KR20240054003A - 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법에 관한 것이다. 본 발명의 하나의 모습에 따라, 챔버 내에서 사용자가 마스크없이 챔버 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템에 있어서, 분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 압력조절 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템이 제안된다. 또한, 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법이 제안된다.

Description

고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법{HYPERBARIC OXYGEN CHAMBER SYSTEM AND METHOD FOR CONTROLLING PRESSURE THEREOF}
본 발명은 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법에 관한 것이다. 구체적으로는 고압산소챔버 시스템에서 펄스파형을 포함하는 승압 및/또는 감압이 이루어지도록 하는 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법에 관한 것이다.
일반적으로 고압산소챔버 장치는 대기압보다 높은 기압 환경이 조성된 챔버에서, 고농도의 산소를 이용하여 사용자를 치료하는데 사용되고 있다. 고압산소치료는 고압환경을 조성하여, 환자가 고농도의 산소를 흡입함으로써, 용해성 산소를 얻도록 하는 치료이다. 이를 통해 환자의 인체 내의 산소 농도가 높아지고, 저산소증이 개선될 수 있다. 통상 고압산소치료는 일반적인 호흡환경보다 높은 압력으로 올라간 상태에서 매우 높은 농도의 산소, 예컨대 높게는 거의 100%순도로 소정 시간 동안 호흡하는 치료법으로서, 잠수병, 외상, 염증, 부종 및 병균감염 등에 의해 손상된 조직세포에 효과적으로 산소를 공급하여 치료효과와 질을 높이는데 사용된다. 최근에는 고압산소챔버가 전통적인 의료적 고압산소치료 외에 고압적응훈련이나 비교적 낮은 고압하에서 비의료용 처치 혹은 건강용으로도 사용되고 있다.
고압산소챔버는 1인용과 다인용으로 구분될 수 있는데, 1인용의 경우 챔버 내에 호흡용 마스크가 구비되지 않고 분위기 가스로 호흡하거나 경우에 따라 마스크를 구비하여 호흡하고 있으며, 다인용의 경우 대부분 각각 마스크를 구비하여 고농도 산소로 호흡하도록 하고 있다.
이러한 고압산소챔버를 사용하는 경우, 챔버 내 기압의 변화에 대해 사람의 기압조절기능이 변화를 따라가지 못하거나 압력 차에 의해 고막이 손상되는 등의 여러 문제가 발생할 수 있다.
이러한 압력변화에 대체하여 고막 손상 등을 막기 위해 승압 및/또는 감압 시 경사형 변화(승압/감압)가 이루어지도록 하면서 승압 및/또는 감압의 변화시간을 늘리는 방법이 사용되고 있다.
대한민국 등록특허공보 제10-183814호 (2018년 2월 19일 등록) 대한민국 공개특허공보 제10-2019-0121290호 (2019년 10월 25일 공개) 대한민국 공개특허공보 제10-2019-0035792호 (2019년 4월 3일 공개)
본 발명은 고압산소챔버에서의 압력변화에 따른 문제를 해결하기 위해 거의 일정하게 경사진 변화구간을 두고 승압/감압 시간을 늘리는 것과 다르게 승압/감압 구간에서 펄스파형의 압력변화를 주어 인체의 고막 등이 허용가능한 급속한 압력변화 범위를 최대한 활용하면서 상승과 하강 또는 하강과 상승을 반복하며 종래의 압력변화에 대한 문제를 해결하고자 한다.
이에 따라, 본 발명에서는 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 하여 급속한 압력변화에 따른 인체에 발생될 수 있는 문제를 최소화할 수 있는 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법을 제안하고자 한다.
전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 하나의 모습에 따라, 챔버 내에서 사용자가 마스크없이 챔버 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템에 있어서, 분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 압력조절 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템이 제안된다.
이때, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 형성할 수 있다.
또한 이때, 하나의 예에서, 펄스파형은 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크고, 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차이다. 이때, 또 하나의 예에서, 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 펄스상승 폭의 50% 이하이고 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 펄스상승 폭의 200% 이상일 수 있다.
게다가, 펄스파형은 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)보다 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)가 큰 구간을 포함할 수 있다.
하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성할 수 있다.
또 하나의 예에서, 출발압력에서 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 펄스파형의 종료 후부터 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함할 수 있다.
또한, 하나의 예에서, 압력조절 시스템은 챔버 및 호흡용 마스크 중 적어도 하나 이상으로 가스를 공급하는 가압유닛, 챔버 및 호흡용 마스크 중 적어도 하나 이상에서 압력저감을 위해 가스를 배출시키는 배출유닛, 및 가압유닛에 의한 가스공급과 배출유닛에 의한 가스배출을 제어하여 펄스파형을 유도시키는 제어유닛을 포함할 수 있다.
이때, 압력조절 시스템은 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 적어도 일부를 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합시켜 가스 공급 시 함께 공급되도록 하거나 가압유닛에 의해 공급되는 가스통로로 피드백시켜 재공급되게 하는 피드백유닛을 더 포함하고, 제어유닛은 가압유닛, 배출유닛 및 피드백유닛을 제어하여 펄스파형을 유도시킬 수 있다.
