KR20240063972A - 이미다졸리논 유도체의 결정형 - Google Patents

이미다졸리논 유도체의 결정형 Download PDF

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청두 바이위 파머수티컬 씨오., 엘티디
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Abstract

본 발명은 이미다졸리논 유도체의 결정형에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 치환된 이미다졸리논 유도체의 결정형, 이것의 약학적 조성물, 이것의 제조방법, 및 이것의 DNA-PK 억제제 제조용 용도에 관한 것이다. 구체적으로, 본 발명은 화학식 (A)로 표시되는 화합물의 결정형 I 내지 VI, 이것의 약학적 조성물, 이것의 제조방법, 및 이것의 DNA-PK 억제제 제조용 용도에 관한 것이다.

Description

이미다졸리논 유도체의 결정형
본 발명은 이미다졸리논 유도체의 결정형 또는 그 수화물 또는 용매화물에 관한 것일 뿐만 아니라, 이것의 제조방법 또는 약학적 조성물에 관한 것이며, 그리고 DNA-PK 억제제 제조 분야에서의 이의 용도에 관한 것이다.
DNA-의존성 단백질 키나아제(DNA-PK)는 Ku70/Ku80 이형이량체(heterodimer)와 DNA-의존성 단백질 키나아제 촉매 서브유닛(DNA-PKcs)으로 구성된 DNA-PK 효소 복합체이다. 이 효소 복합체가 활성화되어 그 기능을 적절히 발휘하려면 DNA가 존재하여야 한다(George et al., 2019). 세린(serine)/쓰레오닌(threonine) 단백질 키나아제인 DNA-PK는 PIKK(포스파티딜이노시톨 3-키나아제-관련 키나아제) 계열의 일종인데, 이것은 세포 내 DNA 이중 가닥 절단들(DSBs)의 복구 및 세포 DNA 재조합 또는 항체 DNA 재배열(V(D)J 재조합) 과정에서 중요한 역할을 할 뿐만 아니라, 염색체 변형, 전사 조절, 및 텔로미어(telomere) 유지와 같은 생리적 과정에도 관여한다.
DNA-PK 억제제를 DNA 손상-유발 항암 치료법(예를 들어, IR, 화학요법제 등)과 병용하면 치료 효과를 향상시킬 수 있다. DNA-PK 억제제의 사용이 정상 세포의 DNA 복구 기능을 어느 정도 방해할 수는 있지만, 정상 세포에는 DNA를 위한 다양한 보완적 경로들이 있다. 종양 세포는 강한 DNA 복제 압력에 직면하고 효과적 DNA 복구 방법이 부족하기 때문에 DNA-PK 억제제에 더 민감하며, 종양 세포에서 DNA-PK 활성을 억제하면 종양 세포에 대한 다른 항암 치료의 사멸 효과를 향상시킬 수 있다.
특허출원 제PCT/CN2021/087912호는 화학식 (A)로 표시된 구조를 갖는 새로운 DNA-PK 억제제를 설명하고 있다. 이것은 DNA-PK 활성에 대한 우수한 억제 효과를 가지며 항암 약물의 제조에 사용될 가능성이 있다.
본 발명은 다음과 같은 화학 구조를 갖는 4-((7-에틸-8-옥소-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-8,9-디하이드로-7H-퓨린-2-일)아미노)-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드(화합물 A)의 결정형을 제공한다:
본 발명의 결정형은 다음의 장점들 중 적어도 하나를 나타낸다: 우수한 용해도, 높은 안정성, 취급, 가공 및 정제의 용이성, 약물의 향상된 경구적 생체 이용률, 장기적 약물 보관 기간, 및 다양한 제형의 제조 용이성.
본 발명의 결정형은 무정형(amorphous form)의 화합물 A에 비해 약학적 이점을 나타낸다. 특히, 결정형은 화학적 안정성 및 물리적 안정성을 향상시키며, 약리학적 활성 성분을 함유하는 고형의 약제학적 투여 형태의 제조에 더욱 유리하다.
본 발명의 결정형은 활성 제약 성분(API)의 약 5 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 10 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 15 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 20 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 25 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 30 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 35 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 40 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 45 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 50 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 55 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 60 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 65 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 70 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 75 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 80 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 85 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 90 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 95 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 98 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 본 발명의 결정형은 API의 약 99 wt% 내지 약 100 wt%의 양으로 존재한다. 특정 실시 양태에서, 실질적으로 모든 API가 본 발명의 결정형이다. 즉, API는 실질적으로 상-순수 결정(phase-pure crystal)이다.
본 발명의 화합물 A는 달리 명시하지 않는 한 무정형이다.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 결정형은 무수 화합물 A(결정형 I)이고, Cu-Kα 방사선을 통해 얻어지는 X-선 분말 회절 패턴은 9.859°±0.3°, 14.759°±0.3°, 19.679°±0.3°, 및 19.961°±0.3°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 갖는다.
여기서, 상기 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴에서 특징적 회절 피크는 4.979°±0.2°, 15.759°±0.2°, 19.339°±0.2°, 22.481°±0.2°, 및 24.641°±0.2°의 2θ 위치에서도 존재한다.
또한, 상기 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴은 12.120°±0.2°, 18.802°±0.2°, 21.822°±0.2°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 추가로 갖는다.
또한, 상기 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴은 11.483°±0.2°, 20.422°±0.2°, 21.379°±0.2°, 22.142°±0.2°, 25.939°±0.2°, 29.180°±0.2°, 31.041°±0.2°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 추가로 갖는다.
또한, 상기 결정형 I은 실질적으로 도 1 또는 도 2에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에서, 결정형은 결정형 II이며, 이것은 실질적으로 도 6에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에서, 결정형은 결정형 III이며, 이것은 실질적으로 도 9에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에서, 결정형은 결정형 IV이며, 이것은 실질적으로 도 12에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에서, 결정형은 결정형 V이며, 이것은 실질적으로 도 15에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명의 일 실시예에서, 결정형은 결정형 VI이며, 이것은 실질적으로 도 18에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는다.
