KR20240049599A - 주입기 장치 구성요소 표면 수정 - Google Patents

Abstract

주입기 장치를 제조하는 방법으로서, 스토퍼의 외측이 관형 부재의 내면과 계합하도록 상기 관형 부재 내에 상기 주입기 장치의 스토퍼를 배치하는 단계, 및 상기 스토퍼와 상기 관형 부재 사이의 상대 운동을 유발함으로써 상기 스토퍼의 외측을 수정하는 단계를 포함하며, 상기 상대 운동은 회전 운동 및 진동 운동 중 하나 또는 양자 모두를 포함하는 것인 방법이 개시된다.

Description

주입기 장치 구성요소 표면 수정

본 설명에서 다루어지는 다양한 발명 개념은 주사기, 자동 주입기(auto-injector) 및 펜 등, 배럴 및 배럴 내에 활주 가능하게 수용되는 스토퍼를 포함하는 주입기 장치, 그러한 장치를 제조하고 사용하는 관련 방법에 관한 것이다.

주입기 장치(예: 주사기, 자동 주입기 및 펜)는 통상적으로 배럴, 배럴 내에 위치하는 스토퍼 및 스토퍼를 변위시키는 플런저 로드(plunger rod) 또는 작동 기구를 포함한다. 스토퍼는 통상적으로 공기 및 액체 불투과성이며, 저마찰 활주성(low-friction slidability)을 갖고 있다. 주입기 장치 내부에 액체를 충진 또는 배출할 때 배럴 내부의 액체 누출을 제거하고 스토퍼의 외면과 배럴의 내벽 사이에 공기가 유입되는 것을 방지하기 위해서는 공기 불투과성과 액체 불투과성이 중요하다. 주입기 장치 내부의 액체 충진 및 배출을 용이하게 하기 위해서는 저마찰 활주성이 중요하다. 이러한 요구 사항 외에도 의료용 주사기, 자동 주입기 또는 펜은 주사기(예: 약학 조성물을 포함하는 사전 충전된 주사기, 자동 주입기 또는 펜)와 접촉하는 바이오의약품과 같은 약학 조성물에 악영향을 주어서는 안 된다.

주입기 장치 구성요소의 일부 예는 출원인 더블유. 엘. 고어 앤드 어소시에이트스 인코포레이티드의 "저윤활제의 소수성 주사기 배럴을 갖는 의료용 주입기 장치"라는 명칭의 미국 공개공보 2021/0030970에서 찾을 수 있으며, 이는 의료용 주입기 장치를 설명하고 있다. 의료용 주입기 장치는 배럴과, 낮은 브레이크 해제력(break loose force), 낮은 평균 활주력(average glide force) 및 낮은 활주력 변동(glide force variation) 중 적어도 하나를 보유하면서 공기 및 액체 불투과성을 제공할 수 있는 스토퍼를 포함한다.

주입기 장치 구성요소의 예는 출원인 스미토모 러버 인더스트리스사(Sumitomo Rubber Industries, Ltd.)의 "개스킷 및 의료용 주사기"라는 명칭의 미국 특허 제10,751,473호에서 찾을 수 있으며, 이는 탄성 재료로 만들어진 본체와 본체의 표면에 마련된 불활성 수지 필름을 포함하는, 의료용 주사기에 사용되는 개스킷을 설명하고 있다. 상기 개스킷은 원통형이고, 외주면에 환형 리브를 포함하며, 각 리브는 주사기 배럴의 내주면과 활주 접촉을 유지하는 활주 접촉부를 구비한다. 환형 리브는 개스킷의 원위 단부로부터 후방 단부까지 축방향으로 배치된다. 원위 환형 리브의 활주 접촉부는 원통형 개스킷의 축방향 길이의 1 내지 25%인 폭을 갖는다.

배리어 또는 배리어 층을 포함하고 배리어 내의 결함을 메우기 위해 실리콘 또는 기타 추가 윤활성 재료(예: 액체 윤활제)를 사용하지 않는 스토퍼에 대해 내구성 시일을 형성하는 것은 어려울 수 있다. 상기 결함은 삽입 시 스토퍼의 압축으로 인해 배리어에 형성되는 주름, 스토퍼를 제작 또는 삽입하는 과정에서 발생하는 밀봉 영역 표면의 스크래치, 또는 구성요소 제조 및 조립 공정에서 발생하는 기타 불량에 의해 발생할 수 있다. 스토퍼를 배럴에 삽입하기 전까지는 결함이 발생하지 않거나 눈에 띄지 않는 경우가 많다. 따라서, 배럴에 스토퍼를 삽입하는 공정 이전에 각종 결함을 예방, 제거, 처리하는 것이 불가능할 수 있다. 본 설명에서 다루어지는 다양한 발명 개념은 스토퍼가 배럴 내로 관련 삽입 공정을 거치는 동안 또는 그 후에 이러한 결함을 처리하거나 밀봉 성능을 개선하는 것에 관한 것이다.

일부 예에 따르면, 주입기 장치를 제조하는 방법은, 스토퍼의 외측이 관형 부재의 내면과 계합하게 하도록 관형 부재 내에 주입기 장치의 스토퍼를 배치하는 것, 그리고 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동을 야기함으로써 스토퍼의 외측을 수정(modify)하는 것을 포함하며, 상기 상대 운동은 회전 운동 및 진동 운동 중 하나 또는 양자 모두를 포함한다. 상기 관형 부재는, 주입기 장치의 배럴, 주입기 장치의 배럴 내로 삽입되도록 구성되는 벤트 튜브(vent tube)로서, 주입기 장치의 배럴 내로의 스토퍼의 전달을 위해 구성되는 벤트 튜브, 또는 또 다른 관형 부재일 수 있을 것이다. 상기 스토퍼의 외측은, 선택적으로, 리브(rib)를 규정하고, 상기 스토퍼와 상기 관형 부재 사이의 상대 운동은 상기 리브에서의 국부적 가열을 유발한다. 일부 예에서, 상기 상대 운동은 스토퍼의 외측의 거칠기 감소를 유발한다. 상기 스토퍼의 외측은 주름을 포함할 수도 있고, 상기 상대 운동은 상기 주름을 감소시킬 수도 있다. 상기 스토퍼의 외측은, 종방향 및 둘레방향의 거칠기를 규정할 수 있으며, 상기 상대 운동은 종방향 및/또는 둘레방향의 거칠기의 감소를 유발할 수도 있다. 상기 상대 운동은, 스토퍼의 외측으로부터의 재료가 관형 부재의 내면으로 이송되게 할 수 있을 것이다. 상기 스토퍼의 외측은, 선택적으로, 고분자 재료를 포함하며, 상기 상대 운동은 고분자 재료의 고분자 이동(polymeric movement)을 유도한다. 상기 스토퍼는, 제1 재료로 형성되는 배리어(barrier) 및 제2 재료로 형성되는 본체를 포함할 수 있으며, 상기 배리어는 상기 본체에 결합된다. 그리고, 상기 스토퍼의 외측은 플루오로중합체 재료를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 상기 스토퍼와 상기 관형 부재 사이의 상대 운동은 종방향 성분을 포함한다.

일부 예에 따르면, 주입기 장치를 제조하는 방법은, 주입기 장치의 스토퍼를 벤트 튜브에 배치하는 것, 벤트 튜브를 주입기 장치의 배럴 내에 삽입하는 것, 스토퍼의 외측이 배럴의 내면과 계합하여 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면(seal interface)를 형성하도록 스토퍼를 벤트 튜브로부터 주입기 장치의 배럴 내로 전달하는 것, 그리고 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키기 위해 스토퍼와 배럴 사이의 상대 운동을 유도하는 것을 포함한다. 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 회전 성분을 포함할 수 있다. 선택적으로, 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 종방향 성분을 포함한다. 상기 스토퍼의 외측은 고분자 재료를 포함할 수 있으며, 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 것은, 상기 시일 계면에서 고분자 재료의 고분자 이동을 유도하는 것을 포함한다. 그리고, 또 다른 선택적 단계로서, 스토퍼가 벤트 튜브로부터 주입기 장치의 배럴 내로 전달된 이후에, 상기 스토퍼의 외측은 시일 계면에서의 주름을 포함하며, 또한, 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 것은, 상기 시일 계면에서의 주름을 감소시키는 것을 포함한다. 상기 스토퍼는 본체 및 이 본체에 결합되는 배리어를 포함할 수 있고, 상기 배리어는 플루오로중합체 재료로 형성되며, 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 것은, 상기 시일 계면에서의 국부적 가열을 유발하는 것을 포함할 수 있을 것이다. 그리고, 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 것은, 스토퍼의 외측으로부터 배럴의 내면으로 재료를 이송하는 것을 포함할 수 있을 것이다. 다양한 예에서, 상기 스토퍼의 외측은 리브를 규정하고, 상기 시일 계면은 스토퍼의 리브를 포함한다.

