KR20240058816A - 메쉬 모체 동시 가공 방식 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법 - Google Patents

메쉬 모체 동시 가공 방식 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법으로서, 메쉬 모체를 가공하여 완제품에 이르기까지 일일이 개별 가공하던 방식을 탈피하고 다수의 메쉬 모체를 동시에 가공함으로써 대량생산이 가능하면서도 품질은 더 향상시킬 수 있도록 한 것이다.
이러한 본 발명은 하부 플레이트 위 정위치에 다수의 메쉬 모체를 순차적으로 적층하며 그때마다 가이드핀을 점진적으로 상승시키면서 가이드핀의 상단부가 메쉬 모체의 메쉬 통공에 인입되도록 하여 적층된 메쉬 모체가 정위치를 벗어나지 않도록 구속하는 단계; 최상단에 적층된 메쉬 모체 위 정위치에 서로 인접하는 4개의 상부 가이드공을 구비한 상부 플레이트를 적층시킨 후 가이드핀을 상승시켜 상부 가이드공을 관통시키는 단계; 상부 플레이트 및 하부 플레이트와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체를 하나의 적층체로 결합시키는 단계; 적층체를 한꺼번에 절단가공하여 적층된 다수의 메쉬 모체로부터 다수의 원판형 메쉬를 동시에 형성하는 단계; 가이드핀을 제거하고 적층되어 있던 원판형 메쉬를 개별 분리하는 단계; 및 원판형 메쉬 각각에 대하여 RF 전력 인가를 위한 배선 단자의 연결부를 지정하고 연결부를 평탄화하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 한다.

Description

메쉬 모체 동시 가공 방식 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법{Method of manufacturing a plasma generating mesh electrode by simultaneous processing of mesh matrix}
본 발명은 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 관한 것으로, 특히 메쉬 모체를 가공하여 완제품에 이르기까지 일일이 개별 가공하던 방식을 탈피하고 다수의 메쉬 모체를 동시에 가공함으로써 대량생산이 가능하면서도 품질은 더 향상시킬 수 있도록 한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 관한 것이다.
반도체소자 제조공정에 많이 사용되는 공정 중의 하나가 PECVD 공정이다. PECVD 공정은 통상의 CVD 공정과 달리 플라즈마를 이용하여 공정기체를 활성화(activation)시킨 상태에서 공정을 진행하기 때문에 통상의 CVD 공정보다 더 낮은 공정온도에서 공정을 진행시킬 수 있다는 등 여러 장점을 가지고 있다.
도 1은 통상의 PECVD 장치를 설명하기 위한 개략도이다. 도 1을 참조하면, 반응챔버(10) 내에는 웨이퍼(25)가 안착되어지는 서셉터(70)가 설치되어 있으며, 반응챔버(10)의 상부공간에는 상부 플라즈마 발생용 메쉬 전극(30)이 설치되어 있다.
통상적으로 PECVD 장치는 듀얼(dual) RF 소스를 갖지 않기 때문에 하부전극인 서셉터는 접지되어 있고, 상부전극은 평판형 전극 또는 돔(dome)형 전극으로서 이에 RF 전력을 인가하는 구조로 되어 있다.
상부 플라즈마 발생용 메쉬 전극(3)에 RF 전력을 인가하면, 반응챔버(1) 내에 플라즈마가 발생하게 되고, 이렇게 플라즈마가 발생하면 셀프 바이어스(self-bias)에 의하여 플라즈마 내의 양이온들이 웨이퍼(5) 쪽으로 끌려들어가 웨이퍼(5)에 박막이 증착되게 된다. 통상 서셉터는 접지시키지만, 때로는 이러한 효과를 더 극대화시키기 위하여 서셉터(7) 내에 서셉터 플라즈마 발생용 메쉬 전극(2)을 설치하여 여기에도 RF 전력을 인가한다. 또한, 플라즈마 발생용 메쉬 전극(2)에 RF 전력을 인가함으로써 웨이퍼(5)에 증착되는 박막층의 표면압축력과 표면장력을 제어할 수도 있다. 뿐만 아니라, 웨이퍼 상의 패턴이 플라즈마에 의한 손상을 받지 않도록 제어할 수도 있다. 이는 패턴 사이에 쌓이는 전하를 바이어스(bias) RF로 소멸시키기 때문이다.
한편, 웨이퍼(5)에 고밀도의 막을 증착하기 위해서는 웨이퍼(5)를 500℃ 또는 그 이상으로 가열할 필요가 있다. 통상 이러한 가열을 위해 서셉터(7) 내에 히터(4)를 설치한다.