본 발명은 상기 결정형 I의 제조방법에 관한 것이기도 한데, 이것은 방법 I 또는 방법 II이다:
방법 I: 화합물 A를 용매에 녹이고, 환류 온도까지 가열하여 고체를 용해시킨 후 자연 냉각을 통해 결정화하고, 이어서 여과 및 건조를 수행함으로써 상기 결정형 I를 얻음;
방법 II: 화합물 A를 용매에 녹이고, 75-85 ℃로 가열하여 고체를 용해시킨 후 55-65 ℃로 식혀 결정화하고, 15-25 ℃로 추가로 식혀 결정화하고, 이어서 여과 및 건조를 수행함으로써 상기 결정형 I를 얻음;
여기서, 상기 용매는 알코올성 용매 또는 알코올성 용매와 물의 혼합 용매 중에서 선택된다.
본 발명은 약학적 조성물에 관한 것이기도 한데, 상기 약학적 조성물은 치료적 유효량의 본 발명에 따른 결정형 화합물 및 하나 이상의 약학적으로 허용 가능한 담체 또는 부형제를 포함한다.
활성 약학적 성분으로서의 본 발명의 결정형 또는 상기 결정형이 활성 성분으로 이용된 약학적 조성물은 DNA-PK 억제제 제조에 사용되기 위한 것일 수 있다.
여기서, 상기DNA-PK 억제제는 암 치료 및 예방을 위한 약물 제조에 사용된다.
달리 명시되지 않는 한, 본 명세서 및 청구항에서 사용되는 용어는 다음과 같은 의미를 갖는다.
"유효 투여량(effective dose)"은 조직(tissue), 시스템(system), 또는 대상(subject)에서 생리학적 또는 의학적 반응을 이끌어내는 화합물의 양을 의미하며, 대상에 투여될 경우, 치료되어야 할 질병 또는 상태의 하나 이상의 증상이 발생하는 것을 예방하거나 그러한 증상을 어느 정도 감소시키기에 충분한 화합물 양을 포함한다.
"IC50"은 절반 억제 농도(half inhibitory concentration)를 나타내며, 최대 억제 효과의 절반이 달성되는 농도를 의미한다.
본 발명에 따른 결정형 구조는 당업자에게 공지되어 있는 다양한 분석 기술들을 이용하여 분석될 수 있는데, 상기 분석 기술로는 X-선 분말 회절(XRD)이 포함되지만 이것으로 제한되지는 않는다.
본 발명에 의해 기술되고 보호범위로 청구된 값들(values)은 근사치로 이해될 것이다. 값의 변동은 장비 교정, 장비 오류, 결정의 순도, 결정 크기, 샘플 크기, 및 기타 요인들에 기인할 수 있다.
본 발명에 따른 결정형은 여기에 개시된 첨부 도면에 예시된 XRD와 같은 것들과 동일한 특징적 패턴들로 제한되는 것은 아님을 이해할 것이다. 첨부된 도면들에 예시된 패턴들과 실질적으로 또는 본질적으로 동일한 특징적 패턴을 갖는 임의의 결정형들도 본 발명의 범위에 속한다.
본 명세서에 개시된 내용 및 본 발명의 실시예들을 고려하면, 본 발명의 범위 및 사상을 벗어나지 않으면서 본 발명의 다양한 변형 및 변경이 당업자에게 자명할 것이다.
도 1은 실시예 2에서 제조된 화합물 A의 결정형 I에 대해 Cu-Kα 방사선을 통해 얻어진 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 2는 실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 3은 실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 TGA 다이어그램이다.
도 4는 실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 DSC 다이어그램이다.
도 5는 실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 DVS 다이어그램이다.
도 6은 결정형 II의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 7은 결정형 II의 TGA 다이어그램이다.
도 8은 결정형 II의 DSC 다이어그램이다.
도 9는 결정형 III의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 10은 결정형 III의 TGA 다이어그램이다.
도 11은 결정형 III의 DSC 다이어그램이다.
도 12는 결정형 IV의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 13은 결정형 IV의 TGA 다이어그램이다.
도 14는 결정형 IV의 DSC 다이어그램이다.
도 15는 결정형 V의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 16은 결정형 V의 TGA 다이어그램이다.
도 17은 결정형 V의 DSC 다이어그램이다.
도 18은 결정형 VI의 X-선 분말 회절 패턴이다.
도 19는 결정형 VI의 TGA 다이어그램이다.
도 20은 결정형 VI의 DSC 다이어그램이다.
이하, 구체적 실시예들을 통해 본 발명의 실시 과정과 유익한 효과를 상세히 설명하는데, 이는 독자들이 본 발명의 본질과 특징을 더 잘 이해할 수 있도록 돕기 위한 것일 뿐, 본 발명의 실시 가능 범위를 제한하려는 것은 아니다.
실시예들에서 달리 명시되지 않는 한, 용액은 수용액을 의미하다.
달리 명시되지 않는 한, 결정화를 위한 실험 조건은 일반적으로 실온(20-30℃, 30-70% RH)에서이며, 용매비(solvent ratio)는 부피비를 의미한다.
중간체 1
4-아미노-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드 (중간체 1)
4-아미노-2-플루오로-5-메틸벤조니트릴(1A)(300mg, 2mmol) 및 탄산칼륨(41.4mg, 0.3mmol)을 1mL의 디메틸설폭사이드에 용해시키고 얼음욕에 넣어 300μL의 과산화수소를 첨가한 후, 60℃까지 점진적으로 가열하고 2시간 동안 교반하였다. 반응이 완료될 때까지 TCL로 반응을 모니터링하였다. 이어서, 5mL의 물을 반응액에 첨가하였고, 백색 고체가 침전되었다. 여과한 후 회전 증발을 통해 물을 제거함으로써 상기 명칭의 화합물인 4-아미노-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드(중간체 1)(백색 고체, 160mg, 수율 47%)를 얻었다.