또 다른 예에 따르면, 주입기 장치는, 외측을 갖는 스토퍼로서, 본체 및 본체의 재료와는 다른 재료로 형성된 배리어를 포함하는 스토퍼를 포함하며, 상기 배리어는 본체에 결합되고, 상기 배리어는 상기 스토퍼의 외측의 적어도 일부분을 한정하며, 상기 배럴은, 상기 스토퍼의 외측과 계합하여 시일 계면을 한정하는 내면을 갖고, 상기 배럴의 내면은, 배리어의 재료에 대응하는 시일 계면의 성막 재료를 포함하여, 상기 시일 계면은 성막 재료 및 배리어의 재료에 의해 한정되며, 상기 성막 재료는 방향성 배향(directional orientation)을 갖는다. 상기 방향성 배향은, 선택적으로, 둘레 성분을 포함한다. 상기 성막 재료의 방향성 배향은, 공통 방향으로 정렬되는 PTFE 체인의 열(row)들에 의해 한정될 수 있을 것이다. 상기 스토퍼의 외측은, 선택적으로, 시일 계면에서의 마이크로 리브 및 매크로 리브 중 적어도 하나를 포함하며, 상기 배리어는, 선택적으로, 플루오로중합체 재료를 포함한다. 일부 예에서, 상기 성막 재료는 배럴의 내면의 하나 이상의 결함을 채운다. 상기 성막 재료는, 선택적으로, 단지 시일 계면에만 위치한다. 상기 시일 계면은, 스토퍼의 외측이 배럴의 내면과 계합하는 영역인, 하나 이상의 둘레방향 밴드에 대응할 수 있을 것이다. 그리고, 상기 성막 재료는, 선택적으로, 배럴의 내부에 하나 이상의 둘레방향 밴드를 한정한다.

전술한 실시예는 단지 예일 뿐이며, 본 개시에 의해 달리 제공되는 발명의 개념 중 임의의 것의 범위를 제한하거나 그렇지 않으면 좁히는 것으로 해석되어서는 안 된다.　 다수의 예가 개시되지만, 예시적인 예를 보여주고 설명하는 다음의 상세한 설명으로부터 당업자에게는 또 다른 실시예가 명백해질 것이다. 따라서, 도면 및 상세한 설명은 본질적으로 제한적이 아닌 예시적인 것으로 간주되어야 한다.

첨부 도면은 본 개시의 추가 이해를 제공하기 위해 포함되며 본 명세서에 통합되어 본 명세서의 일부를 구성하고, 실시예를 예시하고, 상세한 설명과 함께 본 개시의 원리를 설명하는 역할을 한다.
도 1은 일부 실시예에 따라 주사기로서 구성된 주입기 장치를 도시한다.
도 2는 일부 실시예에 따라 자동 주입기로서 구성된 주입기 장치를 도시한다.
도 3은 일부 실시예에 따른 도 1 또는 도 2의 주입기 장치의 스토퍼를 도시한다.
도 4는 일부 실시예에 따른 도 1 또는 도 2의 주입기 장치의 스토퍼를 도시한다.
도 5는 일부 실시예에 따른 도 3 또는 도 4의 스토퍼의 일부를 도시한다.
도 6 및 도 7은 일부 실시예에 따른 도 5의 영역 A의 다양한 마이크로 특징(micro feature)을 나타낸다.
도 8 및 도 9는 일부 실시예에 따라, 툴링, 및 스토퍼 조립 및 결합을 위해 툴링이 사용될 수 있는 방법을 나타낸다.
도 10 내지 도 14는 일부 실시예에 따른, 도 1 또는 도 2의 주입기 장치를 조립하는 일부 방법을 제시한 것이다.
도 15a 및 도 15b는 일부 실시예 따른, 스토퍼를 수정하기 위한 시스템 및 방법을 나타낸 것이다.
도 16a 내지 도 19b는 일부 실시예에 따른, 결함을 제거하기 위해 스토퍼를 수정하는 단계를 나타낸다.

상세한 설명

정의 및 용어

본 개시는 제한적인 방식으로 해석되도록 한 것이 아니다.　 예를 들어, 본 출원에 사용된 용어는 당업자가 해당 용어에 부여하는 의미의 맥락에서 폭넓게 해석되어야 한다.

제목의 사용은 설명을 쉽게 검토할 목적으로만 제공되며, 한 제목 아래의 개념이 다른 제목 아래의 개념에 적용할 수 없거나 관련이 없다는 것을 구분하거나 지정하기 위한 것이 아니다. 실제로, 그 반대가 의도되며 설명은 전체로서 판독되고 해석되도록 하기 위한 것이며, 특정 실시예의 다양한 특징 및 양태가 본 명세서에 설명된 다양한 기타 실시예에 걸쳐 적용 가능하고 또 그 실시예에 적용가능하다.

부정확성의 용어와 관련하여, "약" 및 "대략"이라는 용어는 명시된 측정값을 포함하고 명시된 측정값에 합리적으로 가까운 임의의 측정값도 포함하는 측정값을 나타내기 위해 상호 교환적으로 사용될 수 있다.　 명시된 측정값에 합리적으로 가까운 측정값은 관련 기술 분야에서 통상의 지식을 갖고 있는 개인이 이해하고 쉽게 확인할 수 있는 바와 같이 합리적으로 작은 양만큼 명시된 측정값으로부터 벗어난다. 이러한 편차는, 예를 들어, 측정 오류, 측정 및/또는 제조 장비 보정의 차이, 측정값 판독 및/또는 설정 시 인적 오류, 다른 구성요소, 특정 구현 시나리오, 사람 또는 기계에 의한 대상체의 부정확한 조정 및/또는 조작 등과 관련된 측정값의 차이를 고려하여 성능 및/또는 구조적 파라미터를 최적화하기 위해 이루어진 사소한 조정 등에 기인할 수 있다.　 관련 기술분야에서 통상의 지식을 가진 개인이 그러한 합리적으로 작은 차이에 대한 값을 쉽게 확인할 수 없다고 판단되는 경우, "약" 및 "대략"이라는 용어는 명시된 값의 플러스 또는 마이너스 10%를 의미하는 것으로 이해될 수 있다.

본 명세서에서 사용된 용어 "에너지원에 의해 활성화가능" 및 그 유사어는 물리적 및/또는 화학적 상태의 변화와 같은 물질의 상태 변화를 의미한다. 에너지원에 의한 활성화의 한 가지 예는 고체 형태(또는 그 이상의 고체 형태)로부터 액체 형태(또는 그 이상의 액체 형태)로의 현저한(즉, 명백히 나타나는) 변화를 포함한다. 에너지원에 의한 활성화의 또 다른 예는 에너지원에 대한 노출을 통해 가교 또는 분자량에(예: 가교 또는 사슬 절단을 통해) 현저한(즉, 명백히 나타나는) 변화를 나타내는 것을 포함한다. 참고로, 본 명세서에서 사용되는 "에너지원"은 열, 레이저, 고주파(RF), 마이크로파, 자외선, 복사, 초음파 등을 포함하는 다양한 유형의 에너지원을 의미한다.

본 명세서에 사용된 용어 "배리어", "배리어 구조물" 등은 하나의 구성요소(예: 스토퍼 본체)와 다른 구성요소(예: 배럴 및/또는 배럴의 내용물) 사이의 상호 작용을 차단하거나 방해하는 재료를 의미한다.

본 명세서에 사용된 용어 "탄성의" 및 "엘라스토머의(elastomeric)"는 주입기 장치(예를 들어, FDA 승인 응용 분야)에 사용되는 스토퍼를 참조하여 이해되는 재료 성질을 의미하며, 재료가 치수적으로 변형(예: 수축, 확장, 왜곡 등)된 후 변형 전 형상으로 자발적으로 되돌아가는, 또는 복귀하는 재료의 경향과 관련된다.

본 명세서에 사용된 "주입기 장치"라는 용어는 배럴에 수용된 스토퍼와 배럴 내에 유지된 내용물을 배럴 내부로부터 배출하거나 전달하기 위해 배럴 내의 스토퍼를 변위시키도록 구성된 작동 기구를 포함하는 다양한 장치 중 임의의 것을 포함하는 것을 나타내기 위한 것이다. 주입기 장치의 예로는 주사기, 자동 주입기, 펜 등이 있다.

본 명세서에서 사용된 용어 ""매크로 특징(macro feature)"(예를 들어, "매크로 리브" 또는 "매크로 홈")은 육안으로 그 윤곽이 보이는 스토퍼 리브 또는 홈 특징, 또는 스토퍼의 배리어의 두께의 2배 이상의 높이를 나타내는 스토퍼 특징을 나타내기 위한 것이다.

본 명세서에 사용된 용어 "마이크로 특징"(예를 들어, 마이크로 리브, 마이크로 홈 또는 마이크로 보이드)은 (비록 특징의 일반적인 존재 자체가 감지될 수 있지만) 육안으로 그 윤곽이 보이지 않는 (표면 특징이든 표면 아래 특징이든) 스토퍼 특징을 나타내기 위한 것이다. 예를 들어, 마이크로 특징에는 매크로 리브 또는 매크로 홈 상에 또는 내에 위치하는 스토퍼의 마이크로 리브 또는 마이크로 홈 특징이 포함될 수 있다.

