KR830004229A - 할로 아세트아미딘제초제 조성물 및 그 제조방법 - Google Patents
할로 아세트아미딘제초제 조성물 및 그 제조방법 Download PDFInfo
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Classifications
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- A—HUMAN NECESSITIES
- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (45)
- 본문에 상술한 바와 같이, 하기 구조식으로 표시되는 화합물로 이루어지는 할로아세트 아미딘제초제 조성물 및 그 제조방법.식중, A 및 B는 수소, 불소, 염소, 취소 및 메틸로 구성되는 그루우프에서 독자적으로 선택되며(단, A 또는 B 중의 최소한 1개는 수소가 아닌 다른 것이다); M은 수소 또는 메틸이고; X는 플루오로메틸, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 니트로, 클로로, 브로모, 플루오로, 시아노, 1~3개의 탄소원자를 가진 알콕시, 트리플루오로메틸티오 및 개개의 저알킬이 1~2개의 탄소원자를 가진 2,3-디로우어알킬우레이도로 구성된 그루우프에서 선택되며; Y는 수소, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 클로로, 플루오로, 니트로, 트리플루오로, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알콕시로 구성된 그루우프에서 선택되고; R1은 수소, 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬 및 알릴로 구성된 그루우프에서 선택되며; R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬, 알릴, 벤질, 히드록시에틸, 3~4개의 탄소원자를 가진 알키닐, 알킬이 1~3개의 탄소원자를 가진 N-알킬아미도, 2~6개의 탄소원자를 가진 알콕시알킬, 3~6개의 탄소원자를 가진 디알콕시알킬, 1~4개의 탄소원자를 가진 알콕시, 2~4개의 탄소원자를 가진 시아노알킬, 치환기가 트리플루오로메틸, 디클로로 및 3,3-디메틸우레이도 그루우프에서 선택된 치환페닐로 구성되는 그루우프에서 선택되고; 질소와 함께 취해지는 R1및 R2는 알킬치환 옥사졸리딜로 구성되는 그루우프에서 선택되는데, 여기에서 상기 옥사졸리딜은 1~3개의 탄소원자를 가진 알킬, 모르폴리닐, 피페리디닐 및 피롤리디닐에 의하여 1,2 또는 3회 치환되며, 그 염(鹽)은 HCl,HBr,HI,HF,H2SO4,CCl3COOH, 2,4-디클로로페녹시 아세틱애시드, 3-아미노-2,5-디클로로벤조익 애시드, 헥사노익애시드, 스테릭 및 나프탈렌아세틱애시드, 피발릭애시드; 석시닉 애시드, 10-언데세노익 애시드, 벤조익 애시드, 말로닉 애시드 및 말레익 애시드로 구성된 그루우프에서 선택된 산과 치환한다.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X 및 Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬 및 클로로로 구성된 그루우프에서 선택되고, Z는 수소인 특허청구의 범위 1 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 2 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, X는 5-클로로인 특허청구의 범위 3 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-클로로이며, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 3 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 에틸이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 3 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 n-프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구 범위 3 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 3 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이며, -CMAB는 -CHCl2이고, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이며, Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 3 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-메틸이고, Y는 5-메틸인 특허청구의 범위 9 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1-6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저 알킬이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 1 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-메틸이고, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 11 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 알릴이며, R2는 알릴이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 1 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHF2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 1 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- X는 3-클로로이며, Y는 5-클로로이고, R2는 이소프로필인 특허청구의 범위 14 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- 하기 구조식으로 표시되는 화합물을 제초제에 적합한 부동담체 또는 희석분과 혼합함으로써 이루어지는 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.식중, A 및 B는 수소, 불소, 염소, 취소 및 메틸로 구성되는 그루우프에서 독자적으로 선택되며(단, A 또는 B 중의 최소한 1개는 수소가 아닌 다른 것이다); M은 수소 또는 메틸이고; X는 트리플루오로메틸, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 아세틸, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬티오, 트리플루오로메틸티오 및 개개의 저알킬이 1~2개의 탄소원자를 가진 2,3-디로우어 알킬 우레이도로 구성된 그루우프에서 선택되며; Y는 수소, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 클로로, 플루오로, 니트로, 트리플루오로, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알콕시로 구성된 구루우프에서 선택되고; R1은 수소, 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬 및 알릴로 구성된 그루우프에서 선택되며; R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬, 알릴, 벤질, 히드록시에틸, 3~4개의 탄소원자를 가진 알키닐, 알킬이 1~3개의 탄소원자를 가진 N-알킬아미도, 2~6개의 탄소원자를 가진 알콕시알킬, 3~6개의 탄소원자를 가진 디알콕시, 2~4개의 탄소원자를 가진 알콕시, 2~4개의 탄소원자를 가진 시아노알킬, 치환기가 트리플루오로메틸, 디클로로 및 3,3-디메틸 우레이도 그루우프에서 선택된 치환페닐로 구성되는 그루우프에서 선택되고; 질소와 함깨 취해지는 R1및 R2는 알킬치환 옥사졸리딜로 구성되는 그루우프에서 선택되는데, 여기에서 상기 옥사졸리딜은 1~3개의 탄소원자를 가진 알킬, 모르폴리닐, 피페리디닐 및 피롤리디닐에 의하여, 1,2 또는 3회 치환되며, 그 염은 HCl,HBr,HⅠ,HF,H2S04,CCl3C00H, 2,4-디클로로페녹시 아세틱애시드, 3-아미노-2,5-디클로로벤조익 애시드, 헥사노익 애시드, 스테릭 및 나프탈렌 아세틱애시드, 10-언데세노익 애시드, 벤조익 애시드, 말로닉 애시드 및 말레익 애시드로 구성된 그루우프에서 선택된 산과 치환된다.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X 및 Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬 및 클로로로 구성된 그루우프에서 선택되고, Z는 수소인 특허청구의 범위 16 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 ,-CHCl2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 17 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, X는 5-클로로인 특허청구의 범위 18 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-클로로이며, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 18 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 에틸이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 18 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 n-프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 18 기재의 할로 아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 18 기재의 할로아세트 아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이며, -CMAB는 -CHCl2이고, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이며, Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 18 기재의 할로아세트아미딘 저초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-메틸이고, Y는 5-메틸인 특허청구의 범위 24 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 16 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-메틸이고, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 26 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 알릴이며, R2는 알릴이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 클로로이며 Z는 수소인 특허청구의 범위 16 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHF2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 16 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- X는 3-클로로이며, Y는 5-클로로이고, R2는 이소프로필인 특허청구의 범위 29 기재의 할로아세트아미딘 제초제 조성물 및 그 제조방법.