1H NMR (400 MHz DMSO) δ 7.37 (d, 1H), 7.15 (s, 1H), 6.96 (s, 1H), 6.32 (d, 1H), 5.70 (s, 1H), 2.01 (s, 3H).
LC-MS m/z (ESI) = 169.10 [M+1].
중간체 2
2-클로로-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온 (중간체 2)
단계 1:
에틸 2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실레이트 (2B)
에틸 2,4-디클로로피리미딘-5-카르복실레이트(2A)(30.00g, 136.4mmol) 및 테트라하이드로-2H-피란-4-아민 하이드로클로라이드(18.66g, 136.4mmol)를 아세토니트릴(600mL)에 용해시켰다. 수회 교반한 후, 탄산칼륨(46.92g, 340.9mmol)을 첨가하였고, 실온에서 4시간 동안 교반하였다. TLC 모니터링을 통해 반응이 완료된 것을 확인한 후, 반응액을 여과하였고 여과 잔류물을 에틸 아세테이트(300mL)로 세척하였다. 여과액을 농축하여 조생성물(crude product)을 얻었고, 컬럼 분리(n-헥산:에틸 아세테이트 (v/v) = 1:1)를 통해 상기 조생성물을 정제함으로써 상기 명칭의 화합물인 에틸 2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실레이트(2B)(백색 고체, 30.0g, 수율 77.4%)를 얻었다.
1H NMR (400 MHz DMSO) δ 8.62 (s,1H), 8.32 (d, 1H), 4.30 (q, 2H), 4.21-4.16 (m, 1H), 3.86-3.83 (m, 2H), 3.48-3.42 (m, 2H), 1.88-1.85 (m, 2H), 1.62-1.53 (m, 2H), 1.31 (t, 3H).
LC-MS m/z (ESI) = 286.10 [M+1].
단계 2:
2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실산 (2C)
에틸 2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실레이트(2B)(30g, 104.99mmol)을 테트라하이드로퓨란/물(200mL/200mL)에 용해시키고 수산화리튬(5.03g, 209.99mmol)을 첨가한 후 실온에서 1시간 동안 교반하였다. TLC 모니터링을 통해 반응이 완료된 것을 확인한 후, 반응액을 농축하여 테트라하이드로퓨란을 제거하고 6N의 염산으로 pH 5로 조정하였고, 백색 고체가 침전되었다. 여과 후에 여과 케이크를 석유 에테르로 2회 세척하고 고체를 모아서 상기 명칭의 화합물인 2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실산(2C)(백색 고체, 15.0g, 수율 55.44%)을 얻었다.
1H NMR (400 MHz DMSO) δ 8.60 (s, 1H), 8.54 (d, 1H), 4.20-4.15 (m, 1H), 3.86-3.83 (m, 2H), 3.48-3.42 (m, 2H), 1.89-1.86 (m, 2H), 1.60-1.50 (m, 2H).
LC-MS m/z(ESI)= 258.10 [M+1].
단계 3:
2-클로로-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온 (2D)
2-클로로-4-((테트라하이드로-2H-피란-4-일)아미노)피리미딘-5-카르복실산(2C)(15g, 58.21mmol)을 디메틸아세트아미드(150mL)에 용해시키고, 트리에틸아민(7.38mL, 58.21mmol) 및 디페닐 아지도포스페이트(12.06mL, 58.21mmol)를 첨가하였다. 혼합물을 120℃까지 점진적으로 가열하였고, 1.5시간 동안 교반하면서 반응시켰다. TLC 모니터링을 통해 반응이 완료된 것을 확인한 후, 반응액을 얼음물에 들이부었다. 여과를 통해 고체를 모았고, 이것을 물로 3회 세척한 후 진공 하에서 농축 및 건조시킴으로써 상기 명칭의 화합물인 2-클로로-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온(2D)(백색 고체, 13.0g, 수율 87.69%)을 얻었다.
1H NMR (400 MHz DMSO) δ 11.63 (s, 1H), 8.11 (s, 1H), 4.43-4.37 (m, 1H), 3.98-3.94 (m, 2H), 2.59-2.38 (m, 2H), 1.73-1.65 (m, 2H).
LC-MS m/z (ESI) = 255.10 [M+1].
단계 4:
2-클로로-7-에틸-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온 (중간체2)
2-클로로-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온(2D)(400mg, 1.57mmol)을 N,N-디메틸포름아미드(8mL)에 용해시키고, 여기에 탄산세슘(511mg, 1.57mmol) 및 요오드화 에틸(293mg, 1.88mmol)을 0℃에서 첨가하였으며, 1시간 동안 교반하면서 반응시켰다. 반응이 완료될 때가지 TLC로 모니터링한 후, 10mL의 물을 첨가하였으며, 에틸 아세테이트로 3회 추출하였다. 유기상(organic phase)을 무수황산나트륨으로 건조, 농축, 및 회전 증발시킴으로써 유기 용매를 제거하였고, 상기 명칭의 화합물인 2-클로로-7-에틸-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온(중간체2)(백색 고체, 290mg, 수율 65.32%)을 얻었다.
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.44 (s, 1H), 4.50-4.41 (m, 1H), 3.99-3.95 (m, 2H), 3.89 (q, 2H), 3.45 (t, 2H), 2.46-2.41 (m, 2H), 1.71-1.67 (m, 2H), 1.25 (t, 3H).
LC-MS m/z (ESI) = 283.10 [M+1].