본 명세서에 사용된 용어 "다층 배리어"는 재료의 복수 층을 갖는 배리어 구조물을 의미하며, 그 중 적어도 일부는 서로 중첩된 방식으로 배치되거나(병렬 배치), 경우에 따라 서로 인접하여 배치(직렬 배치)된다. 다층 구조물은 상대적으로 날카롭고 뚜렷한 경계를 갖는 재료의 두께 또는 층을 가질 수 있으며, 또는 그 사이에 혼합되거나 보다 점진적인 천이 경계를 가질 수 있다.

본 명세서에 사용된 "다중 구역 배리어"라는 용어는 서로 다른 재료 성질을 갖는 복수의 구역, 또는 섹션을 갖는 배리어 구조물을 지칭한다. 다중 구역 구조물은 상대적으로 날카롭고 뚜렷한 경계에 의해 분리된 구역 또는 섹션을 가질 수 있으며, 또는 혼합되거나 점진적인 경계를 가질 수 있다. 다중 구역 배리어의 일부 예는 다층 배리어가 또한 다중 구역 배리어를 규정(define)하도록 병렬 또는 직렬로 배치된 별개의 층을 포함한다. 다른 예는 여러 구역을 규정하도록 수정된 단일 층을 포함할 수 있다.

본 명세서에 사용된 "진동하다" 등의 용어(예를 들어, "진동")는 일정하거나 변하고 있을 수 있는 주파수에서 방향이 번갈아가는 동작을 나타내기 위한 것이다.

본 명세서에 사용된 용어 "근위(proximal)"는 장치의 작동자 단부(예를 들어, 플런저 단부)에 더 가까운 것을 의미하는 반면, 원위(distal)라는 용어는 근위(예를 들어, 천공 요소 단부)보다 작동자로부터 더 멀리 떨어져 있음을 의미한다.

본 명세서에 사용된 "회전하다" 등(예를 들어, "회전")의 용어는 원주 방향의 동작을 나타내기 위한 것이다.

본 명세서에 사용된 용어 "밀봉 표면"은 (예를 들어, 보관 및/또는 사용 중) 액밀 시일(liquid-tight seal)을 유지하는 특징을 나타내기 위한 것이다.

본 명세서에 사용된 용어 "실리콘" 및 "실리콘 오일(silicone oil)"은 본 명세서에서 상호교환적으로 사용될 수 있다.

본 명세서에 사용된 용어 "실질적으로 없음"은 확인된 물질(예: 실리콘, 실리콘 오일 또는 기타 윤활제)이 계측불가능하거나(unquantifiable) 미량인 것을 나타내기 위한 것이며, 또는 시스템에 의도적으로 추가된 양이 없음(예: 배럴이나 스토퍼와 같은 주입기 장치에 의도적으로 첨가된 실리콘 오일이 없음)을 나타내기 위한 것이다.

본 명세서에 사용된 용어 "진동하다"(예를 들어, "진동")는 일정하거나 변하고 있을 수 있는 주파수에서 방향이 번갈아가는 가속도를 갖는 동작을 나타내기 위한 것이다.

다양한 실시예의 설명

당업자는 본 개시의 다양한 양태가 의도된 기능을 수행하도록 구성된 임의의 수의 방법 및 장치에 의해 실현될 수 있음을 쉽게 이해할 것이다. 본원에서 참조하는 첨부 도면은 반드시 일정한 비율로 도시된 것은 아니며, 본 개시의 다양한 양태를 예시하기 위해 과장될 수 있으며, 이와 관련하여 도면이 제한적인 것으로 해석되어서는 안 된다는 점에 유의해야 한다.

본 발명은 플루오로중합체 또는 비-플루오로중합체 필름 또는 플루오로중합체 또는 비-플루오로중합체 라미네이트(non-fluoropolymer laminate)로 적어도 부분적으로 덮인 스토퍼, 배럴, 및 배럴 내에서 스토퍼를 변위시키는 플런저 로드 또는 작동 기구를 포함하는 주입기 장치(예를 들어, 주사기, 자동 주입기 및 펜)에 관한 것이다.

본 설명의 다양한 양태는, 주입기 장치의 배럴 또는 주입기 장치의 배럴 내로 스토퍼를 삽입하기 위해 작동 가능한 벤트 튜브와 같은, 관형 부재 내에 상주하는 스토퍼의 기계적 수정에 관한 것이다. 상기 스토퍼는 배리어를 구비할 수 있고, 상기 스토퍼는 적어도 하나의 마이크로 특징(예를 들어, 배리어에 의해 형성되는 마이크로 특징)을 가질 수도 있고 이러한 마이크로 특징을 갖지 않을 수도 있다. 이러한 배리어는 다수의 층을 포함할 수도 있고, 즉 다층 배리어일 수도 있다. 주름, 스크래치 및 파편과 같은 특정 결함은, 조립된 형태에서 스토퍼에 존재할 수도 있으며, 및/또는 스토퍼를 주입기 장치의 배럴 내로 조립하는 도중에 생성되거나 또는 달리 존재할 수도 있을 것이다. 상기 스토퍼의 기계적 수정은, 이러한 결함 및 불완전성의 영향을 감소시키기 위해, 제조 프로세스 도중에(예를 들어, 스토퍼가 배럴 내로 삽입되기 이전에 또는 스토퍼가 배럴 내로 삽입된 이후에) 구현될 수 있을 것이다. 상기 기계적 수정은, 추가적으로 또는 대안적으로, 배럴 표면에서의 불완전성의 영향을 감소시키는 것을 돕기 위해 그리고/또는 동일한 재료를 포함하는 활주 계면(sliding interface)를 생성하기 위해, 재료를 스토퍼로부터 배럴로 이송할 수 있을 것이다. 예를 들어, 배럴 상의 이송된 재료 및 스토퍼 상의 배리어 재료에 의해 형성되는 PTFE-PTFE 계면(PTFE-to-PTFE interface)(또는 ePTFE-eTPFE 계면(ePTFE-to-ePTFE interface))은, 향상된 시일 성능 및/또는 활주 성능을 나타낼 수 있을 것이다. 이러한 계면은, 2개의 유사한 재료 사이의 표면 에너지에 기초하여, 누출 가능성이 더 낮을 수 있다는 것이 고려된다.

이러한 다양한 특징은, 결과적으로, 시일 성능 및/또는 활주 성능에 있어서 더욱 양호하고 및/또는 더욱 재현 가능한 결과를 달성하는 데 도움이 될 수 있다. 보다 효율적이고 및/또는 더 높은 수율의 제조, 감소된 오염 및/또는 미립자 생성, 강화된 밀봉 등을 비롯하여, 이러한 특징을 활용하여 다양한 추가적인 이점 또는 대안적인 이점이 실현될 수 있다.

주입기 장치 개념

사용 시, 주입기 장치는, 통상적으로 의료용으로 환자에게 전달되는 치료제 또는 기타 물질인 유체를 저장(예를 들어 단기 또는 장기)하고 전달하기 위해 채용될 수 있다. 일부 실시예에서, 이러한 주입기 장치는 치료제를 환자에게 전달하기 위한 주입기 장치의 계획된 사용에 앞서 치료제로 미리 충전될 수 있다(예를 들어, 사전 충전된 주사기로서). 주입기 장치는 안과 질환(예: 황반변성 및 녹내장) 또는 당뇨병과 같은 질환(그러나 이에 국한되지는 않음)을 치료하는 치료제를 함유할 수 있다. 잠재적인 치료제의 비제한적인 예를 후속하여 설명한다. 유리하게는, 다양한 실시예에서, 스토퍼 및 배럴은 실리콘 또는 실리콘 오일을 함유하지 않는다. 예를 들어, 다양한 실시예에 따르면, 본 명세서에 기술된 주입기 장치의 배럴 및 스토퍼에는 실리콘 및 실리콘 오일(또는 다른 액체 윤활제)이 없거나 실질적으로 없을 수 있다. 어떤 경우에는 스토퍼와 배럴에 상당한 양이 포함되어 있지 않거나 다른 액체 윤활제가 거의 없는 경우도 있다(물론 액체 형태이므로 적어도 어느 정도는 자체 윤활이 되는 주입기 장치 내 치료 물질은 제외).

도 1은 일부 실시예에 따른 주사기 형태의 주입기 장치(10)를 도시한다. 도시된 바와 같이, 주입기 장치(10)는 배럴(20), 천공 요소(30), 및 배럴(20) 내에 수용되고 작동 기구(50)(예를 들어, 도시된 플런저 로드)에 동작 가능하게 결합된 스토퍼(40)를 포함한다.

도시된 바와 같이, 배럴(20)은 벽(118)을 갖고 근위 단부(120)와 원위 단부(122) 사이에서 연장된다. 배럴(20)은 배럴(20)의 벽(118)에 의해 각각 규정되는 내면(124) 및 외면(126)을 갖고, 내면은 배럴(20)에 의해 규정되는 수용 챔버(128)와 경계를 이룬다. 도시된 바와 같이, 배럴(20)의 근위 단부(120)는 또한 사용자가 작동 기구(50)을 누르고 당기는 것을 돕는 손가락 스토퍼 또는 핸들로서 사용될 수 있는 플랜지를 포함할 수 있다.