여기서 웨이퍼(5)를 지지 및 가열하는 서셉터(7)에서 중요한 역할을 수행하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극(2)은 원판형의 메쉬로 구비되며 Mo을 비롯하여 W, Nb, Mo 화합물 및 W 화합물 중 어느 한 종류의 소재로 이루어진다. 이같은 플라즈마 발생용 메쉬 전극(2)을 제조하기 위해서는 메쉬 모체로부터 원판형 메쉬로 절단하는 공정과 함께 RF 전력을 인가하기 위한 배선 단자가 연결되는 연결부를 밀접하게 접촉할 수 있도록 절삭하여 평탄화하는 공정을 거치게 된다. 이같은 플라즈마 발생용 메쉬 전극(22)의 제조공정에서 메쉬 모체로부터 원판형 메쉬로 절단하는 공정과 배선 단자의 연결을 위한 연결부의 위치를 정확하게 설정하고 평탄화하는 공정은 제품의 품질을 좌우하는 매우 중요한 공정이라 할 수 있다. 하지만 이같은 공정을 진행하기 위해서는 메쉬 모체를 일일이 하나씩 가공해야만 하였으며 이로 인해 대량생산에 어려움이 있었다.
한국등록특허공보 제10-0870776호(2008.11.20.)
이에 본 발명은 상기와 같은 종래의 제반 문제점을 해소하기 위해 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 메쉬 모체를 가공하여 완제품에 이르기까지 일일이 개별 가공하던 방식을 탈피하고 다수의 메쉬 모체를 동시에 가공함으로써 대량생산이 가능하면서도 품질은 더 향상시킬 수 있도록 한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법을 제공하는 데 있다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 기술적 사상에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법은, 메쉬 모체로부터 플라즈마 발생용 메쉬 전극을 제조하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법으로서, 서로 인접하는 4개의 하부 가이드공을 구비한 하부 플레이트를 작업영역에 위치시키는 단계; 상기 하부 플레이트의 하부 가이드공에 각각 가이드핀의 상단부를 인입시키는 단계; 상기 하부 플레이트 위 정위치에 다수의 메쉬 모체를 순차적으로 적층하며 그때마다 상기 가이드핀을 점진적으로 상승시키면서 상기 가이드핀의 상단부가 상기 메쉬 모체의 메쉬 통공에 인입되도록 하여 적층된 메쉬 모체가 정위치를 벗어나지 않도록 구속하는 단계; 최상단에 적층된 메쉬 모체 위 정위치에 서로 인접하는 4개의 상부 가이드공을 구비한 상부 플레이트를 적층시킨 후 상기 가이드핀을 상승시켜 상부 가이드공을 관통시키는 단계; 상기 상부 플레이트 및 하부 플레이트와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체를 하나의 적층체로 결합시키는 단계; 상기 적층체를 한꺼번에 절단가공하여 적층된 다수의 메쉬 모체로부터 다수의 원판형 메쉬를 동시에 형성하는 단계; 상기 가이드핀을 제거하고 적층되어 있던 원판형 메쉬를 개별 분리하는 단계; 및 상기 원판형 메쉬 각각에 대하여 RF 전력 인가를 위한 배선 단자의 연결부를 지정하고 상기 연결부를 평탄화하는 단계;를 포함하는 것을 그 기술적 구성상의 특징으로 한다.
여기서, 상기 원판형 메쉬에서 연결부의 중심점은 상기 메쉬 모체의 종방향 와이어와 횡방향 와이어가 교차하는 와이어 교차점들 중 어느 하나에 위치하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 가이드핀 4개는 상기 연결부의 중심점이 되는 와이어 교차점을 최인근에서 둘러싸고 있는 4개의 메쉬 통공을 각각 관통하되 메쉬 통공의 종방향 폭 및 횡방향 폭과 동일한 직경을 갖도록 하여 상기 메쉬 모체의 종방향 변위 및 횡방향 변위, 회전방향 변위를 모두 억제할 수 있도록 한 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 가이드핀의 상승은 메쉬 모체 하나가 적층될 때마다 단계적으로 이루어지며, 상기 가이드핀은 상단면 높이가 적층된 메쉬 모체의 상면 높이를 초과하지 않는 범위에서 메쉬 통공에 인입된 상태가 되도록 하여 기 적층된 메쉬 모체에 대해서는 변위되지 않도록 구속하면서 새로 적층되는 메쉬 모체에 대해서는 정위치 정렬을 위한 변위 시 간섭하지 않도록 한 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트는 각각 상기 메쉬 모체보다 둘레부를 따라 더 넓게 연장된 상부 연장 둘레부와 하부 연장 둘레부를 구비하며, 상기 상부 연장 둘레부와 하부 연장 둘레부에는 서로 대응하는 다수의 볼트공이 형성되어, 상기 상부 플레이트 및 하부 플레이트와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체를 하나의 적층체로서 결합시킬 때 상기 상부 플레이트의 상부 연장 둘레부와 상기 하부 플레이트의 하부 연장 둘레부를 볼트체결하는 것을 특징으로 할 수 있다.