실시예 1. 화합물 A의 제조
4-((7-에틸-8-옥소-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-8,9-디하이드로-7H-퓨린-2-일)아미노)-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드(화합물 A)
4-아미노-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드(중간체 1)(350mg, 2.12mmol), 2-클로로-7-에틸-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-7,9-디하이드로-8H-퓨린-8-온(중간체2)(150mg, 0.53mmol), 탄산세슘(690mg, 2.12mmol), 및 메탄설포나토(2-디사이클로헥실포스피노-3,6-디메톡시-2',4',6'-트리이소프로필-1,1'-바이페닐)(2'-아미노-1,1'-바이페닐-2-일)팔라듐(II)(72mg, 0.08mmol)을 1,4-디옥산(5mL)에 용해시키고, 보호를 위한 질소 퍼지를 수행한 후 110℃에서 4시간 동안 교반하면서 반응시켰다. 반응이 완료될 때까지 TLC로 반응을 모니터링하였다. 반응액을 농축하고, 실리카 겔 컬럼 크로마토그래피(디클로로메탄/메탄올 (v/v) = 20/1)를 이용하여 정제한 후 Pre-HPLC를 수행함으로써 상기 명칭의 화합물인 4-((7-에틸-8-옥소-9-(테트라하이드로-2H-피란-4-일)-8,9-디하이드로-7H-퓨린-2-일)아미노)-2-플루오로-5-메틸벤즈아미드(화합물 A)(백색 고체, 38mg, 수율 17.28%)를 얻었다.
1H NMR (400 MHz, DMSO-d6) δ 8.53 (s, 1H), 8.25 (s, 1H), 7.89 (d, 1H), 7.55 (d, 1H), 7.42 (d, 2H), 4.48-4.40 (m, 1H), 3.98 (dd, 2H), 3.85 (q, 2H), 3.43 (t, 2H), 2.58-2.54 (m, 2H), 2.30 (s, 3H) 1.71-1.68 (m, 2H), 1.25 (t, 3H).
LC-MS m/z(ESI)= 415.20 [M+1].
실시예 2. 화합물 A의 결정형 I의 제조
화합물 A 고체 530g을 반응 케틀(reaction kettle)로 옮기고 15.9L의 혼합액(에탄올:물 = 12.7L:3.2L)을 첨가하였다. 혼합 현탁액을 가열하여 환류시켰다(고체가 점차 용해되면서 72℃에서 환류가 시작되었고, 76℃로 가열된 후에도 안정을 유지하며 고체가 용해되어 노란색 용액으로 변하였음). 용액이 맑아진 후, 환류시키면서 1시간 동안 교반하였다. 상기 용액을 밤새 방치하여 결정이 천천히 침전되도록 하였다. 여과 후에 여과 케이크를 60℃에서 16시간 동안 건조한 후 분쇄기에서 분쇄하였다. 이어서, 고체를 다시 60℃에서 16시간 동안 바람으로 말렸다.
실시예 3. 화합물 A의 결정형 I의 제조
화합물 A 1.050kg, 에탄올 23.0kg, 및 정제수 9.3kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 반응액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 65℃로 식혔다. 결정화를 위해 반응액을 60±5℃에서 1시간 동안 유지하였고, 추가적 결정화를 위해 25℃로 온도를 낮춘 후 20±5℃에서 2시간 동안 유지하였다. 여과 후에 생성물을 60±5℃에서 16시간 동안 건조하였다.
실시예 4. 화합물 A의 결정형 II의 제조
화합물 A 0.1kg, 에탄올 2.3kg, 및 정제수 0.9kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 혼합액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 60±5℃로 식히고 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 온도를 20±5℃로 낮추고 2시간 동안 유지하였다. 그 결과물을 여과하고 60±5℃에서 건조하였다. 이어서, 생성물을 1,4-디옥산에 첨가하고, 50℃에서 6일 동안 교반한 후 실온에서 1일 동안 진공 건조함으로써 고체를 얻었다.
실시예 5. 화합물 A의 결정형 III의 제조
화합물 A 0.1kg, 에탄올 2.3kg, 및 정제수 0.9kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 혼합액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 60±5℃로 식히고 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 온도를 20±5℃로 낮추고 2시간 동안 유지하였다. 그 결과물을 여과하고 60±5℃에서 건조하였다. 이어서, 생성물을 1,4-디옥산에 첨가하고, 50℃에서 4일 동안 현탁 교반한 후 실온에서 2시간 동안 진공 건조함으로써 고체를 얻었다.
실시예 6. 화합물 A의 결정형 IV의 제조
화합물 A 0.1kg, 에탄올 2.3kg, 및 정제수 0.9kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 반응액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 60±5℃로 식히고 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 온도를 20±5℃로 낮추고 2시간 동안 유지하였다. 그 결과물을 여과하고 60±5℃에서 건조하였다. 이어서, 생성물을 아세톤에 첨가하고, 실온에서 6일 동안 현탁 교반한 후 실온에서 건조함으로써 고체를 얻었다.
실시예 7. 화합물 A의 결정형 V의 제조
화합물 A 0.1kg, 에탄올 2.3kg, 및 정제수 0.9kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 혼합액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 60±5℃로 식히고 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 온도를 20±5℃로 낮추고 2시간 동안 유지하였다. 그 결과물을 여과하고 60±5℃에서 건조하였다. 이어서, 생성물을 1,4-디옥산에 첨가하고, 50℃에서 4일 동안 현탁 교반하였다. 실온에서 진공 건조한 후, 생성된 고체를 125℃로 가열하고 실온으로 냉각시켰다.
실시예 8. 화합물 A의 결정형 VI의 제조
화합물 A 0.1kg, 에탄올 2.3kg, 및 정제수 0.9kg을 반응 케틀에 차례로 넣었다. 혼합액을 80±5℃로 가열하여 1시간 동안 용해시킨 후 60±5℃로 식히고 1시간 동안 유지하였다. 이어서, 온도를 20±5℃로 낮추고 2시간 동안 유지하였다. 그 결과물을 여과하고 60±5℃에서 건조하였다. 이어서, 생성물을 아세톤에 첨가하고, 실온에서 6일 동안 현탁 교반하였다. 실온에서 건조한 후, 생성된 고체를 130℃로 가열하고 실온으로 냉각시켰다.
실험예 1
Dandong Haoyuan Instrument Co., Ltd.의 X-선 회절장치를 이용하여 흑연 단색 Cu Kα 방사선(λ =1.54)을 실시예 2에서 제조된 화합물 A의 결정형 I에 실온에서 조사함으로써 분말 회절 패턴을 얻은 후 데이터를 분석하였다.
실시예 2에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 데이터를 표 1에 나타내었다.