천공 요소(30)는 예리하게 뾰족한 바늘 캐뉼라 또는 "무바늘" 시스템에 사용되는 것과 같이 끝이 무딘 캐뉼라(blunt-ended cannula)를 포함할 수 있다. 예시의 용이함을 위해, 천공 요소(30)는 날카롭게 뾰족한 원위 단부를 갖는 날카롭게 뾰족한 세장형의 바늘 캐뉼러로서 도시된다. 도시된 바와 같이, 천공 요소(30)는 배럴(20)의 원위 단부(122)와 결합된다.

스토퍼(40)는 배럴(20) 내에 활주 가능하게 수용되고, 배럴(20)의 내면(124)과 밀봉되도록 구성된다. 보다 구체적으로, 스토퍼(40)는 작동 기구(50)에 의해 배럴(20) 내에서 작동되어 수용 챔버(128)의 내용물을 천공 요소(30)를 통해 배럴(20)로부터 가압하고 배출하도록 구성된다.

작동 기구(50)는 원위 단부(152) 및 근위 단부(154)를 구비하며, 여기서 원위 단부(152)는 스토퍼(40)에 동작 가능하게 결합되며, 예를 들어 작동 기구(50)가 배럴(20) 내에서 스토퍼(40)를 길이방향 (또는 다른 방향)으로 변위시키도록 구성되는 방식으로, 고정되거나, 스토퍼(40)와 일체적으로 형성되거나 그렇지 않으면 연계된다.

도 2는 일부 실시예에 따른 자동 주입기 형태의 주입기 장치(100)를 도시하며, 여기서 배럴(20), 스토퍼(40) 및 작동 기구(50)(주입기 장치(100)와 관련하여 주입 부재로도 설명됨)는 유사하게 구성되고 채용될 수 있다. 주입기 장치(100)의 작동 기구(50)는 스토퍼(40)에 가해지는 가변 작동력을 채용하거나 나타낼 수 있다. 예를 들어, 작동 기구(50)는 하나 이상의 편향 부재(예를 들어, 스프링) 및 이러한 기능을 달성하기 위한 다른 특징을 포함할 수 있다. 주입기 장치(100)의 다양한 기타 구성요소는 관련 분야의 당업자가 이해하는 바와 같이 주입기 장치(10)의 구성요소와 실질적으로 유사하다. 이러한 설명의 목적을 위해, 본 명세서에 설명된 스토퍼(40)의 다양한 특징은 주입기 장치(10)의 구성에서 활용되든 주입기 장치(100)의 구성에서 활용되는지에 관계없이 적용 가능하다. 더 넓은 의미에서, 배럴(20) 및 스토퍼(40)와 관련하여 본 명세서에 설명된 개념은 다양한 주입기 장치 구성 중 임의의 구성에서 구현될 수 있다.

주입기 장치(10, 100)는 배럴(20)의 수용 챔버(128)에 재료(60)를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 재료(60)는 제조 현장, 또는 주입기 장치(10, 100)가 최종 사용자에 의해 채용되는 치료 현장 또는 부위로부터 멀리 떨어진 현장(예를 들어, 임상 현장)의 챔버 내에 놓이거나 위치된다. 그러한 경우에, 주입기 장치(10, 100)는 "사전 충전된" 것으로 지칭될 수 있다(예를 들어, 주입기 장치(10)의 예에서는, 사전 충전된 주사기). 재료(60)는 소정 양(예를 들어, 1회 이상의 용량)의 약학 조성물일 수 있다. 적합한 약학 조성물의 일부 예를 후술한다. 그러나, 재료(60)는 주사기로부터 배출될 수 있는 임의의 유형의 액체 또는 재료일 수 있거나, 재료(60)는 충전되지 않은 주사기와 같이 수용 챔버에서 모두 부재할 수도 있다는 것을 이해해야 한다. 그러한 예에서, 주입기 장치(10, 100)는 치료 부위에서 또는 그 근처에서 충전될 수 있다(예를 들어, 주입기 장치를 "충전"하는 것으로도 설명됨).

도 3 및 도 4는 스토퍼(40)의 예시적인 구성의 평면도 또는 정면도이며, 스토퍼(40)의 오른쪽 절반은 도 3의 구성의 단면으로 도시되어 있고 스토퍼(40)의 왼쪽 절반은 도 4의 구성의 단면으로 도시되어 있다.

도 3 및 도 4의 각 구성에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)는 탄성재질로 이루어진 본체(240)와, 본체(240) 상에 마련된 배리어 필름 등의 배리어(242)를 포함한다. 스토퍼(40)는 외측(244), 종축(X), 및 종축(X)을 따른 높이를 갖는다. 스토퍼(40)는 선단면(246)과 후미면(248) 사이에서 연장된다. 도시된 바와 같이, 배리어(242)는 외측(244) 및/또는 선단면(246)의 일부(전체를 포함)를 따라 연장될 수 있다. 원할 경우, 배리어(242)는 후미면(248)의 일부(전체를 포함)를 따라 연장될 수도 있다.

일부 실시예에서, 본체(240)는 스토퍼(40)에 대해 원하는 정도의 탄성 컴플라이언스(resilient compliance)를 제공한다. 예를 들어, 본체(240)는 스토퍼(40)가 배럴(20)에 삽입될 때 압축되어 스토퍼(40)는 배럴(20)과 확실하게 계합할 수 있다. 본체(240)에 적합한 재료는 이하에서 추가로 설명한다.

다양한 예에서, 본체(240)에 제공된 배리어(242)는 배리어(242)를 통해 본체(240)로부터(또는 본체로) 물질의 이동을 방지하고, 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 활주 및/또는 정지 마찰을 감소시키고, 및/또는 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 밀봉을 강화시키도록 구성된다. 이러한 특징은 예시적인 의미로 언급한 것이며, 배타적으로 열거하기 위한 것이 아니다. 배리어(242)는 단일 층일 수도 있고, 복수 층일 수도 있다. 배리어(242)는 서로 고유한 특성을 갖는 복수 층으로 구성될 수 있고, 및/또는 배리어는 층과 층(from layer-to-layer)에서 보다 균질한 성질을 갖는 보다 균질한 구조물을 형성하도록 융합되거나 다른 방식으로 결합되는, 유사한 성질을 갖는 복수 층을 포함할 수 있다. 배리어(242)는 또한 배리어(242)의 하나 이상의 층으로서 역할을 하는 복합 재료(예를 들어, 매트릭스 필름 재료 및 필러)를 포함할 수 있다. 배리어(242)에 적합한 재료는 이하에서 추가로 설명한다.

도 3 및 도 4의 각각의 구성에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)는 짧은 원통형 형상을 가지며, 선단면(246)은 스토퍼(40)의 원추형 단부에 의해 규정된다. 도시된 바와 같이, 원추형 단부는 종축(X)으로부터 멀리 돌출하여 둔각을 규정할 수 있다. 작동 기구(50)가 나사형 체결 장치를 사용하여 스토퍼(40)에 결합되는 예에서, 스토퍼(40)는 암나사산을 갖는 후미면(248)에 축방향 리세스(250)를 포함할 수 있다.

도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)은 원주 방향으로 연장되는 하나 이상의 환형 리브(300)와 같이 매크로 리브로서도 설명되는 하나 이상의 리브(300) 및/또는 원주 방향으로 연장되는 하나 이상의 환형 홈(310)과 같이 매크로 홈으로서도 설명되는 하나 이상의 홈(310)을 규정할 수 있다. 동작 시, 리브(300) 중 하나 이상은 활주 접촉하는 배럴(20)의 내면(124)(도 1 및 도 2)과 계합하도록 구성된다. 스토퍼(40)는 허용 가능하게 낮은 브레이크 해제력, 낮은 평균 활주력 및 낮은 활주력 변동 중 적어도 하나를 유지하면서 높은 레벨의 공기 및 액체 불투과성으로 용기 폐쇄 완전성을 달성하도록 구성될 수 있다.

리브(300)는 임의의 수의 구성으로 구성될 수 있다. 예를 들어, 최원위(distalmost) 또는 선두 리브만이 밀봉 표면을 가질 수 있다. 이렇게 형성된 시일의 품질은 당업자에게 친숙한 임의의 수의 방법(예를 들어 헬륨 누출 테스트)에 의해 평가될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 일부 실시예에서, 복수의 리브(300)는 밀봉 표면을 가질 수 있다. 하나 이상의 실시예에서, 밀봉 표면을 갖는 모든 리브(300)는 미리 규정된 동일 외경(예를 들어, 스토퍼(40)가 비압축 상태에서 각각의 리브의 정점으로부터 측정됨)을 가질 수 있다. 다른 실시예에서, 밀봉 표면을 갖는 각각의 리브(300)는 그 자신의 미리 규정된 외경을 가질 수 있다. 예를 들어, 원위 또는 선단 리브는 미리 규정된 외경을 가질 수 있고 근위 또는 후단 리브는 원위 또는 선단 리브의 미리 규정된 외경의 약 75% 내지 약 99.9%인 미리 규정된 외경을 가질 수 있다. 예를 들어, 본 개시의 사상 및 범위를 벗어나지 않으면서 밀봉 표면을 갖는 3개의 리브를 갖는 것과 같은 다른 유형의 리브 배치가 고려된다.