또한 이때, 피드백유닛은 제어에 따라, 승압의 경우 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부를 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합시키거나 가스통로로 피드백시키고 감압의 경우 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부에 대해 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합 내지 가스통로로의 피드백을 차단시킬 수 있다.
또한 전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 또 하나의 모습에 따라, 챔버 내에서 사용자가 마스크없이 챔버 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법에 있어서, 분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 과도기 압력조절 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법이 제안된다.
이때, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 형성할 수 있다.
또한 이때, 하나의 예에서, 펄스파형은 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크고, 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차이다. 이때, 또 하나의 예에서, 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 펄스상승 폭의 50% 이하이고 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 펄스상승 폭의 200% 이상일 수 있다.
게다가, 펄스파형은 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)보다 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)가 큰 구간을 포함할 수 있다.
하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성할 수 있다.
또 하나의 예에서, 과도기 압력조절단계는 출발압력에서 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 펄스파형의 종료 후부터 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함할 수 있다.
본 발명의 하나의 실시예에 따라, 고압산소챔버에서의 승압 및/또는 감압 구간에서 펄스파형의 압력변화를 주어 인체의 고막 등이 허용가능한 급속한 압력변화 범위를 최대한 활용하면서 상승과 하강 또는 하강과 상승을 반복하며 종래의 압력변화에 대한 문제를 해결할 수 있다.
본 발명의 하나의 예에 따라 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 하여 급속한 압력변화에 따른 인체에 발생될 수 있는 문제를 최소화할 수 있다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템에서의 펄스파형을 포함하는 압력 그래프를 개략적으로 나타내고 있다.
도 2는 도 1에 도시된 펄스파형 압력 그래프의 또 하나의 예로서 승압 과정의 펄스 파형을 개략적으로 나타내고 있다.
도 3은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템에서의 또 하나의 펄스파형을 개략적으로 나타내고 있다.
도 4는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 시스템의 제어에 따른 펄스파형을 개략적으로 나타내고 있다.
도 5는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 시스템을 개략적으로 나타내는 블럭 구성도이다.
도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 또 하나의 압력조절 시스템을 개략적으로 나타내는 블럭 구성도이다.
도 7a 및 7b 각각은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이다.
도 8은 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이다.
도 9는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이다.
전술한 과제를 달성하기 위한 본 발명의 실시예들이 첨부된 도면을 참조하여 설명될 것이다. 본 설명에 있어서, 동일부호는 동일한 구성을 의미하고, 당해 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명의 이해를 도모하기 위하여 부차적인 설명은 생략될 수도 있다.
본 명세서에서 '포함하는', '구비하는' 등의 기재는 하나 또는 그 이상의 다른 구성요소 또는 그들의 조합의 존재 또는 부가 가능성이 있는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 본 발명에 따른 고압산소챔버 시스템 및 그의 압력조절방법의 바람직한 실시 예에 관하여 상세히 설명하면 다음과 같다.
고압산소챔버 시스템
먼저 본 발명의 하나의 예에 따라 고압산소챔버 시스템을 살펴본다. 이때, 도 1 내지 6을 참조하여 실시예들을 살펴볼 것이고, 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법에 관한 도 7a 내지 9도 참조될 것이다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템에서의 펄스파형을 포함하는 압력 그래프를 개략적으로 나타내고, 도 2는 도 1에 도시된 펄스파형 압력 그래프의 또 하나의 예로서 승압 과정의 펄스 파형을 개략적으로 나타내고, 도 3은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템에서의 또 하나의 펄스파형을 개략적으로 나타내고, 도 4는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 시스템의 제어에 따른 펄스파형을 개략적으로 나타내고 있다. 또한, 도 5는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 시스템을 개략적으로 나타내는 블럭 구성도이고, 도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 또 하나의 압력조절 시스템을 개략적으로 나타내는 블럭 구성도이다.
본 발명은, 챔버(1) 내에서 사용자가 마스크없이 챔버(1) 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크(3)를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템에 관한 것이다. 도 1 내지 6을 참조하면, 이때, 고압산소챔버 시스템은 분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 압력조절 시스템(10)을 포함한다. 예컨대 바로트라우마(barotrauma)와 같은 문제는 일반적으로 챔버(1) 내의 분위기가스의 승압 및/또는 감압에 따른 급격한 압력변화에 따라 나타나게 된다. 이때, 본 발명의 실시예에 따른 압력조절 시스템(10) 및/또는 후술되는 실시예에 따른 압력조절방법을 통해 챔버(1) 내의 분위기가스 압력이 펄스파형으로 승압 및/또는 감압이 이루어지도록 할 수 있다. 예컨대, 사용자가 챔버(1) 내에서 호흡용 마스크(3)를 착용하는 경우에는 챔버(1) 내의 분위기가스 압력뿐만 아니라 호흡용 마스크(3)로 제공되는 호흡가스의 압력도 챔버(1) 내 분위기가스의 승압 및/또는 감압에 보조를 맞추어 예컨대 바로트라우마(barotrauma)와 같은 문제가 생기지 않도록 승압 및/또는 감압이 이루어지도록 할 수도 있다. 실시예에 따라, 호흡용 마스크(3)로 제공되는 호흡가스의 압력은 챔버(1) 내 분위기가스 압력과 달리 펄스파형을 포함하지 않고 완만하게 보조를 맞추며 변하도록 할 수도 있다.