표 1. 실시예 2에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격
(Crystal plane spacing) 		피크 높이
(Peak height) 		피크 반치폭
(Half peak width) 		상대적 피크 높이
(Relative peak height)
1 4.979 17.7328 897 0.202 23.1
2 9.859 8.9645 3883 0.177 100
3 11.483 7.7 221 0.178 5.7
4 12.12 7.2966 412 0.159 10.6
5 14.759 5.9972 1126 0.16 29
6 15.759 5.6189 785 0.152 20.2
7 16.601 5.3359 130 0.153 3.4
8 16.998 5.212 73 0.187 1.9
9 17.523 5.057 88 0.119 2.3
10 18.404 4.817 191 0.214 4.9
11 18.802 4.7158 567 0.169 14.6
12 19.339 4.5861 856 0.192 22
13 19.679 4.5076 1250 0.182 32.2
14 19.961 4.4445 1112 0.167 28.6
15 20.422 4.3453 212 0.156 5.5
16 21.379 4.1529 234 0.265 6
17 21.822 4.0696 646 0.227 16.6
18 22.142 4.0114 224 0.232 5.8
19 22.481 3.9516 902 0.164 23.2
20 22.877 3.8842 176 0.188 4.5
21 24.198 3.675 110 0.146 2.8
22 24.641 3.6099 946 0.228 24.4
23 25.939 3.4322 333 0.142 8.6
24 26.681 3.3384 128 0.177 3.3
25 26.961 3.3044 85 0.134 2.2
26 27.601 3.2292 100 0.215 2.6
27 28.038 3.1798 71 0.201 1.8
28 28.519 3.1273 81 0.146 2.1
29 29.18 3.0579 241 0.155 6.2
30 29.624 3.0131 148 0.22 3.8
31 30.077 2.9688 38 0.281 1
32 30.322 2.9453 61 0.275 1.6
33 30.619 2.9174 78 0.295 2
34 31.041 2.8787 360 0.201 9.3
35 31.723 2.8184 116 0.238 3
36 32.524 2.7508 66 0.256 1.7
37 33.379 2.6823 71 0.177 1.8
38 34.039 2.6317 84 0.284 2.2
39 35.001 2.5616 64 0.118 1.6
40 35.587 2.5207 103 0.269 2.7
41 37.178 2.4164 42 0.206 1.1
42 37.724 2.3827 73 0.138 1.9
43 38.319 2.347 51 0.307 1.3
44 38.61 2.33 46 0.195 1.2
45 39.125 2.3005 112 0.154 2.9
실시예 2에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴이 도 1에 나타나 있다.
실험예 2
실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I에 대한 XRPD 결과를 X'Pert3 및 Empyrean X-선 분말 회절 분석기로 수집하였으며, 스캐닝 파라미터는 표 2와 같았다.
표 2. XRPD 테스트 파라미터
모드 통상적 반사 가변 온도 XRPD
X-선 Cu, kα; Kα1 (Å): 1.540598, Kα2 (Å): 1.544426
강도비 Kα2/Kα1: 0.50
X-선 튜브 세팅 45 kV, 40 mA 45 kV, 40 mA
발산 슬릿 1/8° 1/8°
스캔 모드 연속 연속
스캔 범위 (°2TH) 3° ~ 40° 3° ~ 40°
스캔 스텝 (°2TH) 0.0263 0.0167
스텝 별 스캔 시간 (s) 46.67 33.02
스캔 시간 (s) 5 min 04 s 10 min 14 s
실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 데이터를 표 3에 나타내었다.
표 3. 실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 4.93 17.92 26.40
2 9.80 9.02 100.00
3 11.46 7.72 1.11
4 12.08 7.33 2.23
5 14.70 6.02 23.34
6 15.73 5.64 4.63
7 16.63 5.33 0.39
8 18.43 4.81 0.44
9 18.80 4.72 1.82
10 19.30 4.60 2.49
11 19.63 4.52 21.61
12 19.94 4.45 7.25
13 20.45 4.34 0.56
14 21.36 4.16 0.55
15 21.86 4.07 2.40
16 22.47 3.96 2.80
17 22.89 3.89 0.79
18 24.60 3.62 11.12
19 25.90 3.44 0.78
20 26.81 3.33 0.23
21 27.63 3.23 0.37
22 29.14 3.06 1.70
23 29.61 3.02 1.71
24 31.01 2.88 0.87
25 31.73 2.82 0.42
26 33.35 2.69 0.28
27 34.00 2.64 0.52
28 35.03 2.56 0.20
29 35.65 2.52 0.30
30 37.73 2.38 0.28
31 38.93 2.31 0.32
32 39.20 2.30 0.10
33 39.81 2.26 1.55
실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I의 X-선 분말 회절 패턴이 도 2에 나타나 있다.
실험예 3
실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I에 대해 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량 측정법(DSC)을 각각 수행하였고, TGA 및 DSC 데이터를 TA Q5000/Discovery 5500 열중량 분석기 및 TA Discovery 2500 시차 주사 열량계에서 각각 수집하였다. TGA 및 DSC 테스트 파라미터가 표 4에 나열되어 있다. 테스트 결과가 도 3 및 도 4에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 230.0℃로 가열되었을 때의 0.95% 중량 손실을 보여주고; DSC 다이어그램은 238.4℃에서의 흡열 피크를 보여준다.