도 3 및 도 4에는 3개의 리브(300)가 도시되어 있지만, 임의 개수(예를 들어, 1개, 2개, 4개, 10개 등)의 리브가 고려될 수 있다. 도시된 바와 같이, 리브(300)는 배럴(20)의 내면(124)과 활주 접촉하도록 구성된 밀봉 표면(320A)(활주 접촉부(320A)로도 설명)을 갖는 선두 리브(300A)를 포함한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 리브(300) 중 하나 이상은 선택적으로, 밀봉 표면(예를 들어, 밀봉 표면(320A))이 다소 편평해질 수 있는 편평한 프로파일(예를 들어, 선두 리브(300A))을 갖고, 스토퍼(40)의 외측(244) 길이의 1 내지 25%의 폭을 갖는다. 도 4에 도시된 바와 같이, 리브(300) 중 하나 이상(예를 들어, 선두 리브(300A))은 선택적으로, 외측으로 볼록한 형상을 가지며, 여기서 밀봉 표면(예를 들어 밀봉 표면(320A))은 상대적으로 더 좁은 프로파일을 갖는다. 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 리브(300)는 또한 중간 리브(300B) 및 후미 리브(300C)를 포함한다. 도시된 바와 같이, 중간 리브(300B)와 후미 리브(300C)는 선택적으로, 단면에서 볼 수 있듯이 외측으로 볼록한 형상을 갖는다. 중간 리브(300B)와 후미 리브(300C) 각각은 선택적으로, 배럴(20)의 내면(124)과 활주 접촉하도록 구성된 밀봉 표면(320B, 320C)을 각각 갖는다. 하나 이상의 리브(300)가 바깥쪽으로 볼록한 형상을 갖는 경우, 대응하는 밀봉 표면은 스토퍼(40)의 종축(X)을 따라 측정했을 때 상대적으로 작은 폭을 가질 수 있다. 구성에 따라, 각각의 밀봉 표면(320B, 320C)(활주 접촉부(320B, 320C)로도 설명됨)은 스토퍼(40)의 외측(244) 길이의 0%보다 크고 최대 15%인 폭을 가질 수 있다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)은 주름(362) 및 스크래치(364)와 같은 하나 이상의 결함(900)을 포함할 수 있다(잔해(debris) 형태의 결함(900)의 예는 도 16a와 관련하여 발견되고 설명될 수 있다). 주름(362) 및/또는 스크래치(364)와 같은 다양한 결함(900)은 종방향, 원주방향, 또는 둘 다(예를 들어, 나선형)로 배향될 수 있다. 결함(900)은 비교적 선형이거나 곡선이거나 둘 다일 수 있다. 결함은 스토퍼(40) 상의 임의의 위치에 위치할 수 있지만 특히 리브(300) 및 관련 밀봉 표면(320)뿐만 아니라 이후에 설명되는 것과 같은 하나 이상의 마이크로 특징(400) 상에 또는 이들 특징을 따라 널리 퍼질 수 있다. 이들 결함은 스토퍼(40)가 처음 형성될 때(예를 들어, 배리어(242)가 본체(240)에 부착될 때) 또는 스토퍼(40)를 배럴(20)에 설치하는 과정을 포함하여 제조 공정의 어느 시점에서나 발생할 수 있다. 예를 들어, 주름(362)은 스토퍼가 직경방향으로 압축되는 경우 형성될 수 있다. 그리고, 스크래치(364)는 예를 들어 조립 공정 동안 사용되는 배럴(20) 또는 다른 관형 부재에 대해 스토퍼(40)가 활주되는 경우 형성될 수 있다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)은, 주름(362) 및 스크래치(364)와 같은 하나 이상의 결함(900)을 포함할 수 있을 것이다(파편의 형태인 결함의 예(900)는 도 16a와 관련하여 확인할 수 있고 도 16a와 관련하여 설명될 수 있다). 주름(362) 및/또는 스크래치(364)와 같은 다양한 결함(900)은, 종방향, 둘레방향, 또는 양자 모두로(예를 들어, 나선형으로) 배향될 수 있을 것이다. 결함(900)은 비교적 선형적이거나, 곡선형이거나, 또는 양자 모두일 수 있을 것이다. 상기 결함은 스토퍼(40) 상의 임의의 위치에 위치할 수 있지만, 특히 리브(300) 및 관련 시일 표면(320) 상에 뿐만 아니라 후속적으로 설명된 것과 같은 하나 이상의 마이크로 특징(400) 상에 또는 하나 이상의 마이크로 특징을 따라 널리 퍼져있을 수 있을 것이다. 이러한 결함은, 스토퍼(40)가 처음 형성되는 시점(예를 들어, 배리어(242)가 본체(240)에 부착되는 시점) 또는 스토퍼(40)를 배럴(20) 내로 설치하는 프로세스 도중을 비롯한, 제조 프로세스의 임의의 시점에 형성될 수 있다. 예를 들어, 주름(362)은, 스토퍼가 직경방향으로 압축될 때 형성될 수 있을 것이다. 그리고, 스크래치(364)는, 예를 들어 조립 프로세스 도중에 이용되는 배럴(20) 또는 또 다른 관형 부재에 대해 스토퍼(40)가 미끄러질 때, 형성될 수 있을 것이다.

마이크로 특징 개념

도 3 및 도 4에 지정된 바와 같이, 스토퍼(40)는 선두 리브(300A)의 활주 접촉부(320A)와 같은, 하나 이상의 리브(300)에 위치된 하나 이상의 마이크로 특징(400)을 포함한다. 일부 예에서, 하나 이상의 마이크로 특징(400)은 하나 이상의 마이크로 홈 및/또는 마이크로 리브를 포함한다. 일부 예에서, 마이크로 특징(400)은 폭 및 깊이를 가지며, 여기서 깊이는 마이크로 리브의 경우 돌출량이고 마이크로 홈의 경우 리세스의 양이다. 일부 실시예에서, 폭과 깊이 중 하나 또는 둘 모두는 예를 들어 다양한 치수가 고려될 수 있지만, 200 μm 이하, 100 μm 이하, 50 μm 이하, 10 μm 이하, 또는 5 μm 이하이다. 전술한 "보다 크지 않은(이하)" 범위 각각은 "0"보다 큰 값을 포함한다는 점에 유의해야 한다.

도 5는 스토퍼(40)의 외측(244)을 따라(예를 들어, 리브(300) 중 하나, 예컨대 제1 리브(300A)에서) 스토퍼(40)의 하나 이상의 부분의 확대 단면도를 나타낸다. 도 5는 제1 리브(300A)를 도시하며, 제1 리브(300A)와 관련하여 설명된 동일한 개념이 임의의 리브(300)에 적용될 수 있다. 도 6 및 도 7은 도 5 상에 표시된 영역 "A"에 선택적으로 포함된 다양한 마이크로 특징을 나타낸다. 상기 마이크로 특징은 배리어(242) 및/또는 본체(240)에 의해 형성될 수 있다.

전술한 내용을 염두에 두고, 도 5는 일부 실시예에 따라, 배럴(20)과 함께 (예컨대, 스토퍼(40)의 외측(244)이 배럴(20)의 내면(124)과 계합하는 위치에서) 스토퍼(40)의 본체(240) 및 배리어(242)의 단면을 도시한다. 도시된 바와 같이, 배리어(242)는, 선택적으로, 복수의 층을 포함하거나, 제1 재료의 제1 층(402) 및 제2 재료의 제2 층(404)을 포함하는 다층 배리어이다. 배리어(242)는 1 μm 내지 200 μm와 같이 다양한 두께 중 임의의 두께를 가질 수 있다.

도시된 바와 같이, 제1 층(402)은 (존재한다면) 제2 층(404) 아래에 위치될 수 있다. 대체로 두 개의 층이 예시되어 있지만, 단일 층을 비롯하여 임의 개수의 층이 고려된다는 것을 이해하여야 한다. 도시된 바와 같이, 제1 층(402)은 스토퍼(40)의 본체(240)를 향하는 내면(410) 및 제2 층(404)을 향하는 외면(412)을 갖는다. 다시, 제2 층(404)은 제1 층(402)을 향하는 내면(420) 및 본체(240)로부터 멀어지는 외면(422)을 포함한다. 다양한 예에서, 제1 층(402)의 내면(410)은 본체(240)에 결합(예를 들어, 접합, 접착, 체결 또는 다른 방식으로 결합)된다. 그리고, 다시, 제2 층(404)의 내면(420)은 제1 층(402)에 결합(예를 들어, 접합, 접착, 체결 또는 다른 방식으로 결합)된다. 일부 실시예에서, 제1 층(402)은 "내층"으로 지칭될 수 있고 제2 층(404)은 배리어(242)의 "외층"으로 지칭될 수 있지만, 제1 층(402) 및/또는 제2 층(404) 중 하나는 배리어(242)의 하나 이상의 다른 층(들) 사이에 위치된 중간층 또는 매립층일 수 있다.