본 발명에서, 고압가스가 챔버(1) 내 분위기가스로 제공되거나 또는 분위기가스와 호흡가스 모두로 제공될 수 있다. 본 명세서에서 분위기가스는 챔버(1) 내부의 분위기가스를 의미하고, 호흡가스는 사용자의 호흡용 마스크(3)를 통해 제공되는 가스를 의미한다. 챔버(1) 내 사용자가 마스크(3)가 없는 경우 분위기가스가 사용자의 호흡용 가스가 되고, 챔버(1) 내 사용자가 호흡용 마스크(3)를 착용한 경우 사용자는 호흡가스로 호흡하게 된다. 챔버(1) 내 분위기가스로 제공되거나 또는 분위기가스와 호흡가스 모두로 제공되는 고압가스는 고압산소일 수 있다. 예컨대, 챔버(1) 내에서 사용자가 마스크를 착용하지 않는 경우에는 고압산소를 분위기가스로 제공하고, 사용자가 호흡용 마스크(3)를 착용하는 경우에는 고압산소를 호흡가스로 제공하고 분위기가스로 제공되는 고압가스는 일반적인 대기의 고압기체일 수 있다. 호흡용이 아닌 분위기가스로만 제공되는 고압가스의 성분은 일반 대기와 동일하거나 경우에 따라 예컨대 질소성분을 높이는 등과 같이 기체 성분비를 달리할 수도 있다. 이때, 고압산소의 의미는 공급되는 가스가 대기 중 산소 농도보다 훨씬 더 높은 고농도 산소를 포함하는 가스뿐만 아니라 실질적으로 순수 산소에 가까운 가스를 포함하는 것으로서 압력이 대기압 이상인 경우를 의미한다.
예컨대, 고압가스의 압력은 비의료용의 경우 대략 1.2 기압 이상일 수도 있고, 바람직하게는 대략 2기압 이상으로 예컨대 의료용 고압산소챔버에 적용될 수 있으며 이에 한정되지 않는다. 예컨대, 대략 2 ~ 5 기압 구간 내에서 고압을 유지시켜야 하는 경우 급속히 승압하거나 감압하는 경우 문제가 되므로 종래에는 과도기 구간에서 경사형으로 완만한 승압 내지 감압이 이루어지도록 하고 있었으나, 본 발명의 예에 따라 승압 내지 감압 과도기 구간에서 펄스파형으로 압력을 조절할 수 있다. 예컨대, 챔버(1) 내에서 사용자가 호흡용 마스크(3)로 호흡하는 경우 챔버(1) 내 분위기가스는 일반적인 고압공기이고 호흡용 마스크(3)로 공급되는 가스는 고농도산소일 수 있다. 예컨대, 사용자가 호흡용 마스크(3)를 착용하는 경우 호흡용 마스크(3)로 공급되는 가스는 챔버(1) 내의 분위기가스보다 낮은 압력일 수 있다. 예를 들면, 챔버(1) 내 분위기가스는 고압을 유지하고 호흡용 마스크(3)로 공급되는 호흡가스는 대기압이거나 대기압보다 높고 분위기가스 압력보다 낮도록 할 수 있다. 예컨대, 사용자가 호흡용 마스크(3)를 착용하는 경우 챔버(1) 내 분위기가스와 호흡용 마스크(3) 내의 가스는 압력 및/또는 성분비가 다를 수 있다.
본 명세서에서 구체적으로 설명되지 않은 고압산소챔버 내지 고압산소챔버 시스템은 추가적인 구성들은 이미 공지된 기술을 통해 이해될 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 고압산소챔버 시스템의 고압산소챔버는 1인용이거나 2인 이상의 다인용일 수 있다. 예컨대, 1인용 고압산소챔버의 경우 마스크없이 사용되거나 호흡용 마스크(3)를 구비하여 사용될 수 있고, 다인용 고압산소챔버의 경우 일반적으로 개인별 호흡용 마스크(3)를 구비하여 사용될 수 있다. 예컨대, 고압산소챔버 시스템에 다수의 호흡용 마스크(3)가 구비되는 경우 압력조절 시스템(10)은 사용되는 각 마스크별로 개별적으로 펄스파형으로 압력조절을 하거나 또는 일괄적으로 압력조절을 할 수 있다.
또한, 본 발명에 따른 고압산소챔버 시스템에서 압력조절 시스템(10)에 의해 형성되는 압력 펄스파형이 디스플레이 시스템을 통해 외부에서 인지되도록 할 수 있다. 이때, 디스플레이 시스템은 이미 공지된 기술을 통해 이해될 수 있다.
