KR850000424A - 산화에틸렌 반응기 - Google Patents

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윌리암 시이롱
더 핼콘 에스디이 구루우프 인코포레이팃드
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    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D301/00—Preparation of oxiranes
    • C07D301/02—Synthesis of the oxirane ring
    • C07D301/03—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds
    • C07D301/04—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen
    • C07D301/08—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the gaseous phase
    • C07D301/10—Synthesis of the oxirane ring by oxidation of unsaturated compounds, or of mixtures of unsaturated and saturated compounds with air or molecular oxygen in the gaseous phase with catalysts containing silver or gold
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    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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Abstract

내용 없음.

Description

산화에틸렌 반응기
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 따라 제작되고 조작되는 다관식 반응기를 나타낸다.
제1a도는 제1도의 반응기 일부를 확대한 것이다.
제2도는 본 발명에 따른 전형적인 반응기의 성능을 나타낸 그래프이다.

Claims (9)

  1. 발열반응열을 제거해주는 액체에 의해 둘러싸인 다수의 관들 내부에 지지 은촉매가 배치되어 있으며 상기관들이 상기 촉매의 하류위치에 불활성입자를 함유하는 인접한 유출기체 냉각대역을 가지고 있는 그런 고정상 반응기내에서 분자산소를 사용하여 에틸렌을 산화에틸렌으로 촉매산화하는 방법에 있어서, 유출기체가 저난류 상태로 있으며, 관내부의 열전달계수가 약 200kcal/hr - ㎡-℃ 이하인 그런 냉각재분배 대역이 상기 냉각대역의 하류위치에 인접하여 설치되어 있음을 특징으로 하는 방법.
  2. 제1항에 있어서 분배대역내 관내부의 열전달계수가 약 150kcal/hr -㎡-℃ 이하인 방법.
  3. 제1항에 있어서 분배대역내 관내부의 열전달계수가 약 80kcal/hr -㎡- ℃인 방법.
  4. 제3항에 있어서 분배대역내 관외부의 열전달계수가 약 300-450kcal/hr - ㎡-℃범위인 방법.
  5. 제1항에 있어서 상기한 냉각재가 물인 방법.
  6. 제5항에 있어서 상기 반응열이 비등수로서 제거되는 방법.
  7. 임정간격으로 떨어져 있는 한 셋트의 관들이 유입관판과 배출관판 사이에 배치되어 있으며, 이들은 상기 관들과 관판의 바깥쪽을 경계짓는 공간을 한정짓는 외각내에 놓여 있으며, 상기 외각이 반응발열열을 제거해 주는 냉각액체에 의해 점유되어 있으며, 상기 관들 각각이 상기 반응에 필요한 촉매를 함유하고 있으며, 불활성입자를 함유하는 인접한 냉각대역이 상기 촉매하류에 배치되어 있는 증기상발열 화학반응용 관형 반응기에서, 상기 반응기의 유출기체를 냉각시켜 주는 상기 냉각대역에 인접하여 있으며, 상기 냉각액체를 분해시켜 주는 분배대역이 상기 촉매와 상기 냉각대역의 하류인 상기 배출관판에 평행인 내부 배플과 배출관판 사이에 있어 상기 관들의 한 부분을 구성하며, 상기 냉각액체의 도입부가 상기 배출관판 근처이며, 상기 액체 배출부위가 상기 관들과 내부배플 사이의 상기 배플내에 있는 환상공동으로서 그로 인해 상기 액체가 상기 관에 대해 평행으로 흐르게 됨을 특징으로 하는 관형 반응기.
  8. 제7항에 있어서 상기 관들의 상기 분배대역내에 있는 부분이 비어있는 반응기.
  9. 제1항 내지 8항중 어느 한 방법, 생성물 또는 장치나 이들의 조합.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019840003720A 1983-06-30 1984-06-29 산화에틸렌 반응기 KR910002881B1 (ko)

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