KR830007765A - 반응성 모노아조 염료의 제조방법 - Google Patents

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Abstract

내용 없음

Description

반응성 모노아조 염료의 제조방법
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음

Claims (15)

  1. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
    상기식에서, D는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 할로겐, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 벤조아미노, 식시닐아미노, 말레이닐아미노, 니트로, 설폰산 및 카복실기에서 선택된 치호나제 13으로 치환된 페닐기, 또는 13의 설폰산기로 치환된 나프틸기; R1은 수소원자 또는 메틸 또는 에틸기;R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 할로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기로 치환 또는 비치환된 탄소수 14의 알킬기; Z는 수소원자 또는 설폰산기;A는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 취소운자 및 설폰산기에서 선택된 치환체 1∼2로 치환 또는 비치환된 페닐렌잔기 또는 하나의 설폰산기로 치환 또는 비치환된 나프틸렌잔기이고; X는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2HY(여기에서 Y는 알카리에 의하여 분해될 수 있는 기이다)이다.
  2. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
    상기식에서, R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 하로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기로 치환 또는 비치환된 탄수소 1∼4의 알킬기이다.
  3. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
    상기식에서, R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 할로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기 ; n은 0 또는 1;A는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 취소 및 설폰산기에서 선택된 1 또는 2의 치환체로 치환 또는 비치환된 페닐렌 잔기 또는 하나의 설폰산기로 치환 또는 비치환된 나프틸렌 잔기;X는 -SO2CH2CHY(여기에서 Y는 알카리에 의하여 분해될 수 있는 기이다)기이다.
  4. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
    상기식에서, R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 할로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기로 치환 또는 비치환된 탄수소 1∼4의 알킬기이다.
  5. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  6. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  7. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합무.
  8. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  9. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  10. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  11. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  12. 다음 구조식의 유리산으로 표시된 화합물.
  13. 다음의 방법으로 구조식(Ⅰ)의 유리산으로 표시된 화합물을 제조하는 방법.
    상기식에서, D는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 할로겐, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 벤조아미노, 석시닐아미노, 말레이닐아미노, 니트로, 설폰산 및 카복실기 중에서 선택된 1∼3으로 치환체로 치환된 페닐기, 또는 설폰산기 1∼3으로 치환된 나프틸기; R1은 수소원자, 또는 메틸기 또는 에틸기;R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 할로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기로 치환 또는 비치환된 탄소수 1∼4의 알킬기; Z는 수소원자 또는 설폰산기;A는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 취소 및 설폰산기에서 선택된 1 또는 2의 치환제로 치환 또는 비치환된 페닐렌잔기 또는 하나의 설폰산기로 치환 또는 비치환된 나프틸렌 잔기이고; 및 X는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2HY(여기에서 Y는 알카리에 의하여 분해될 수 있는 기이다)이다.
    (1) 시아누릭클로라이드를 다음 구조식(Ⅳ)의 모조아조 화합물과 축합시키고, 다음에 다음구조식(Ⅴ)의 화합물과 축합시키든가 또는
    상기식에서 A, D, R1, R2, X 및 Z는 전술한 바와 같다.
    (2) 시아누릭클로라이드를 구조식(Ⅴ)의 화합물과 축합시키고, 다음에 구조식(Ⅳ)의 모노아조 화합물과 축합시키든가 또는
    (3) 시아누릭클로라이드를 다음 구조식(Ⅲ)의 화합물 및 구조식(Ⅴ)의 화합물과 임의의 순서로 축합시켜서 얻어진 다음 구조식(Ⅵ)의 모노클로로트리아지닐 화합물을 다음에 구조식(Ⅱ)의 방향족 아미느이 디아조늄염과 카플링시키든가 또는
    상기식에서, A, D, R1, R2, X 및 Z는 전술한 바와 같다.
    (4) 시아누릭클로라이드를 구조식(Ⅲ) 화합물과 축합시켜서 얻어진 화합물을 구조식(Ⅱ)의 방향족 아민의 디아조늄염과 카플링시켜서 다음 구조식(Ⅶ)의 모노아조 화합물을 얻고 이 구조식(Ⅶ)의 화합물을 구조식(Ⅴ) 화합물과 축합시키든가 또는
    상기식에서, D, R1및 Z는 전술한 바와 같다.
    (5) 시아누릭클로라이드를 구조식(Ⅳ)의 모노아조화합물 및 구조식(Ⅷ)의 화합물과 임의의 순서로 축합시켜서 얻어진 다음 구조식(Ⅸ)의 모노클로로트리아지닐 화합물을 다음에 산으로 에스테르화시키든가 또는
    상기식에서, D, R1, R2, A 및 Z는 전술한 바와 같다.
    (6) 시아누릭클로라이드를 구조식(Ⅲ) 및 (Ⅷ) 화합물과 임의의 순서로 축합하여 얻어진 화합물을 구조식(Ⅱ)의 방향족 아민의 디아조늄염과 카플링시켜서 구조식(Ⅸ)의 모노아조합화물을 얻고, 다음에 이 구조식(Ⅸ)의 화합물을 산으로 에스테르화시킨다.
  14. 다음 구조식(Ⅰ)의 유리산으로 표시된 화합물을 사용함을 특징으로 하는 셀루로즈 섬유물질을 염색하는 방법.
    상기식에서, D는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 할로겐, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 벤조알아미노, 석시닐아미노, 말레이닐아미노, 니트로, 설폰산 및 카복실기 중에서 선택된 1∼3의 치환체로 치환된 페닐기, 또는 설폰산기 1∼3의 설폰산기로 치환된 나프틸기; R1은 수소원자 또는 메틸기 또는 에틸기;R2는 하이드록시, 시아노, 알콕시, 할로겐, 카복시, 알콕시카보닐 또는 설폰산기로 치환 또는 비치환된 탄소수 1∼4의 알킬기; Z는 수소원자 또는 설폰산기;A는 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 염소, 취소 및 설폰산기에서 선택된 1 또는 2의 치환을 치환 또는 비치환된 페닐렌잔기, 또는 하나의 설폰산기로 치환 또는 비치환된 나프틸렌잔기; 및 X는 -SO2CH=CH2또는 -SO2CH2HY(여기에서 Y는 알카리에 의하여 분해될 수 있는 기이다)이다.
  15. 제14항의 방법으로 얻어진 염색된 제품.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019810004558A 1980-11-26 1981-11-25 반응성 모노아조 염료의 제조방법 KR880002597B1 (ko)

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