표 4. TGA 및 DSC 테스트 파라미터
파라미터 TGA DSC
방법 선형 가열 선형 가열
샘플 디스크 알루미늄 디스크, 개방형 알루미늄 디스크, 커버형
온도 범위 실온 ~ 350℃ 25℃ ~ 300℃
가열 속도 10℃/min 10℃/min
보호 가스 질소 질소
실험예 4
실시예 3에서 제조된 화합물 A의 결정형 I에 대해 동적 증기흡착 테스트를 수행하였고, SMS(Surface Measurement Systems)의 DVS Intrinsic을 통해 동적 증기흡착(DVS) 커브를 얻었다. LiCl, Mg(NO3)2, 및 KCl의 용해점들(deliquescence points)을 이용하여 25℃에서의 상대습도를 보정하였다. DVS 테스트 파라미터를 표 5에 나열하였고, 테스트 결과가 도 5에 나타나 있다. 도 5로부터 알 수 있는 바와 같이, 본 발명의 화합물 A의 결정형 I은 25℃에서 0%RH-95%RH-0%RH에 걸쳐 샘플 중량 변화가 2% 미만이었는데, 이것은 샘플이 흡습성이 없거나 거의 없음을 나타낸다. DVS 전후의 X-선 분말 회절 패턴들은 상기 DVS 전후에 있어서 결정형이 변하지 않았음을 보여준다.
표 5. DVS 테스트 파라미터
파라미터 DVS
온도 25℃
샘플 양 20~40 mg
보호 가스 및 유량 N2, 200 mL/min
dm/dt 0.002 %/min
최소 dm/dt 평형 시간 10 min
최대 평형 시간 180 min
RH 범위 0%RH-95%RH-0%RH
RH 기울기 10%RH (0%RH-90%RH & 90%RH-0%RH)
5%RH (90%RH-95%RH & 95%RH-90%RH)
실험예 5
실험예 2의 테스트 조건을 이용하여 결정형 II에 대한 XRPD 결과를 얻었다. 결정형 II의 X-선 분말 회절 데이터를 표 6에 나타내었다.
표 6. 결정형 II의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 4.76 18.55 23.25
2 8.61 10.27 22.56
3 9.52 9.29 55.56
4 10.46 8.46 100.00
5 13.78 6.42 98.29
6 14.29 6.20 32.58
7 15.51 5.71 2.05
8 17.18 5.16 13.34
9 18.39 4.82 4.04
10 18.60 4.77 6.55
11 19.08 4.65 23.26
12 19.75 4.50 1.77
13 23.90 3.72 4.91
14 24.12 3.69 6.35
15 24.93 3.57 1.97
16 25.97 3.43 9.34
17 26.29 3.39 6.10
18 27.77 3.21 1.31
19 29.78 3.00 1.68
20 30.87 2.90 2.67
21 34.77 2.58 3.79
22 36.00 2.49 2.65
23 37.69 2.39 1.34
24 38.38 2.35 0.96
결정형 II의 X-선 분말 회절 패턴이 도 6에 나타나 있다.
실험예 6
실험예 3의 테스트 조건을 이용하여 결정형 II에 대한 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량측정법(DSC)이 수행되었고, 테스트 결과가 도 7 및 도 8에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 90℃로 가열되었을 때 4.47%의 계단형 중량 손실을 보여주고; DSC 다이어그램은 97.5℃(피크 온도) 및 236.1℃(시작 온도)에서 2개의 흡열 피크들과 155.3℃(피크 온도)에서 1개의 발열 피크를 보여준다.
실험예 7
실험예 2의 테스트 조건을 이용하여 결정형 III에 대한 XRPD 결과를 얻었다. 결정형 III의 X-선 분말 회절 데이터를 표 7에 나타내었다.
표 7. 결정형 III의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 8.49 10.42 100.00
2 9.02 9.81 20.62
3 9.27 9.54 40.05
4 13.49 6.56 5.34
5 15.32 5.78 28.54
6 15.78 5.61 15.30
7 17.82 4.98 34.66
8 18.07 4.91 65.14
9 18.28 4.85 20.65
10 18.56 4.78 11.45
11 18.99 4.67 22.46
12 19.97 4.45 5.15
13 20.96 4.24 9.50
14 22.54 3.94 9.32
15 23.04 3.86 14.02
16 23.45 3.79 87.65
17 24.21 3.68 19.98
18 24.65 3.61 16.11
19 25.61 3.48 13.80
20 26.26 3.39 22.82
21 28.16 3.17 3.62
22 29.14 3.06 26.27
23 30.18 2.96 12.97
24 35.01 2.56 3.39
결정형 III의 X-선 분말 회절 패턴이 도 9에 나타나 있다.
실험예 8
실험예 3의 테스트 조건을 이용하여 결정형 III에 대한 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량측정법(DSC)이 수행되었고, 테스트 결과가 도 10 및 도 11에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 100℃로 가열되었을 때의 2.5% 중량 손실 및 150℃로 연속 가열되었을 때의 17.7%의 계단형 중량 손실을 보여준다. DSC 다이어그램은 112.1℃(시작 온도)에서 1개의 흡열 신호를 보여주는데 이것은 탈수 또는 용매에 기인한 것으로 추정되며, 234.7℃ 및 236.7℃(피크 온도)에서 2개의 흡열 피크들을 보여준다.
실험예 9
실험예 2의 테스트 조건을 이용하여 결정형 IV에 대한 XRPD 결과를 얻었다. 결정형 IV의 X-선 분말 회절 데이터를 표 8에 나타내었다.
표 8. 결정형 IV의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 6.59 13.41 2.12
2 9.39 9.42 12.84
3 10.55 8.39 100.00
4 11.18 7.92 6.60
5 13.92 6.36 4.05
6 14.41 6.15 14.89
7 14.60 6.07 11.19
8 15.67 5.65 0.97
9 17.36 5.11 2.20
10 18.50 4.80 12.05
11 18.89 4.70 8.68
12 19.73 4.50 5.13
13 20.45 4.34 3.77
14 21.15 4.20 5.47
15 22.28 3.99 69.06
16 24.34 3.66 8.19
17 24.69 3.61 5.44
18 25.69 3.47 1.49
19 26.41 3.38 2.71
20 26.93 3.31 8.52
21 28.88 3.09 24.98
22 29.54 3.02 2.40
23 31.96 2.80 1.48
24 33.93 2.64 0.74
25 34.91 2.57 0.88
26 37.57 2.39 1.16
결정형 IV의 X-선 분말 회절 패턴이 도 12에 나타나 있다.