본 발명의 실시예에 따라 고압산소챔버 시스템에서 압력조절 시스템(10)에 의해 승압 및/또는 감압 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절함으로써, 사용자가 승압 및/또는 감압 과정에서 급격한 변화에 따른 예컨대 바로트라우마(barotrauma)와 같은 문제를 해결할 수 있다. 종래에서 이러한 바로트라우마를 해결하기 위한 방법으로 경사형의 완만한 승압 및 감압이 이루어지고 있었으나, 본 발명에 따라 펄스파형이 포함되어 승압 및/또는 감압이 이루어지도록 함으로써 단계적인 작은 상승/하강 변화폭을 빠르게 한 후 완충적으로 작은 반대방향 하강/상승 변화를 가지는 것을 반복하여 사용자에 대해 예컨대 바로트라우마와 같은 문제를 줄일 수 있다. 또한, 펄스파형의 단계적인 상승/하강 변화폭과 연속되는 반대방향 하강/상승 변화폭을 조절하며 동시에 펄스파형의 시간을 조절함으로써 경사형의 완만한 승압/감압의 과정보다 사용자 별로 적합한 승압/감압 과도기 시간을 갖도록 하거나 과도기 시간을 단축시킬 수도 있다. 즉, 경사형의 완만한 승압/감압과 같이 지속적인 압력 스트레스를 주지 않고 짧은 주기별로 단계적인 상승/하강 변화와 이어지는 완충적인 반대방향 하강/상강 변화를 반복함으로써 예컨대 바로트라우마와 같은 문제를 보다 짧은 시간 내에 개개인별로 맞춤식 해결을 기대할 수 있다.
도 1을 참조하여 보다 구체적으로 살펴보면, 하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 형성할 수 있다. 도 1은 승압 과정인 과도기 구간 1과 감압 과정인 과도기 구간 2를 모두 나타내고 있으나, 도 1과 달리 실시예에 따라 승압 및 감압 과정 중 어느 하나에서만 펄스파형이 나타나도록 할 수도 있다. 예컨대, 승압 과정에서 출발압력 내지 감압 과정에서 도달압력은 대기압일 수 있고 승압 과정에서 도달압력과 감압 과정에서 출발압력은 예컨대 대략 2 ~ 5 기압 범위 구간 중에 해당될 수 있고, 이에 한정되지 않는다. 도 1을 참조하면 승압 과정인 과도기 구간 1에서 출발압력 1은 감압 과정인 과도기 구간 2에서의 도달압력 2와 동일하게, 또한 과도기 구간 1에서의 도달압력 1과 과도기 구간 2에서의 출발압력 2가 동일하게 설정될 수 있고, 또는 실시예에 따라 다르게 설정될 수도 있다.
본 실시예에서와 같이 펄스파형이 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 포함함으로써, 짧은 주기별로 단계적인 상승/하강 변화와 이어지는 완충적인 반대방향 하강/상강 변화가 초기에는 변화폭이 작다가 사용자가 점차 압력변화에 익숙해지면서 변화폭이 점차 커지게 되고 나중에 도달압력에 가까워지면 다시 변화폭이 작아지게 되어 훨씬 더 사용자에 대해 예컨대 바로트라우마와 같은 문제를 줄일 수 있다.
도 2는 하나의 예에 따라 승압 과정의 펄스파형을 개략적으로 나타내고 있다. 도 2를 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크다. 이때, 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차이다. 도 2는 감압 과정의 펄스파형을 도시하지 않았으나, 도시된 승압 과정의 파형진행과 반대로 파형이 진행하는 것으로 이해될 수 있다. 도 2에서 승압 과정에서 펄스하강 폭 H2는 직전 펄스상승 폭 H1 및 직후 펄스상승 폭 H3보다 작다. 또한, 도 2의 파형 진행을 반대로 생각해 보면, 즉 H4 방향에서 H1 방향으로 감압되도록 펄스가 진행하는 것으로 생각해 보면, 감압 과정에서 펄스하강 폭 H3는 직전 펄스상승 폭 H4 및 직후 펄스상승 폭 H2보다 큰 것을 알 수 있다. 바꿔 말하면, 감압 과정에서는 펄스상승 폭 H2가 직전 펄스하강 폭 H3 및 직후 펄스하강 폭 H1보다 작은 것을 알 수 있다. 도 1과 달리 펄스파형이 승압 및 감압 과정 중 어느 하나에만 나타나는 경우 해당 펄스파형에서 연속되는 펄스하강 폭과 펄스상승 폭 간에 차이가 발생될 수 있다.
예컨대, 도 2를 참조하면 승압 과정의 경우 펄스하강 폭 H2는 직전 펄스상승 폭 H1의 50% 이하일 수 있다. 또한, 도 2의 파형 진행을 반대로 생각해 보면, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭 H3는 직전 펄스상승 폭 H4의 200% 이상일 수 있다. 바꿔 말하면, 감압 과정의 경우 펄스상승 폭 H2는 직전 펄스하강 폭 H3의 50% 이하일 수 있다.