또한, 상기 하부 연장 둘레부의 코너부에는 각각 상방 돌출된 끼움돌기가 형성되며, 상기 상부 연장 둘레부의 코너부에는 상기 끼움돌기가 관통하여 끼워지는 끼움공이 형성되어 상기 하부 플레이트에 대하여 상기 상부 플레이트를 정위치 정렬시킬 수 있도록 한 것을 특징으로 할 수 있다.
한편 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극은 전술된 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 의해 제조된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법은 메쉬 모체를 가공하여 완제품에 이르기까지 일일이 개별 가공하던 방식을 탈피하고 다수의 메쉬 모체를 동시에 가공함으로써 대량생산이 가능하면서도 품질은 그대로 유지할 수 있다는 장점이 있다.
도 1은 종래기술에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극을 설명하기 위한 참조조
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 평면도
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법의 흐름도
도 4a 내지 도 4i는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법을 설명하기 위한 일련의 참조도
첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 이해하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다.
또한, 제1 및 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. 한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 지니고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의된 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥상 가지는 의미와 일치하는 의미를 지니는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다.
<실시예>
도 2는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 의해 제조된 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 평면도이며, 도 3은 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법의 흐름도이며, 도 4a 내지 도 4i는 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법을 설명하기 위한 일련의 참조도이다.
본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법은 도 2에 도시된 플라즈마 발생용 메쉬 전극(10)을 제품으로서 제조한다. 제조가 완료된 플라즈마 발생용 메쉬 전극(10)은 다수의 종방향 와이어(11)와 횡방향 와이어(12)가 교차하여 엮인 원판형 메쉬(10B)에 평탄화된 연결부(B)가 형성된 것이다. 상기 연결부(B)의 경우 웨이퍼를 지지 및 가열하기 위한 서셉터에서 RF 전력 인가를 위한 배선 단자가 밀접하게 접촉 연결되는 부위이다.
본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법은 메쉬 모체(10A)를 가공하여 완제품에 이르기까지 일일이 개별 가공하던 방식을 완전히 탈피하고 다수의 메쉬 모체(10A)를 적층시킨 상태에서 동시에 절단가공하는 새로운 방식을 도입하여 작업 시간을 가장 많이 요구하는 절단가공 시간을 획기적으로 단축하였으며, 그러면서도 오히려 배선 단자 연결부(B)의 위치와 통전면적이 동일한 플라즈마 발생용 메쉬 전극(10)을 제조할 수 있도록 구성된다. 이로써 본 발명은 고품질의 플라즈마 발생용 메쉬 전극(10)을 대량으로 생산하는 것을 가능케 한다.
이하, 본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 각 단계별로 상세히 설명한다.
본 발명의 실시예에 의한 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법은 도 3에 도시된 것처럼, 하부 플레이트 정렬 단계(S110), 가이드핀 설치 단계(S120), 메쉬 모체 순차 적층 및 구속 단계(S130), 상부 플레이트 적층 단계(S140), 하나의 적층체로 결합하는 단계(S150), 적층체 절단 단계(S160), 원판형 메쉬 개별 분리 단계(S170), 원판형 메쉬의 연결부 평탄화 단계(S180)를 포함하여 이루어진다.
상기 하부 플레이트 정렬 단계(S110)에서는 도 4a에 도시된 것처럼 하부 플레이트(30)를 작업영역에 위치시킨다. 상기 하부 플레이트(30)에는 서로 인접하는 4개의 하부 가이드공(31)이 형성되어 있으며, 다음 단계에서 상면에 적층될 메쉬 모체(10A)보다 둘레부를 따라 더 넓게 연장된 하부 연장 둘레부(30a)를 구비하고 있다. 그 하부 연장 둘레부(30a)에는 볼트체결을 위한 다수의 볼트공(33)이 형성되어 있으며 코너부에는 각각 향후 상부 플레이트(20)를 정위치에 정렬시키기 위한 끼움돌기(32)가 상방 돌출된 형태로 구비되어 있다.