다양한 예에서, 복수의 층 중 하나(예를 들어, 제1 층(402))는 복수의 층 중 다른 하나(예를 들어, 제2 층(404))의 제2 재료보다 에너지원에 의해 더 활성화가능한 제1 재료를 포함할 수 있다. 특히, 에너지원에 의해 다른 층보다 더 활성화가능한 하나의 층의 이러한 특징은 다양한 위치에서 배리어(242)에 다양한 마이크로 특징(400)을 우선적으로 형성하도록 활용될 수 있다.

별도로 설명된 것을 포함하여 배리어(242)에 대해 다양한 재료가 고려된다. 배리어(242)(예를 들어, 제1 재료 및/또는 제2 재료)는 플루오로중합체(예를 들어, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 또는 확장 PTFE(ePTFE))를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 제1 층(402)은 미세다공성이고 제1 다공성을 규정하고, 제2 층(404)은 제1 층보다 낮은 다공성을 갖고, 선택적으로 제2 층(404)은 제1 층(402)보다 더 높은 용융 온도를 특징으로 한다. 원한다면, 제2 층(404)은 제1 층(402)보다 더 높은 치수 안정성을 특징으로 할 수 있다. 제1 층(402)의 제1 재료와 제2 층(404)의 제2 재료 중 적어도 하나는 열가소성 재료를 포함할 수 있다. 원한다면, 제1 층(402)의 제1 재료는 제1 재료의 빛 에너지 및/또는 무선 주파수 에너지의 흡수를 증가시키도록 구성된 필러를 포함할 수 있다. 그리고, 필러는 예를 들어, FEP(fluorinated ethylene propylene) 및 ETFE(ethylene tetrafluoroethylene) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

도 6 및 도 7은 마이크로 특징의 예를 도시한다. 도 6은 마이크로 리브(400A)의 형태인 가능한 마이크로 특징(400)의 예를 도시하며, 도 7은 마이크로 홈(400B) 또는 마이크로 보이드(micro void)(400B)의 형태인 가능한 마이크로 특징을 도시한다. 도 6 및 도 7은 각각 마이크로 특징의 예를 도시하고 있는데, 임의의 개수의 마이크로 특징이 존재할 수도 있고 스토퍼(40)를 위한 마이크로 특징들의 임의의 조합이 고려된다는 점을 이해해야 한다. 이러한 마이크로 특징을 형성하는 예시적인 방법은, 이러한 특징을 형성하기 위해 배리어(242)에 에너지 소스를 안내하는 것, 이러한 특징을 사전 성형하거나 또는 성형하는 것, 또는 다양한 다른 형성 방법 중 임의의 것을 포함한다.

특정 마이크로 특징(400)에서 또는 그 근처에서 다양한 마이크로 특징(예를 들어, 마이크로 보이드, 마이크로 홈 또는 마이크로 리브)를 형성한 후 일반적으로 배리어(242), 더 구체적으로 제1 층(402) 및/또는 제2 층(404)은, 마이크로 보이드 또는 마이크로 홈의 경우 증대된 컴플라이언스; 마이크로 보이드 또는 마이크로 홈의 경우 감소된 압축 저항; 마이크로 리브의 경우 증대된 압축 저항, 마이크로 보이드 또는 마이크로 홈의 경우 감소된 두께; 마이크로 리브의 경우 증대된 두께, 또는 마이크로 보이드 또는 마이크로 홈의 경우 감소된 인장 강도 중 하나 이상과 같이, 배리어(242)의 주변 부분과 상대적으로 상이한 물성을 나타낼 수 있다. 이러한 특성은, (예를 들어, 매크로 리브의 증대된 밀봉력과 감소된 활주 저항 사이의 관계를 최적화하기 위해) 리브(300)의 효과적인 밀봉 표면적을 감소시키고, (예를 들어, 주입기 장치(10)의 내용물의 오염 및/또는 밀봉 파손을 방지하기 위해 배리어가 찢어지거나 실패하는 더 바람직한 영역을 미리 선택하기 위해) 배리어(242)에 대한 우선적인 파손 라인을 생성하고, 배럴(20)과 스토퍼(40) 사이의 하나 이상의 보이드 또는 결함을 채우거나 성능 및 신뢰성에 있어서의 다른 이점을 채우는데 유리할 수 있다.

앞서 언급했지만, 의심의 여지를 피하기 위해 다양한 다층 배리어 구성은 3개 이상의 층(예를 들어 총 5개)을 포함할 수 있다. 제1 층(402) 및/또는 제2 층(404)은, 앞서의 예와 관련하여 설명된 바와 같이, 이들 층 내의 임의의 위치에 있을 수 있다. 그리고 다양한 구현에는 더 많거나 더 적은 층이 있을 수 있다. 제1 층(402)은 예를 들어 최내층 또는 매립층일 수 있다. 제2 층(404)은 예를 들어 최외층 또는 매립층일 수 있다. 그리고, 제1 층과 제2 층(402, 404)은 접촉할 수도 있고, 하나 이상의 다른 층에 의해 분리될 수도 있다. 그리고, 다양한 실시예에 부합하게 단일 층이 존재할 수도 있다.

전술한 다양한 마이크로 특징(400)은 임의의 다양한 치수를 가질 수 있다. 일부 예에서, 마이크로 홈 중 하나 이상은 0.25 μm 내지 50 μm, 선택적으로 0.25 μm 내지 0.5 μm의 깊이 및 0.25 μm 내지 50 μm, 선택적으로 0.25 μm 내지 0.5 μm의 폭을 가지며, 및/또는 마이크로 리브 중 하나 이상은 0.25 μm 내지 50 μm, 선택적으로 0.25 μm 내지 0.5 μm의 높이 및 0.25 μm 내지 50 μm, 선택적으로 0.25 μm 내지 0.5 μm의 폭을 갖는다. 후술하는 바와 같이, 마이크로 홈 및/또는 마이크로 리브는 임의의 다양한 구성일 수 있으며, 예를 들어 원주 방향, 나선형 방향, 또는 심지어 종방향으로 연장될 수 있다.

스토퍼 어셈블리 및 결합 기구

스토퍼를 조립하는 다양한 방식, 특히 배리어(242)와 본체(240)를 함께 배치하는 방식이 고려된다.

예를 들어, 도 8은 몰드(3002) 및 맨드릴(3004)과 같은 성형 장치를 포함하는 툴링(3000)의 사용을 포함한다. 몰드(3002)는 내부 벽(3008)에 의해 규정된 공동(3006)을 포함한다. 공동(3006)은 원하는 형상 및 크기를 갖는 스토퍼(40)를 생성하는 형상 및 크기를 갖고 있다. 도시된 바와 같이, 툴링(3000)은 배리어 재료의 프리폼(2000a)과 본체 재료의 프리폼(2000b)으로부터 스토퍼(40)를 제조하도록 구성되고, 프리폼(2000a, 2000b) 각각은 시트 형태이거나 시작하기에 비교적 평면의 형태이다.

프리폼(2000a, 2000b)은 선택적으로 정렬된 다음 도시된 바와 같이 몰드(3002)의 공동(3006) 내로 (예를 들어, 동시에) 강제된다. 이에 의해 본체(240)는 프리폼(2000b)으로부터 형성되고, 도시된 바와 같이 스토퍼(40)를 형성하기 위해 프리폼(2000a)으로부터 배리어(242)가 공동 성형되거나 적층된다. 도시된 실시예에서, 맨드릴(304)은 프리폼(2000a, 2000b)을 몰드(3002) 내로 강제하도록 작동된다. 일부 실시예에서, 맨드릴(3004)은 성형 동안 본체(240)에 구조를 형성하도록 구성될 수 있다(예를 들어, 암나사산이 있는 후미면(248)의 축방향 리세스(250)).

사출 성형, 압축 성형, 진공 프레스 성형, 공동 성형 또는 다른 공지된 또는 다른 종래의 공정 및 설비가 또한 프리폼(2000a, 2000b)을 사용하여 스토퍼(40)를 제조하는데 사용될 수 있다.

다른 예로서, 도 9는 원통 형태의 배리어(242) 재료로 이루어진 프리폼(2000c)이 시트 형태의 본체(240) 재료로 이루어진 프리폼(2000b)과 결합되어 스토퍼(40)를 조립할 수 있는 방법의 일부 실시예를 예시한다. 도 9에 도시된 바와 같이, 공정은 몰드(3002) 및 맨드릴(3004)과 같은 성형 장치를 포함하는 툴링(3000)의 사용을 포함한다. 몰드(3002)는 내부 벽(3008)에 의해 규정된 공동(3006)을 포함한다. 공동(3006)은 스토퍼(40)를 생성하는 형상 및 크기를 갖고 있다.