실험예 10
실험예 3의 테스트 조건을 이용하여 결정형 IV에 대한 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량측정법(DSC)이 수행되었고, 테스트 결과가 도 13 및 도 14에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 120℃로 가열되었을 때의 11.3%의 계단형 중량 손실을 보여주고; DSC 다이어그램은 106.8℃ 및 235.4℃(시작 온도)에서 2개의 흡열 피크들을 보여준다.
실험예 11
실험예 2의 테스트 조건을 이용하여 결정형 V에 대한 XRPD 결과를 얻었다. 결정형 V의 X-선 분말 회절 데이터를 표 9에 나타내었다.
표 9. 결정형 V의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 4.87 18.13 4.79
2 8.91 9.93 24.23
3 9.76 9.06 15.99
4 10.48 8.44 100.00
5 11.35 7.79 3.62
6 12.47 7.10 5.28
7 13.83 6.40 4.44
8 14.96 5.92 13.14
9 15.69 5.65 13.64
10 16.22 5.47 3.93
11 17.84 4.97 10.06
12 18.63 4.76 5.66
13 19.66 4.52 9.73
14 20.80 4.27 5.76
15 21.78 4.08 11.99
16 22.42 3.97 21.98
17 24.93 3.57 48.20
18 25.82 3.45 4.67
19 26.59 3.35 1.88
20 27.42 3.25 2.23
21 28.08 3.18 2.98
22 29.49 3.03 1.33
23 30.84 2.90 2.05
24 32.82 2.73 4.02
25 36.06 2.49 1.57
결정형 V의 X-선 분말 회절 패턴이 도 15에 나타나 있다.
실험예 12
실험예 3의 테스트 조건을 이용하여 결정형 V에 대한 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량측정법(DSC)이 수행되었고, 테스트 결과가 도 16 및 도 17에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 230℃로 가열되었을 때의 1.8% 중량 손실을 보여주고; DSC 다이어그램은 234.7℃ 및 236.7℃(피크 온도)에서 2개의 흡열 신호들을 보여준다.
실험예 13
실험예 2의 테스트 조건을 이용하여 결정형 VI에 대한 XRPD 결과를 얻었다. 결정형 VI의 X-선 분말 회절 데이터를 표 10에 나타내었다.
표 10. 결정형 VI의 X-선 분말 회절 데이터
피크 번호 2θ [°] 결정면 간격 [Å] 상대적 피크 높이 [%]
1 10.66 8.30 2.32
2 11.52 7.68 100.00
3 14.44 6.13 9.59
4 14.96 5.92 8.51
5 15.44 5.74 2.95
6 16.39 5.41 10.92
7 18.85 4.71 2.78
8 19.35 4.59 3.12
9 20.78 4.28 1.53
10 21.45 4.14 4.31
11 22.12 4.02 4.58
12 22.41 3.97 5.15
13 23.39 3.80 49.07
14 24.60 3.62 2.36
15 25.27 3.52 3.41
16 30.15 2.96 16.10
17 33.19 2.70 1.73
결정형 VI의 X-선 분말 회절 패턴이 도 18에 나타나 있다.
실험예 14
실험예 3의 테스트 조건을 이용하여 결정형 VI에 대한 열중량 분석(TGA) 및 시차 주사 열량측정법(DSC)이 수행되었고, 테스트 결과가 도 19 및 도 20에 각각 나타나 있다. TGA 다이어그램은 200℃로 가열되었을 때의 1.0% 중량 손실을 보여주고; DSC 다이어그램은 235.1℃(시작 온도)에서 1개의 흡열 피크를 보여준다.
실험예 15
80℃/밀폐 및 60℃/밀폐 조건에서 1일 동안 그리고 25℃/60%RH/개방 및 40℃/75%RH/개방 조건에서 1주일 동안 방치된 후에도 결정형 I는 결정 변형 또는 순도 감소가 발생하지 않았는데(결정형의 물리적 안정성은 XRPD 테스트로 평가하고, 결정형의 화학적 안정성은 HPLC 순도 테스트로 평가함), 이것은 결정형 I이 상기 평가 조건에서 우수한 고체 상태 안정성을 가짐을 의미한다.
생물학적 실험예
1. DNA-PK 키나아제 억제 시험
DNA-PK 키나아제 분석 키트(Promega로부터 구입, Cat. No.: V4107, batch No.: 0000366495)로 DNA-PK 키나아제에 대한 화합물의 억제 활성을 분석하였다. 화학 발광을 이용하여 결과를 정량화하였는데, 실험 프로토콜은 다음과 같았다:
i. 키트 사용 설명서에 따라 상이한 농도들 및 형광에서 ADP 표준 곡선을 생성;
ii. 384-웰 백색 플레이트에 5μL의 반응계를 준비하되, 각 웰에 1μL의 상기 화합물(1μM, 200nM, 40nM, 8nM, 1.6nM, 0.32nM, 0.064nM, 0.013nM로 각각 설정된 농도 구배로), 20 단위의 DNA-PK 키나아제, 0.2μg/μL의 기질, 10μg/μL의 DNA, 50μM ATP, 및 1% DMSO를 첨가;
iii. 균일하게 혼합하고, 원심분리(1000rpm, 30초)한 후 37℃에서 60분 동안 배양;
iv. 5μL의 ADP-GloTM 시약을 첨가하여 반응을 종료하고, 균일하게 혼합하고, 원심분리(1000rpm, 30초)한 후 실온에서 40분 동안 배양;
v. 10μL의 키나아제 검출 시약을 첨가하고, 흔들어 균일하게 혼합하고, 원심분리(1000rpm, 30초)한 후 실온에서 30분 동안 배양;
vi. 마이크로플레이트 판독기(Thermo fisher, Varioskan LUX)를 이용하여 형광 값을 측정. GraphPad Prism 8을 이용하여 IC50을 계산하였고, 그 결과를 표 11에 나타내었다.
표 11. DNA-PK 키나아제에 대한 억제 활성
화합물 번호 IC50 (nM)
화합물 A 4.17
+대조예 100.40
참고: 대조예는 J. Med. Chem　(2020),　63(7),　3461-3471의 화합물 3이고, 그 제조방법에 따라 얻었다.
