KR840000502A - 피라졸 유도체의 제조방법 - Google Patents

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KR840000502A
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마사히로 아야 (외 3)
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다데노 고자부로
니혼 도꾸슈 노야꾸 세이쪼 가부시끼 가이샤
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    • C07D231/00Heterocyclic compounds containing 1,2-diazole or hydrogenated 1,2-diazole rings
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

내용 없음

Description

피라졸 유도체의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (8)

1,3-디메틸-4-(2,4-디클로로-벤조일)-5-하이드록시 피라졸을 일반식(Ⅱ)의 산 할라이드와 반응시킴을 특징으로 하여 일반식(Ⅰ)의 피라졸 유도체를 제조하는 방법.
상기 식중, X는 할로겐 원자를 나타내고, R은 할로겐 원자 또는 할로겐 또는 C1내지 C6의 알킬에 의해 임의로 치환된 아릴 그룹이다.
제1항에 있어서, 반응을 불활성 용매 또는 희석제 존재하에 시행하는 방법.
제1항 또는 2항에 있어서, 반응을 -20℃ 내지 반응혼합물의 비점의 온도에서 시행하는 방법.
제1항 내지 3항중의 어느 하나에 있어서, 반응을 산결합제 존재하에 시행하는 방법.
제1항 내지 4항 중의 어느 하나에 있어서, 일반식(Ⅱ)의 산 할라이드가 본 명세서중 특별히 언급된 화합물 중의 어느 것인 방법.
실시예 1 내지 7 중의 어느 것에 기술된 바와 같이 제1항에 따르는 일반식(Ⅰ)의 화합물을 제조하는 방법.
활성성분으로서 전술된 일반식(Ⅰ)의 화합물을 고체 희석제 또는 담체와의 혼합물 또는 계면 활성제를 함유하는 액체 희석제 또는 담체와의 혼합물로서 함유함을 특징으로 하는 제초제 조성물.
제7항에 있어서, 활성화합물을 0.001 내지 100% 함유하는 조성물.
※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019820002594A 1981-06-10 1982-06-10 피라졸 유도체의 제조방법 KR840000502A (ko)

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