상기 가이드핀 설치 단계(S120)에서는 도 4a에 도시된 것처럼 상기 하부 플레이트(30)의 하부 가이드공(31)에 각각 가이드핀(40)의 상단부를 인입시킨다. 이때 가이드핀(40)의 상단부가 하부 가이드공(31)의 상측으로 돌출되지 않도록 주의한다. 이는 다음 단계에서 적층되는 메쉬 모체(10A)를 정위치에 정렬시킬 때 간섭받지 않도록 하는데 매우 중요한 사항이다.
상기 메쉬 모체 순차 적층 및 구속 단계(S130)에서는 도 4b 및 도 4c에 도시된 것처럼 하부 플레이트(30) 위 정위치에 다수의 메쉬 모체(10A)를 순차적으로 적층하며, 그때마다 가이드핀(40)을 점진적으로 상승시키면서 가이드핀(40)의 상단부가 메쉬 모체(10A)의 메쉬 통공에 인입되도록 한다. 이때 상기 가이드핀(40)의 상승은 메쉬 모체(10A) 하나가 적층될 때마다 단계적으로 이루어지며, 가이드핀(40)은 상단면 높이가 적층된 메쉬 모체(10A)의 상면 높이를 초과하지 않는 범위에서 메쉬 통공에 인입된 상태가 되도록 한다. 이로써 상기 가이드핀(40)이 기 적층된 메쉬 모체(10A)에 대해서는 변위되지 않도록 구속하면서도 새로 적층되는 메쉬 모체(10A)에 대해서는 정위치 정렬을 위한 변위 시 간섭하지 않도록 할 수 있는 것이다.
주목할 점으로 상기 가이드핀(40) 4개는 향후에 평탄화되는 RF 배선 단자의 연결부(B)의 중심점(C1)이 되는 와이어 교차점을 최인근에서 둘러싸고 있는 4개의 메쉬 통공을 각각 관통하도록 한다. 이때 가이드핀(40)은 메쉬 통공의 종방향 폭 및 횡방향 폭과 동일한 직경을 갖도록 한다. 이로써 적층되는 메쉬 모체(10A)의 종방향 변위 및 횡방향 변위, 회전방향 변위까지 모두 억제할 수 있다.
단, 도 4b 및 도 4c에서는 설명의 편의상 2개의 메쉬 모체(10A)를 적층하는 과정만 도시하고 나머지 8개의 메쉬 모체(10A)를 적층하는 과정은 편의상 생략하였다. 이들 역시 동일한 방식을 따라 적층하면 되며 메쉬 모체(10A)를 적층 개수는 필요에 따라 얼마든지 다르게 할 수 있다.
상기 상부 플레이트 적층 단계(S140)에서는, 도 4d에 도시된 것처럼 전 단계를 통해 필요로 하는 개수의 메쉬 모체(10A)의 적층이 완료된 상태에서 최상단에 적층된 메쉬 모체(10A) 위 정위치에 상부 플레이트(20)를 적층시킨다. 상기 상부 플레이트(20)는 하부 플레이트(30)와 마찬가지로 인접하는 4개의 상부 가이드공(21)을 구비하고 있으며 상부 플레이트(20)를 적층시킨 후 상기 가이드핀(40)을 상승시켜 상부 가이드공(21)을 관통시켜 준다. 이때 이전 단계들과는 달리 가이드핀(40)의 상단부가 상부 플레이트(20)의 상부 가이드공(21)을 완전히 관통하여 상측으로 돌출된 상태가 되도록 한다. 도면에서는 10개의 메쉬 모체(10A)가 적층된 상태에서 상부 플레이트(20)를 적층시키는 것으로 도시되었지만 앞서 설명된 것처럼 메쉬 모체(10A)의 적층 개수는 얼마든지 조절 가능한다. 여기서 상부 플레이트(20)는 메쉬 모체(10A)보다 둘레부를 따라 더 넓게 연장된 상부 연장 둘레부(20a)를 구비하고 있다. 그 상부 연장 둘레부(20a)에는 볼트체결을 위한 다수의 볼트공(23)이 형성되어 있다. 또한, 상부 플레이트(20)의 코너부에는 각각 하부 플레이트(30)의 끼움돌기(32)가 끼워지는 끼움공(22)이 형성되어 있다. 이처럼 하부 플레이트(30)의 끼움돌기(32)와 상부 플레이트(20)의 끼움공(22)을 구비한 구성에 의해 상부 플레이트(20)의 경우에는 메쉬 모체(10A)와 달리 정위치 정렬작업이 매우 간단하게 이루어진다.