툴링(3000)은 배리어 재료의 프리폼(2000c)과, 프리폼(2000b)을 형성하는 질량체 재료로부터 스토퍼(40)를 제조하도록 구성된다. 도시된 바와 같이, 배리어 재료의 프리폼(2000c)은 몰드(3002)의 공동(3006) 내에 위치된다. 이어서 본체 재료의 프리폼(2000b)은 배리어 재료의 프리폼(2000c) 내의 내부 보이드 영역에 적용된다. 도시된 바와 같이, 맨드릴(3004)은 고체 또는 반고체 형태일 수 있는 프리폼(2000b)을 프리폼(2000c)의 개방된 근위 단부를 통해 프리폼(2000c) 내로 강제하도록 작동된다. 맨드릴(3004)은 프리폼(2000b)에 구조를 형성하도록 구성될 수 있다(예를 들어, 암나사산이 있는 후미면(248)의 축방향 리세스(250)).

맨드릴(3004)이 선택적으로 활용되지만, 다른 실시예에서 본체 재료는 압력 인가에 의한 유동성 또는 다른 유체 형태와 같은 다른 접근법에 의해 배리어 재료의 프리폼(2000c)에 퇴적된다. 사출 성형, 압축 성형, 진공 프레스 성형, 공동 성형 또는 다른 공지된 또는 다른 종래의 공정 및 설비가 프리폼(2000c)을 사용하여 스토퍼(40)를 제조하는데 사용될 수 있다.

구성요소 결합을 향상시키거나 달성하기 위해 전술한 내용에 대해 다양한 수정이 적용될 수 있다. 일부 예에서, 배리어(242)는 하나 이상의 마이크로 특징(400)을 형성하는 동안 또는 에너지원으로 제1 층(402)을 활성화함으로써 본체(240)에 접합(또는 추가 접합)될 수 있다. 접착제, 엘라스토머 접합 재료, 표면 처리 및 기타 관행의 추가 사용도 고려된다.

스토퍼 삽입 개념

도 10 내지 도 14는 본 명세서에 기술된 치료 물질과 같이 다양한 내용물 중 임의의 것으로 미리 채워지거나 나중에 채워질 수 있는 배럴(20)에 스토퍼(40)를 삽입하는 데 삽입 장치(4260)를 사용할 수 있는 일련의 단계를 도식적으로 나타낸다. 도시된 바와 같이, 삽입 장치(4260)는 삽입 핀(4262) 및 벤트 튜브(vent tube)(4264)를 포함한다. 벤트 튜브(4264)는 배럴(20)의 내경보다 작은 외경과 스토퍼(40)를 수용할 만큼 충분히 큰 내경을 갖는 내면(4267)을 갖춘 세장형 관형 부재(4266)를 포함한다. 아마도 도 11에 가장 잘 도시된 바와 같이, 벤트 튜브(4264)의 관형 부재(4266)는 근위 단부를 통해 배럴(20) 내로 삽입된다. 일부 실시예에서, 벤트 튜브(4264)의 원위 단부(4268)는 조립된 주입기 장치(10, 100)에서 배럴(20) 내의 스토퍼(40)의 원하는 위치에 대응하는 위치에 위치된다. 예를 들어, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 관형 부재(4266)가 배럴(20) 내에 위치할 때 벤트 튜브(4264)의 원위 단부(4268)는 치료 물질과 같은 주사기 내용물의 표면에 인접하여 위치된다.

삽입 핀(4262)은 벤트 튜브(4264)의 내경보다 작은 외경과 원위 단부(4263)를 갖는다. 실시예에서, 벤트 튜브(4264)의 내경은 스토퍼(40)의 외경보다 작다. 벤트 튜브(4264)의 근위 단부(4270)는 테이퍼진 내부 가이드 표면(4272)을 갖고 있다. 아마도 도 11 및 도 12에 가장 잘 도시된 바와 같이, 벤트 튜브(4264)가 배럴(20) 내에 위치하는 동안, 삽입 핀(4262)은 작동되거나 이동되어 원위 단부(4263)를 스토퍼(40)와 계합시키고, 스토퍼(40)를 벤트 튜브(4264)의 근위 단부(4270) 내로 그리고 관형 부재(4266)를 통해 벤트 튜브(4264)의 원위 단부(4268)로 강제하거나 그렇지 않으면 구동 또는 이동시킨다. 삽입 핀(4262)의 이러한 작용에 의해, (예를 들어, 스토퍼(40)가 테이퍼진 가이드 표면(4272)을 통해 이동됨에 따라) 스토퍼(40)는 직경방향으로 압축되고, 조립된 주입기 장치(10, 100)의 배럴 내의 스토퍼의 원하는 위치(예를 들어, 배럴(20) 내 치료 물질에 인접한 곳)인 배럴(20)의 길이를 따른 위치에 위치된다.

아마도 도 13에 가장 잘 도시된 바와 같이, 삽입 핀(4262)과 배럴(20)의 상대 위치는 고정된 채로 유지되는 반면, 벤트 튜브(4264)는 배럴(20)의 근위 단부로부터 후퇴된다. 삽입 핀(4262)은 벤트 튜브(4264) 제거 중에 배럴(20) 내의 원하는 위치에 스토퍼(40)를 유지하여, 스토퍼(40)를 벤트 튜브(4264)의 원위 단부(4268)로부터 밀어낸다. 벤트 튜브(4264)를 빠져나간 후, 스토퍼(40)는 배럴(20)과 계합하도록 직경방향으로 확장된다(예를 들어, 스토퍼(40)의 외측(244)은 하나 이상의 시일 계면(702)에서 배럴(20)의 내면(124)과 계합한다). 이로써 스토퍼(40)는 배럴(20) 내의 원하는 위치에 위치된다. 삽입 핀(4262) 및 벤트 튜브(4264)는 예를 들어 도 34e에 도시된 바와 같이 배럴(20)로부터 인출될 수 있다.

도 10 내지 도 14와 관련하여 위에서 설명한 스토퍼 삽입 공정은 후속하여 설명하는 바와 같이 주름이나 표면 결함을 생성할 수 있다. 특히, 불규칙한 모양의 세장형 팽윤부(bulge)가 홈(310) 및/또는 리브(300)에 인접하여 발생할 수 있다. 본 명세서에서 주름 또는 표면 결함(900)(도 3, 도 16a, 도 18a 및 도 19a)으로 지칭될 수 있는 이러한 불규칙한 모양의 세장형 구조는 스토퍼(40)가 배럴(20)에 삽입된 후 시일 계면(702)(도 15b)에서 일반적으로 종축(X)에 평행한, 수직한, 또는 임의 각도의 방향으로 실질적인 구성요소를 가질 수 있다. 주름이나 표면 결함(900)(도 3)은 시일 계면의 밀봉 특성을 손상시키거나 부정적인 영향을 미칠 수 있다. 예를 들어, 이들은 바람직하지 않은 가스 및/또는 액체의 스토퍼(40)를 통한 유입 또는 유출을 허용하는 채널로서 기능할 수 있다.

앞서 언급한 바와 같이, 배럴(20) 내의 스토퍼(40)의 수정은 그러한 주름 또는 표면 결함(900)(도 3)의 감소를 촉진할 수 있고, 및/또는 일반적으로 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 밀봉을 향상시킬 수 있다.

수정 시스템 및 방법 개념

도 15a는 실시예에 따라 스토퍼(14)를 포함하는 주입기 장치(10)를 제조하는 데에 사용될 수 있는 수정 시스템(5230)의 도식적 예시이다. 수정 시스템(5230)은, 스토퍼(40) 및/또는 배럴(20)의 처리를 수행하기 위해 (예를 들어, 스토퍼(40)가 배럴(20) 내로 삽입되기 이전에, 스토퍼(40)가 배럴(20) 내로 삽입되는 도중에, 및/또는 스토퍼(40)가 배럴(20) 내로 삽입된 이후에) 사용될 수 있다. 다양한 예는, 관형 부재(5300)(예를 들어, 배럴(20) 또는 벤트 튜브(4264)) 내에 주입기 장치(10, 100)의 스토퍼(40)를 배치하는 것을 포함하는, 주입기 장치(10, 100)를 제조하는 방법에 관한 것이며, 이에 따르면 스토퍼(40)의 외측(244)이 내면(5310)(예를 들어, 배럴(20)의 내면(124) 또는 벤트 튜브(4264)의 내면(4267))과 계합하게 된다. 스토퍼(40)는, 벤트 튜브(4264)의 사용을 통하는 것을 비롯하여, 임의의 다양한 방식으로, 배럴(20)의 내면(124)과 계합할 수 있을 것이다. 그리고, 스토퍼(40)는, 도 10 내지 도 14와 관련하여 설명되는 것을 비롯하여, 임의의 다양한 방식으로, 벤트 튜브(4267)의 내면(4267)과 계합할 수 있을 것이다.