본 실시예에 따라, 승압 펄스파형의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고 감압 펄스파형의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크도록 함으로써, 짧은 주기별 단계적인 상승/하강 변화보다 연속되는 완충적인 반대방향 하강/상강 변화가 작도록 하여 승압/감압 과도기 시간을 줄이면서도 훨씬 더 사용자에 대해 예컨대 바로트라우마와 같은 문제를 줄일 수 있다.
또한, 도 2를 계속 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)보다 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)가 큰 구간을 포함할 수 있다. 도 2에서, "T1/2"는 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)이고, "T2/2"는 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)이다. 이때, "T1"은 진폭이 작은 펄스의 주기(T)이고, "T2"는 진폭이 큰 펄스의 주기(T)이다. 예컨대, 진폭이 커질수록 해당 펄스의 반주기(T/2)가 점차 커지도록, 그리고 진폭이 작아질수록 해당 펄스의 반주기(T/2)가 점차 작아지도록 제어될 수 있다.
본 실시예에 따라, 진폭이 큰 펄스의 경우 반주기(T/2)가 더 크도록 함으로써, 진폭이 큰 펄스에 의한 예컨대 바로트라우마와 같은 문제를 저감시킬 수 있다.
도 1 내지 3을 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성할 수 있다. 예컨대, 도 1에 도시된 바와 같이, 각 펄스의 반주기(T/2) 값을 일정하게 또는 실질적으로 일정하게 유지하고 진폭을 점차 증가시키다가 도달압력에 가까워지면 점차 감소시키도록 제어될 수 있다. 또는 다른 예에서, 도 2에 도시된 바와 같이, 진폭의 변화와 함께 각 펄스의 반주기(T/2) 값도 변하도록 할 수 있다. 예컨대, 각 펄스의 반주기(T/2) 값이 진폭의 변화 방향(증가/감소)과 동일방향(증가/감소)으로 변하되 변화량이 진폭보다 작도록 하거나 혹은 진폭의 변화 방향(증가/감소)과 반대(감소/증가)로 변하하도록 할 수 있다. 또 다른 예에서, 도 3에 도시된 바와 같이, 각 펄스의 진폭은 실질적으로 동일하거나 거의 유사하게 설정하고 반주기(T/2) 값이 조절되도록 할 수도 있다. 도 3에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지는 경우 주기가 짧아지므로(Ta > Tb) 출발압력 지점에 가까운 구간의 진폭(h)/반주기(Ta/2) 값보다 출발압력 지점에서 멀어진 구간의 진폭(h)/반주기(Tb/2) 값이 증가하고, 반대로 도달압력 지점에 가까워지는 경우 주기가 길어지므로(Tc < Td) 면서 도달압력 지점에서 먼 구간의 진폭(h)/반주기(Tc/2) 값보다 도달압력 지점에 가까운 구간의 진폭(h)/반주기(Td/2) 값이 증가하도록 함으로써, 출발압력과 도달압력 각각의 가까운 부근에서 펄스파형변화가 완만해질 수 있다.
예컨대, 도 3을 참조하면, 하나의 예에서, 출발압력에서 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 펄스파형의 종료 후부터 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함할 수 있다. 도 3의 "A" 부분을 참조하면, 펄스파형과 도달압력이 연결되는 부분에서 곡선형 구간이 형성되어 있음을 알 수 있다. 도 3에 도시된 곡선형 구간은 도 1 내지 2와 같은 다른 파형 그래프에도 적용될 수 있고, 도시되지 않았으나 직선형 구간의 경우도 마찬가지이다.
다음으로, 도 4 내지 6을 참조하여 고압산소챔버 시스템의 압력조절 시스템을 보다 구체적으로 살펴본다.
도 5 내지 6을 참조하면, 하나의 예에서, 압력조절 시스템(10)은 가압유닛(11), 배출유닛(13) 및 제어유닛(15)을 포함할 수 있다. 도 5 내지 6에서 도면부호 1의 챔버 및 도면부호 3의 호흡용 마스크는 압력조절 시스템(10)에 포함되지 않는다. 또한, 도 6을 참조하면, 하나의 예에서 압력조절 시스템(10)은 피드백유닛(17)을 더 포함할 수 있다.