이 결과는 본 발명의 화합물이 대조예에 비해 더욱 유의미한 DNA-PK 키나아제 억제 효과를 가짐을 보여준다.
2. 약동학적 시험
2.1 테스트 재료
ICR 마우스 (Beijing Viton Lihua Laboratory Animal Technology Co.에서 구입)
2.2 실험 절차
(1) 각 화합물당 18마리의 건강한 수컷 ICR 마우스(18-22g)를 준비하고, 이들을 각 그룹당 9 마리씩 2개 그룹들(iv 그룹 및 po 그룹)로 나누고, 채혈을 위해 각 시점마다 3 마리를 선택하였다.
(2) 하룻밤 단식(물은 자유롭게 음용) 후, 5% DMSO, 95% 30% HP-β-CD (v:v)를 용매로 이용하여 본 발명의 화합물을 용해시켰고(또는 현탁액으로 만들었고), 이 화합물을 꼬리 정맥을 통해(iv, 1mg/kg) 그리고 경구투여를 통해(po, 10mg/kg) 각각 투여하였다.
(3) iv 그룹에서는, 5분, 15분, 0.5시간, 1시간, 2시간, 4시간, 8시간, 12시간, 및 24시간에 턱밑 정맥에서 0.1mL의 혈액을 각각 채혈하였고, EDTA-K2로 항응고 처리한 후 원심분리를 4℃에서 5분 동안 수행하여 혈장을 분리하였으며, 이 혈장을 검사 전까지 -20℃에서 보관하였다.
(4) po 그룹에서는, 투여 전과 투여 후 15분, 0.5시간, 1시간, 2시간, 4시간, 6시간, 8시간, 12시간, 및 24시간에 턱밑 정맥에서 0.1mL의 혈액을 각각 채혈하였고, 상기 iv 그룹과 동일한 방법으로 처리하였다.
(5) LC/MS/MS 방법을 이용하여 본 발명의 화합물의 혈장 내 농도를 측정하였다.
(6) AB의 Analyst 1.6을 이용하여 결과를 계산하고 피팅하였다.
테스트 결과는, 화합물 A와 결정형 I, II, III, IV, V, 및 VI가 우수한 약동학적 특성을 가지고 있음을 보여준다.
구체적 실시예들이 본 발명의 명세서에 상세히 설명되었다. 당업자는 이 실시예들이 예시적인 것이며 본 발명을 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다는 것을 인식할 것이다. 당업자는 본 발명의 원리를 벗어나지 않으면서 본 발명에 다양한 개량 및 수정을 가할 수 있으며, 이러한 개량 및 수정을 통해 얻어지는 기술적 해법 역시도 본 발명의 청구항들의 보호범위에 속한다.

Claims (16)

  1. 화학식 (A)로 표시되는 화합물의 결정:
  2. 제1항에 있어서,
    Cu-Kα 방사선을 통해 얻어지는 X-선 분말 회절 패턴에서 결정형 I는 9.859°±0.3°, 14.759°±0.3°, 19.679°±0.3°, 및 19.961°±0.3°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 갖는,
    결정.
  3. 제2항에 있어서,
    Cu-Kα 방사선을 통해 얻어지는 X-선 분말 회절 패턴에서 상기 결정형 I는 4.979°±0.2°, 15.759°±0.2°, 19.339°±0.2°, 22.481°±0.2°, 및 24.641°±0.2°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 더 갖는,
    결정.
  4. 제3항에 있어서,
    Cu-Kα 방사선을 통해 얻어지는 X-선 분말 회절 패턴에서 상기 결정형 I는 12.120°±0.2°, 18.802°±0.2°, 및 21.822°±0.2°의 2θ 위치에서 특징적 회절 피크를 더 갖는,
    결정.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 결정형 I는 실질적으로 도 1 또는 도 2에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  6. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 결정형 I는 실질적으로 도 3에 도시된 것과 같은 TGA 곡선을 갖는,
    결정.
  7. 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 결정형 I는 실질적으로 도 4에 도시된 것과 같은 DSC 곡선을 갖는,
    결정.
  8. 제1항에 있어서,
    결정형 II는 실질적으로 도 6에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  9. 제1항에 있어서,
    결정형 III는 실질적으로 도 9에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  10. 제1항에 있어서,
    결정형 IV는 실질적으로 도 12에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  11. 제1항에 있어서,
    결정형 V는 실질적으로 도 15에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  12. 제1항에 있어서,
    결정형 VI는 실질적으로 도 18에 도시된 것과 같은 X-선 분말 회절 패턴을 갖는,
    결정.
  13. 제2항 내지 제7항 중 어느 한 항에 정의된 상기 결정형 I의 제조방법에 있어서, 상기 제조방법은 하기의 방법 I 또는 방법 II임:
    방법 I: 화합물 A를 용매에 녹이고, 환류 온도까지 가열하여 고체를 용해시킨 후 자연 냉각을 통해 결정화하고, 이어서 여과 및 건조를 수행함으로써 상기 결정형 I를 얻음;
    방법 II: 화합물 A를 용매에 녹이고, 75-85 ℃로 가열하여 고체를 용해시킨 후 55-65 ℃로 식혀 결정화하고, 15-25 ℃로 추가로 식혀 결정화하고, 이어서 여과 및 건조를 수행함으로써 상기 결정형 I를 얻음;
    여기서, 상기 용매는 알코올성 용매 및 알코올성 용매와 물의 혼합 용매 중에서 선택됨.
  14. 치료적 유효량(therapeutically effective amount)의 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 결정형, 및 약학적으로 허용 가능한 담체 또는 부형제를 포함하는 약학적 조성물.
  15. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 결정형 또는 제14항에 따른 약학적 조성물의 DNA-PK 억제제 제조용 용도.
  16. 제1항에 있어서,
    제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 따른 결정형 또는 제14항에 따른 약학적 조성물의 암 치료 및 예방을 위한 약물 제조용 용도.
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