는 아릴기이고, M'는 양이온이다.] 및(e) 방향족 트리카복실산 또는 이의 유도체[상기식에서, R1및 R2는 각각 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 4의 알킬기, 또는 아릴기이고, M'는 양이온이다.](3) 질산, 황산 또는 인산중에서 선택된 무기산.
- 제3항에 있어서, 각 염의 M'가 탄소수 1 내지 4의 지방족아민, 암모니아, 탄소수 2 내지 10의 알칸올아민, 알칼리금속, 하이드라진 및 하이드록실아민 중에서 선택된 화합물 하나 이상으로 부터 유도된 이온인 금속세척조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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