도 5 내지 6을 참조하면, 가압유닛(11)은 챔버(1) 및 호흡용 마스크(3) 중 적어도 하나 이상으로 가스를 공급한다. 예컨대, 고압산소챔버가 마스크가 없는 예컨대 1인용 챔버(1)인 경우 가압유닛(11)은 챔버(1) 내로 분위기 가스겸 호흡용 가스인 고압산소를 공급하게 된다. 고압산소챔버가 호흡용 마스크(3)를 구비한 예컨대 1인용 내지 다인용 챔버(1)인 경우 가압유닛(11)은 챔버(1) 내로 분위기가스를 공급한다. 이때, 분위기가스는 고압가스로 일반대기와 성분이 동일하거나 혹은 성분비가 다를 수 있다. 게다가, 호흡용 마스크(3)를 구비한 예컨대 1인용 내지 다인용 챔버(1)인 경우에 가압유닛(11)은 각 호흡용 마스크(3)로도 고농도 산소가스를 공급할 수 있다. 이때, 챔버(1) 내 분위기가스는 가압유닛(11)에 의한 가스공급에 따라 제어유닛(15)의 제어에 의해 펄스파형 압력이 형성되게 된다. 호흡용 마스크(3)가 구비된 경우에는 챔버(1) 내 분위기가스 뿐만 아니라 호흡용 마스크(3) 내의 호흡용 가스도 실시예에 따라서는 가압유닛(11)에 의해 가스공급됨에 따라 제어유닛(15)의 제어에 의해 펄스파형 압력이 형성될 수 있다. 호흡용 마스크(3)가 구비된 경우, 만일 챔버(1) 내 분위기가스 압력만 펄스파형으로 조절되고 호흡용 마스크(3) 내의 가스 압력은 대기압 정도인 경우 호흡용 마스크(3)로 공급되는 고농도산소는 가압유닛(11)이 아닌 별도의 구성을 통해 공급될 수도 있다.
배출유닛(13)은 챔버(1) 및 호흡용 마스크(3) 중 적어도 하나 이상에서 압력저감을 위해 가스를 배출시킨다. 가압유닛(11)과 마찬가지로, 예컨대 고압산소챔버가 마스크가 없는 예컨대 1인용 챔버(1)인 경우 배출유닛(13)은 챔버(1) 내의 분위기 가스겸 호흡용 가스를 배출시키고, 고압산소챔버가 호흡용 마스크(3)를 구비한 예컨대 1인용 내지 다인용 챔버(1)인 경우 배출유닛(13)은 챔버(1)로부터 또는 챔버(1)와 각 호흡용 마스크(3) 모두로부터 가스를 배출하도록 할 수 있고, 이때 제어유닛(15)의 제어에 의해 챔버(1) 내 및 호흡용 마스크(3) 중 적어도 어느 하나로부터 가스가 배출되는 것과 함께 전술한 가압유닛(11)에 의한 가스공급에 의해 펄스파형 압력이 형성되게 된다.
그리고 제어유닛(15)은 가압유닛(11)에 의한 가스공급과 배출유닛(13)에 의한 가스배출을 제어하여 펄스파형을 유도시킨다. 도 4는 제어유닛(15)의 제어에 따라 가압유닛(11)의 On/Off 및 배출유닛(13)의 On/Off가 제어되며 가스 압력이 펄스파형을 형성하는 것을 도시하고 있다. 예컨대, 도 4에서 제어유닛(15)의 제어에 따라 가압유닛(11)에 의한 압력 증가와 배출유닛(13)에 의한 압력감소가 혼합되며 승압 과정의 펄스파형이 형성됨을 알 수 있다. 예컨대, 제어유닛(15)의 제어에 의한 듀티비 제어를 통해서 또는/및 가스공급량/가스배출량 제어를 통해서 가압유닛(11)에 의한 가스공급 및/또는 배출유닛(13)에 의한 가스배출이 제어될 수 있다. 즉, 듀티비 제어 또는/및 가스공급량/가스배출량 제어를 통해 단위 펄스별 진폭 또는/및 반주기(T/2)를 조절할 수 있다.
예컨대, 가압유닛(11)에 의한 가스 공급통로와 배출유닛(13)에 의한 가스 배출통로는 서로 별개로 형성되거나 실시예에 따라 동일 통로를 이용할 수도 있다. 동일 통로를 가스 공급통로와 가스 배출통로로 이용하는 경우 동일 통로의 말단에 가압유닛(11)과 배출유닛(13)이 함께 구비되거나 동일 통로 구간에서 연장된 통로 구간의 말단과 동일 통로 구간의 말단에 가압유닛(11)과 배출유닛(13) 또는 배출유닛(13)과 가압유닛(11)이 구비될 수 있다. 도 5 내지 6의 블럭구성도에서는 가스공급로와 가스배출로가 별개로 형성되는 경우를 도시하고 있다.
또한, 도 6을 참조하면, 하나의 예에서, 압력조절 시스템(10)은 피드백유닛(17)을 더 포함할 수 있다. 피드백유닛(17)은 배출유닛(13)에 의해 배출되는 가스의 적어도 일부를 가압유닛(11)에 의해 공급되는 가스와 혼합시켜 가스 공급 시 함께 공급되도록 하거나 가압유닛(11)에 의해 공급되는 가스통로로 피드백시켜 재공급되게 한다. 이때, 제어유닛(15)은 가압유닛(11), 배출유닛(13) 및 피드백유닛(17)을 제어하여 펄스파형을 유도시킬 수 있다.
예컨대, 하나의 예에서, 피드백유닛(17)은 제어에 따라, 승압의 경우 배출유닛(13)에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부를 가압유닛(11)에 의해 공급되는 가스와 혼합시키거나 가스통로로 피드백시키고 감압의 경우 배출유닛(13)에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부에 대해 가압유닛(11)에 의해 공급되는 가스와 혼합 내지 가스통로로의 피드백을 차단시킬 수 있다.