상기 하나의 적층체로 결합하는 단계(S150)에서는 도 4d에 도시된 것처럼 상부 플레이트(20) 및 하부 플레이트(30)와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체(10A)를 하나의 적층체(100)로 결합시킨다. 이를 위해 다수의 볼트공을 구비하고 있는 상부 플레이트(20)의 상부 연장 둘레부(20a)와 하부 플레이트(30)의 하부 연장 둘레부(30a)를 볼트(24)로 체결한다. 그러면 상부 플레이트(20)와 하부 플레이트(30) 사이에 적층된 다수의 메쉬 모체(10A)까지 손상없이 안정적으로 고정되어 하나의 몸체를 이루게 된다. 이를 위해 앞서 설명된 것처럼 상부 플레이트(20)의 상부 연장 둘레부(20a)에 구비된 다수의 볼트공(23)과 하부 플레이트(30)의 하부 연장 둘레부(30a)에 구비된 다수의 볼트공(33)을 이용하여 볼트(24)로 간단히 체결하면 된다. 이 단계가 완료되면 도 4e 및 도 4f와 같이 상부 플레이트(20) 및 하부 플레이트(30), 그리고 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체(10A)가 하나의 몸체로 결합된 적층체(100)를 얻게 된다.
상기 적층체 절단 단계(S160)에서는 전 단계에서 하나의 몸체로 결합된 적층체(100)를 와이어커팅 장비를 이용하여 도 4g에 도시된 것처럼 원판형으로 한꺼번에 절단가공한다. 그러면 상부 플레이트(20)와 하부 플레이트(30)는 볼트체결되었던 상부 연장 둘레부(20a)와 하부 연장 둘레부(30a)가 제거된 상태가 되고 메쉬 모체(10A) 역시 둘레부가 일부 제거되어 원판형 메쉬(10B)가 된다. 이같은 절단가공 직후에 이들은 가이드핀(40)에 의해서만 관통된 상태로 임시적으로 지지된 상태가 된다.
상기 원판형 메쉬 개별 분리 단계(S170)에서는 전 단계에서 원판형으로 절단된 적층체(100)에서 가이드핀(40)을 간단히 제거하여 적층되어 있던 메쉬 모체(10A)로부터 형성된 원판형 메쉬(10B)를 개별 분리한다. 이렇게 개별 분리된 원판형 메쉬(10B)는 도 4h에 도시되어 있다.
상기 원판형 메쉬의 연결부 평탄화 단계(S180)에서는 원판형 메쉬(10B) 각각에 대하여 RF 전력 인가를 위한 배선 단자의 연결부(B)를 지정하고 상기 연결부(B)에 속한 종방향 와이어(11) 및 횡방향 와이어(12)를 앤드밀 등을 이용하여 절삭하여 평탄화한다. 이처럼 연결부(B)의 종방향 와이어(11) 및 횡방향 와이어(12)를 평탄화하게 되면 연결부(B)에 속한 종방향 와이어(11) 및 횡방향 와이어(12)가 절삭되어 평탄화된 부위(13)가 통전면적이 되어 서셉터에서 RF 전력 인가를 위한 배선 단자와 보다 밀접하게 접촉한 상태로 연결할 수 있다. 여기서 배선 단자의 접촉면은 평면으로 형성되어 있기 때문에 상기와 같이 연결부(B)의 종방향 와이어(11)와 횡방향 와이어(12)를 평탄화하는 작업을 통해 통전면적을 더 넓게 확보하는 것이 가능하다. 나아가 상기 연결부(B)의 중심점(C1)은 종방향 와이어(11)와 횡방향 와이어(12)의 교차점에 지정하는 것이 바람직하다. 그리고 그 교차점은 가이드핀(40) 4개를 관통시켰던 4개의 메쉬 통공에 의해 둘러싸인 교차점인 것이 바람직하다. 이렇게 상기 가이드핀(40)을 관통시켰던 4개의 메쉬 통공에 의해 둘러싸인 교차점을 배선 단자가 접촉하는 연결부(B)의 중심점(C1)으로 지정하게 되면 모든 원판형 메쉬(10B)에 대하여 보다 정밀하게 동일한 위치에, 동일한 통전면적을 갖는 연결부(B)를 형성시키는 것이 가능하다는 장점이 있다.이상에서 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였으나, 본 발명은 다양한 변화와 변경 및 균등물을 사용할 수 있다. 본 발명은 상기 실시예를 적절히 변형하여 동일하게 응용할 수 있음이 명확하다. 따라서 상기 기재 내용은 하기 특허청구범위의 한계에 의해 정해지는 본 발명의 범위를 한정하는 것이 아니다.