- 하기 구조식으로 표시되는 화합물의 제초유효량을 잡초 또는 잡초발생지에 적용함으로써 이루어지는 잡초억제방법.식중, A 및 B는 수소, 불소, 염소, 취소 및 메틸로 구성되는 그루우프에서 독자적으로 선택되며(단, A 또는 B중의 최소한 1개는 수소가 아닌 다른 것이다); M은 수소 또는 메틸이고; X는 트리플루오로메틸, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 니트로, 클로로, 브로모, 플루오로, 시아노, 1~3개의 탄소원자를 가진 알콕시, 트리플루오로메틸티오 및 개개의 저알킬이 1~2개의 탄소원자를 가진 3,3-디로우어알킬 우레도로 구성된 구루우프에서 선택되며; Y는 수소, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알킬, 클로로, 플루오로, 니트로, 트리플루오로, 1~3개의 탄소원자를 가진 저알콕시로 구성된 그루우프에서 선택되고; R1은 수소, 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬 및 알릴로 구성된 그루우프에서 선택되며; R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬, 알릴, 벤질, 히드록시에틸, 3~4개의 탄소원자를 가진 N-알킬아미도, 2~6개의 탄소원자를 가진 알콕시알킬, 3~6개의 탄소원자를 가진 디알콕시알킬, 1~4개의 탄소원자를 가진 알콕시, 2~4개의 탄소원자를 가진 시아노알킬, 치환기가 트리플루오로 메틸, 디클로로 및 3,3-디메틸우레이도 그루우프에서 선택된 치환페닐로 구성되는 그루우프에서 선택되고; 질소와 함께 취해지는 R1및 R2는 알킬 치환 옥사졸리딜로 구성되는 그루우프에서 선택되는데 여기에서 상기 치환옥사졸리딜은 1~3개의 탄소원자를 가진 알킬, 모르폴리닐, 피페리디닐 및 피롤리디닐에 의하여 1,2 또는 3회 치환되며, 그 염은 HCl,HBr,HI,HF,H2S04,CCl3C00H, 2,4-디클로로페녹시 아세틱애시드, 3-아미노-2,5-디클로로벤조익 애시드, 헥사노익 애시드, 스테릭 및 나프탈렌 아세틱애시드, 피발릭 애시드, 석시닉 애시드, 10-언데서노익 애시드, 벤조익애시드, 말로닉애시드 및 말레익애시드로 구성된 그루우프에서 선택된 산과 치환된다.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X 및 Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬 및 클로로로 구성된 그루우프에서 선택되고, Z는 수소인 특허청구의 범위 31 기재의 잡초억제방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 32 기재의 잡초억제방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, X는 5-클로로인 특허청구의 범위 33 기재의 잡초억제방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-클로로이며, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 33 기재의 잡초억제방법.
- R2는 에틸이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 33 기재의 잡초억제방법.
- R2는 n-프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 33 기재의 잡초억제방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-클로로이고, Y는 4-클로로인 특허청구의 범위 33 기재의 잡초억제방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이며, -CNAB는 -CHCl2이고, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이며, Y는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이고, Z는 수소인 특허청구의 범위 33기재의 잡초억제방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 3-메틸이고, Y는 5-메틸인 특허청구의 범위 39 기재의 잡초억제방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 1~6개의 탄소원자를 가진 저알킬이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 31 기재의 잡초억제방법.
- R2는 이소프로필이며, X는 2-메틸이고, Y는 3-클로로인 특허청구의 범위 41 기재의 잡초억제방법.
- R1은 알릴이며, R2는 알릴이고, -CMAB는 -CHCl2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 31 기재의 잡초억제방법.
- R1은 수소이며, R2는 1~6개의 탄소원자를 가진 알킬이고, -CMAB는 -CHF2이며, X는 클로로이고, Y는 클로로이며, Z는 수소인 특허청구의 범위 31 기재의 잡초억제방법.
- X는 3-클로로이며, Y는 5-클로로이고, R2는 이소프로필인 특허청구의 범위 44 기재의 잡초억제방법.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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