고압산소챔버 시스템의 압력조절방법
본 발명의 또 하나의 예에 따라, 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법을 도면을 참조하여 구체적으로 살펴본다. 이때, 전술한 고압산소챔버 시스템의 실시예들 및 도 1 내지 6이 참조될 수 있다.
도 7a 및 7b 각각은 본 발명의 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이고, 도 8은 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이고, 도 9는 본 발명의 또 하나의 실시예에 따른 고압산소챔버 시스템의 압력조절 방법을 나타내는 개략적인 흐름도이다.
본 발명의 예에 따른 압력조절방법은 챔버(1) 내에서 사용자가 마스크없이 챔버(1) 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크(3)를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법에 관한 것이다. 이때, 도 7a 내지 9를 참조하면, 압력조절방법은 과도기 압력조절 단계를 포함하고 있다. 과도기 압력조절 단계에서는 분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절한다. 도 7a를 참조하면, 마스크없이 챔버(1) 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크(3)를 통해 호흡가스로 호흡하는 경우에, 과도기 압력조절 단계에서는 챔버(1) 내 분위기가스 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절한다. 도 7b를 참조하면, 과도기 압력조절 단계에서는, 마스크없이 챔버(1) 내 분위기가스로 호흡하는 경우 챔버(1) 내 분위기가스 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하고, 호흡용 마스크(3)를 통해 호흡가스로 호흡하는 경우 챔버(1) 내 분위기가스 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하거나 또는 챔버(1) 내 분위기가스와 호흡용 마스크(3) 내 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절할 수 있다. 예컨대, 도 7b에서, 챔버(1) 내 분위기가스와 호흡용 마스크(3) 내 호흡가스의 압력을 조절하는 경우 승압과정의 도달압력 및/또는 감압과정의 출발압력은 분위기가스 압력과 호흡가스 압력이 다를 수 있다. 예컨대 도 7a에서, 호흡용 마스크(3)를 통해 호흡가스로 호흡하는 경우 도시되지 않았으나 챔버(1) 내 분위기가스의 압력은 출발압력에서 도달압력까지의 과정에서 펄스파형을 포함하도록 하고, 호흡용 마스크(3) 내 호흡가스의 압력은 대략 대기압정도를 유지하거나 혹은 펄스파형을 포함하지 않고 승압 시 대기압보다 높고 분위기가스의 압력보다 낮도록 도달압력을 완만하게 조절할 수 있다. 이후에 기재되지 않은 설명은 전술한 고압산소챔버 시스템의 실시예들에서의 설명으로 대체하여 이해될 수 있다.
예컨대, 도 8을 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 형성할 수 있다. 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭이 감소하는 구간을 포함하는 펄스파형은 도 1, 2, 4를 참조하여 이해될 수 있다.
이때, 하나의 예에서, 펄스파형은 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 클 수 있다. 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차이다. 도 2를 참조하면, 승압 과정에서 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작은 것을 알 수 있다. 감압 과정에 대한 설명은 전술한 바를 참조하기로 한다.
예컨대, 도 2를 참조하면 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 펄스상승 폭의 50% 이하일 수 있다. 또한, 도 2의 파형 진행을 반대로 생각해 보면, 감압 과정의 경우 펄스하강 폭은 직전 펄스상승 폭의 200% 이상일 수 있다. 바꿔 말하면, 감압 과정의 경우 펄스상승 폭이 직전 펄스하강 폭의 50% 이하일 수 있다.
게다가, 도 2를 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)인 "T1/2"보다 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)인 "T2/2"가 큰 구간을 포함할 수 있다.
다음으로, 도 9를 참조하면, 하나의 예에서, 펄스파형은 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 도달압력 지점에 가까워지면서 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성할 수 있다. 이때, 펄스파형은 도 1 내지 3에 도시되고 있으며, 보다 구체적인 설명은 전술한 바를 참조하기로 한다.
또한 하나의 예에서, 과도기 압력조절단계는, 예컨대 도 3에 도시된 바와 같이, 출발압력에서 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 펄스파형의 종료 후부터 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함할 수 있다. 도 3에서 "A" 부분이 펄스파형과 도달압력 연결구간이 곡선형으로 이루어진 것을 알 수 있다.
이상에서, 전술한 실시예 및 첨부된 도면들은 본 발명의 범주를 제한하는 것이 아니라 본 발명에 대한 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자의 이해를 돕기 위해 예시적으로 설명된 것이다. 또한, 전술한 구성들의 다양한 조합에 따른 실시예들이 앞선 구체적인 설명들로부터 당업자에게 자명하게 구현될 수 있다. 따라서, 본 발명의 다양한 실시예는 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있고, 본 발명의 범위는 특허청구범위에 기재된 발명에 따라 해석되어야 하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의한 다양한 변경, 대안, 균등물들을 포함하고 있다.