10: 플라즈마 발생용 메쉬 전극 10A: 메쉬 모체
10B: 원판형 메쉬 20: 상부 플레이트
30: 하부 플레이트 40: 가이드핀

Claims (5)

  1. 메쉬 모체로부터 플라즈마 발생용 메쉬 전극을 제조하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법으로서,
    서로 인접하는 4개의 하부 가이드공을 구비한 하부 플레이트를 작업영역에 위치시키는 단계; 상기 하부 플레이트의 하부 가이드공에 각각 가이드핀의 상단부를 인입시키는 단계; 상기 하부 플레이트 위 정위치에 다수의 메쉬 모체를 순차적으로 적층하며 그때마다 상기 가이드핀을 점진적으로 상승시키면서 상기 가이드핀의 상단부가 상기 메쉬 모체의 메쉬 통공에 인입되도록 하여 적층된 메쉬 모체가 정위치를 벗어나지 않도록 구속하는 단계; 최상단에 적층된 메쉬 모체 위 정위치에 서로 인접하는 4개의 상부 가이드공을 구비한 상부 플레이트를 적층시킨 후 상기 가이드핀을 상승시켜 상부 가이드공을 관통시키는 단계; 상기 상부 플레이트 및 하부 플레이트와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체를 하나의 적층체로 결합시키는 단계; 상기 적층체를 한꺼번에 절단가공하여 적층된 다수의 메쉬 모체로부터 다수의 원판형 메쉬를 동시에 형성하는 단계; 상기 가이드핀을 제거하고 적층되어 있던 원판형 메쉬를 개별 분리하는 단계; 및 상기 원판형 메쉬 각각에 대하여 RF 전력 인가를 위한 배선 단자의 연결부를 지정하고 상기 연결부를 평탄화하는 단계;를 포함하며,
    상기 원판형 메쉬에서 연결부의 중심점은 상기 메쉬 모체의 종방향 와이어와 횡방향 와이어가 교차하는 와이어 교차점들 중 어느 하나에 위치하고,
    상기 가이드핀의 상승은 메쉬 모체 하나가 적층될 때마다 단계적으로 이루어지며, 상기 가이드핀은 상단면 높이가 적층된 메쉬 모체의 상면 높이를 초과하지 않는 범위에서 메쉬 통공에 인입된 상태가 되도록 하여 기 적층된 메쉬 모체에 대해서는 변위되지 않도록 구속하면서 새로 적층되는 메쉬 모체에 대해서는 정위치 정렬을 위한 변위 시 간섭하지 않도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가이드핀 4개는 상기 연결부의 중심점이 되는 와이어 교차점을 최인근에서 둘러싸고 있는 4개의 메쉬 통공을 각각 관통하되 메쉬 통공의 종방향 폭 및 횡방향 폭과 동일한 직경을 갖도록 하여 상기 메쉬 모체의 종방향 변위 및 횡방향 변위, 회전방향 변위를 모두 억제할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 상부 플레이트와 상기 하부 플레이트는 각각 상기 메쉬 모체보다 둘레부를 따라 더 넓게 연장된 상부 연장 둘레부와 하부 연장 둘레부를 구비하며,
    상기 상부 연장 둘레부와 하부 연장 둘레부에는 서로 대응하는 다수의 볼트공이 형성되어, 상기 상부 플레이트 및 하부 플레이트와 그 사이에서 적층된 다수의 메쉬 모체를 하나의 적층체로서 결합시킬 때 상기 상부 플레이트의 상부 연장 둘레부와 상기 하부 플레이트의 하부 연장 둘레부를 볼트체결하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 하부 연장 둘레부의 코너부에는 각각 상방 돌출된 끼움돌기가 형성되며, 상기 상부 연장 둘레부의 코너부에는 상기 끼움돌기가 관통하여 끼워지는 끼움공이 형성되어 상기 하부 플레이트에 대하여 상기 상부 플레이트를 정위치 정렬시킬 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항의 플라즈마 발생용 메쉬 전극의 제조방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생용 메쉬 전극.
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