1: 챔버 3: 호흡용 마스크
10: 압력조절시스템 11: 가압유닛
13: 배출유닛 15: 제어유닛
17: 피드백유닛

Claims (17)

  1. 챔버 내에서 사용자가 마스크없이 챔버 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템에 있어서,
    분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 압력조절 시스템을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  2. 청구항 1에서,
    상기 펄스파형은 상기 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 상기 도달압력 지점에 가까워지면서 상기 진폭이 감소하는 구간을 형성하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  3. 청구항 2에서,
    상기 펄스파형은 상기 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 상기 감압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크고, 상기 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차인 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  4. 청구항 3에서,
    상기 승압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 펄스상승 폭의 50% 이하이고 상기 감압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 펄스상승 폭의 200% 이상인 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  5. 청구항 2에서,
    상기 펄스파형은 상기 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)보다 상기 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)가 큰 구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  6. 청구항 1에서,
    상기 펄스파형은 상기 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 상기 도달압력 지점에 가까워지면서 상기 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  7. 청구항 1 내지 6 중 어느 하나에서,
    상기 출발압력에서 상기 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 상기 펄스파형의 종료 후부터 상기 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  8. 청구항 1 내지 6 중 어느 하나에서,
    상기 압력조절 시스템은 상기 챔버 및 상기 호흡용 마스크 중 적어도 하나 이상으로 가스를 공급하는 가압유닛, 상기 챔버 및 상기 호흡용 마스크 중 적어도 하나 이상에서 압력저감을 위해 가스를 배출시키는 배출유닛, 및 상기 가압유닛에 의한 가스공급과 상기 배출유닛에 의한 가스배출을 제어하여 상기 펄스파형을 유도시키는 제어유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  9. 청구항 8에서,
    상기 압력조절 시스템은 상기 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 적어도 일부를 상기 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합시켜 가스 공급 시 함께 공급되도록 하거나 상기 가압유닛에 의해 공급되는 가스통로로 피드백시켜 재공급되게 하는 피드백유닛을 더 포함하고, 상기 제어유닛은 상기 가압유닛, 상기 배출유닛 및 상기 피드백유닛을 제어하여 상기 펄스파형을 유도시키는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  10. 청구항 9에서,
    상기 피드백유닛은 제어에 따라, 상기 승압의 경우 상기 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부를 상기 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합시키거나 상기 가스통로로 피드백시키고 상기 감압의 경우 상기 배출유닛에 의해 배출되는 가스의 일부 또는 전부에 대해 상기 가압유닛에 의해 공급되는 가스와 혼합 내지 상기 가스통로로의 피드백을 차단시키는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템.
  11. 챔버 내에서 사용자가 마스크없이 챔버 내 분위기가스로 호흡하거나 호흡용 마스크를 통해 호흡가스로 호흡하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법에 있어서,
    분위기가스 압력 또는 분위기가스와 호흡가스의 압력을 출발압력에서 도달압력까지의 승압 및 감압 과정 중 어느 하나 이상의 과정에서 펄스파형이 나타나도록 조절하는 과도기 압력조절 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  12. 청구항 11에서,
    상기 펄스파형은 상기 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭이 증가하고 상기 도달압력 지점에 가까워지면서 상기 진폭이 감소하는 구간을 형성하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  13. 청구항 12에서,
    상기 펄스파형은 상기 승압 과정의 경우 펄스하강 폭이 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 작고, 상기 감압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 및 직후 펄스상승 폭보다 크고, 상기 펄스하강 폭 및 펄스상승 폭 각각은 마루와 골 사이의 높이차인 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  14. 청구항 13에서,
    상기 승압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 펄스상승 폭의 50% 이하이고 상기 감압 과정의 경우 상기 펄스하강 폭이 상기 직전 펄스상승 폭의 200% 이상인 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  15. 청구항 12에서,
    상기 펄스파형은 상기 진폭이 작은 펄스의 반주기(T/2)보다 상기 진폭이 큰 펄스의 반주기(T/2)가 큰 구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  16. 청구항 12에서,
    상기 펄스파형은 상기 출발압력 지점에서 멀어지면서 진폭(h)/반주기(T/2) 값이 증가하고 상기 도달압력 지점에 가까워지면서 상기 진폭/반주기 값이 감소하는 구간을 형성하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
  17. 청구항 11 내지 16 중 어느 하나에서,
    상기 과도기 압력조절단계는 상기 출발압력에서 상기 펄스파형의 시작 전까지의 구간 및 상기 펄스파형의 종료 후부터 상기 도달압력까지의 구간 중 어느 하나 이상은 직선형 내지 곡선형 구간을 포함하는 것을 특징으로 하는 고압산소챔버 시스템의 압력조절방법.
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KR0183814B1 (ko) 1996-01-22 1999-05-01 김광호 텔레비젼과 비디오 카세트 레코더 일체형 시스템 및 그 동작 방법
KR20190035792A (ko) 2016-07-26 2019-04-03 뉴라비 리미티드 혈관으로부터 폐색 혈전을 제거하기 위한 혈전 회수 시스템
KR20190121290A (ko) 2017-01-03 2019-10-25 카디오바스컬라 시스템스 아이앤씨. 다중­조성의 혈관내 조직을 점진적으로 연화시키는 시스템，방법 및 장치

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