다양한 예에서, 스토퍼(40)의 외측(244)을 수정하는 것은, 스토퍼(40)와 관형 부재(5300)의 내면(5310) 사이의 상대 운동을 유발하는 것을 포함하며, 상기 상대 운동은, 회전 운동 및 선형 운동 중 하나 또는 양자 모두를 포함한다. 이러한 회전 운동은, 5도 이상, 10도 이상, 20도 이상, 40도 이상, 100도 이상, 180도 이상, 360도 이상, 360도 초과, 720도 이상, 또는 이상의 값들 사이의 임의의 다양한 값 또는 범위와 같은 임의의 다양한 회전 각도를 통해 이루어질 수 있다. 상기 상대 운동은 본질적으로 동요형(oscillatory)(예를 들어, 진동형)일 수도 있고 또는 연속적이거나 불연속적일 수 있다. 상기 동요형 상대 운동은, 0.5 Hz 이상, 1 Hz 이상, 5 Hz 이상, 10 Hz 이상, 20 Hz 이상, 50 Hz 이상, 100 Hz 이상, 또는 이상의 값들 사이의 임의의 다양한 값 또는 범위와 같은 임의의 원하는 주파수로 발생할 수 있을 것이다. 수정 시스템(5230)은 이러한 상대 운동을 부여하도록 구성될 수 있을 것이다. 상기 상대 운동은, 스토퍼와 관형 부재(예를 들어, 주사기 배럴(20) 또는 벤트 튜브) 사이의 계면에서, 국부적인 가열을 유발할 수도 있고, 또는 보다 일반적인 표현으로는 에너지를 생성할 수 있을 것이다.

다양한 실시예에서, 배럴(20)과 스토퍼(40) 사이의 상대 운동을 제공하는 수정 시스템(5230)은, 스토퍼(40)의 밀봉 성능(sealing capability)과 같은, 주입기 장치(10)의 특성을 향상시킨다. 이러한 향상된 특성은, 예를 들어, 궁극적으로 배럴(20)의 내면(124)과 접촉하는 스토퍼(40)의 외측(244)을 연마하거나 또는 달리 평활화함으로써, 및/또는 스토퍼의 외측(244)의 재료를 배럴(20)의 내면(124) 상으로 이송 및 성막함으로써(예를 들어, 내부의 스토퍼(40)가 수정되는 관형 부재(5300)가 배럴(20)인 경우) 생성될 수 있을 것이다. 다양한 실시예에서, 수정 시스템(5230)에 의해 제공되는 처리는, 주입기 장치(10)가 충전된 이후에(예를 들어, 앞서 설명한 바와 같은 내용물로 충전된 이후에) 수행될 수 있다.

위에서 언급한 바와 같이, 수정 시스템(5230)은, 스토퍼(20)의 배럴 내 처리를 위해 사용될 수 있으며, 및/또는 수정 시스템(5230)은, 도 10 내지 도 14와 관련하여 설명되는 바와 같이, 스토퍼(40)가 배럴(20) 내로 삽입되는 도중에 스토퍼(40)가 벤트 튜브(4264) 내부에 있는 동안, 스토퍼(40)의 처리를 수행하는 데에 사용될 수 있다. 이러한 실시예에 의해, 스토퍼(40)의 표면 거칠기는, 벤트 튜브(4264)에 대한 스토퍼(40)의 상대 운동에 의해 감소된다.

도시한 바와 같이, 수정 시스템(5230)은, 스토퍼(40)의 외측 및/또는 관형 부재(5300)의 내면(5310)을 처리하도록 작동할 수 있는 구동 모듈(5234) 및 제어 모듈(5236)을 포함한다. 예시된 실시예에서 스토퍼(40)에 결합된 샤프트(5237)(이는, 작동 기구(50)일 수 있음(도 1 및 도 2 참고))를 포함하는 구동 모듈(5234)은, 제어 모듈(5236)에 의해 제어되며, 관형 부재(5300)와 스토퍼(40) 사이의 상대 운동을 생성한다. 예를 들어, 구동 모듈(5234)은, 스토퍼(40)의 종방향 축(X)에 대체로 수직인 방향으로 (예를 들어, 샤프트(5237)를 회전시킴으로써) 관형 부재(5300)에 대한 스토퍼(40)의 회전(5240)을 유발할 수 있다(도 3 및 도 4 참고). 대안으로 또는 추가적으로, 구동 모듈(5234)은, 스토퍼(40)의 종방향 축(X)에 평행한 방향으로 (예를 들어, 샤프트(5237)를 관형 부재(5300)에 대해 이동시킴으로써) 관형 부재(5300)에 대한 스토퍼(40)의 선형 운동(5242)을 유발할 수 있다. 회전 운동(5240) 및/또는 선형 운동(5242)은 제1 방향 또는 반대되는 제2 방향에서의 운동일 수 있거나 또는 왕복 운동(reciprocal motion)일 수 있다. 다양한 실시예에서, 회전 운동(5240) 및/또는 선형 운동(5242)은 제1 방향 및 반대되는 제2 방향으로의 왕복 운동이며, 그리고 주기적일 수 있다.

대안으로 또는 추가적으로, 구동 모듈(5234)은, 스토퍼(40)의 종방향 축(X)에 대체로 수직인 방향으로 관형 부재(5300)를 회전시킴으로써, 스토퍼(40)에 대한 관형 부재(5300)의 회전(5244)을 유발할 수 있다. 대안으로 또는 추가적으로, 구동 모듈(234)은, 스토퍼(40)의 종방향 축(X)에 평행한 방향으로 관형 부재(5300)를 이동시킴으로써, 스토퍼(40)에 대한 관형 부재(5300)의 선형 운동(5246)을 유발할 수 있다. 예를 들어, 수정 시스템(5230)은, 관형 부재(5300)에 고정되고 관형 부재(5300)를 이동시키도록 구성되는 작동 조립체(5238)(예를 들어, 롤러, 스테이지 또는 다른 작동 가능한 부재)를 포함할 수 있을 것이다. 관형 부재(5300)의 회전(5244) 및/또는 선형 운동(5246)은 제1 방향 또는 반대되는 제2 방향의 운동일 수 있거나, 또는 왕복 운동/진동 운동일 수 있다. 다양한 실시예에서, 배럴(20)의 회전(5244) 및/또는 선형 운동(5246)은 제1 방향 및 반대되는 제2 방향으로의 왕복 운동이며, 주기적일 수 있다. 관형 부재(5300)와 스토퍼(40) 사이의 회전(5240, 5244) 및/또는 선형 운동(5242, 5246)은 진동 운동일 수 있다.

일부 실시예에서, 수정 시스템(5230)은, 스토퍼(40)에 대한 관형 부재(5300)의 상대 회전(5240 및/또는 5244) 및/또는 상대 선형 운동(5242 및/또는 5246)을 임의의 다양한 조합, 속도, 방향 및/또는 주파수로 생성할 수 있다. 일부 실시예에서, 수정 시스템(5230)에 의해 생성되는 상대 운동은, 선형 운동(5242 및/또는 5246)보다는 더 많은 양의 회전(5240 및/또는 5244)을 포함한다. 관형 부재(5300)의 내면(5310)이 이러한 상대 운동 도중에 스토퍼(40)의 외측(244)에 대해 이동하는 거리는, 선형 운동(5242 및/또는 5246)에 평행한 방향보다는 회전(5240 및/또는 5244)의 원주방향에서 더 클 수 있을 것이다. 일부 실시예에서, 회전(5240 및/또는 5244)은, 스토퍼 처리/수정 도중에 수정 시스템(5230)에 의해 생성되는 선형 운동(5242 및/또는 5246)보다 실질적으로 더 크다. 일부 실시예에서, 스토퍼(40)가 종방향 축(X)에 평행한 경로를 따라 (예를 들어, 왕복 운동 없이) 관형 부재(5300) 내로 구동되는 동안, 스토퍼(40)는 관형 부재(5300)에 대해 회전될 수 있다. 예를 들어, 스토퍼(40)는, 스토퍼(40)의 표면 및/또는 벤트 튜브(4264) 및/또는 배럴(20)의 내면을 수정하기 위해, 벤트 튜브(4264) 및/또는 배럴(20)에 종방향으로 삽입하는 도중에 회전될 수 있을 것이다.

이러한 표면 수정, 또는 관형 부재(5300)(선택적으로, 벤트 튜브(4264) 및/또는 배럴(20))에서의 처리는, 궁극적으로 배럴(20)과 계합하는 스토퍼(40)의 외측(244)의 거칠기를 감소시키는 데 도움을 줄 수 있을 것이다. 상기 거칠기는 둘레 방향으로 및/또는 종방향으로 감소될 수 있다. 일부 예에서, 표면 거칠기는 상대 운동의 방향에 수직한 방향으로 감소된다(예를 들어, 종방향 표면 거칠기는 회전(5240 및/또는 5244)의 경우에 감소될 수 있으며, 둘레방향 표면 거칠기는 선형 운동(5242 및/또는 5246)의 경우에 감소될 수 있을 것이다).

일부 실시예에서, 수정 시스템(5230)을 이용한 스토퍼(40)의 처리는, 수정 시스템(5230)을 이용한 스토퍼(40)의 처리 도중에 변경된 온도(예를 들어, 상승된 온도)가 고려됨에도 불구하고, 주위 온도에서(예를 들어, 외부 소스에 의한 가열 또는 냉각 없이) 수행된다. 수정 시스템(5230)에 의해 부여되는 관형 부재(5300)와 스토퍼(40) 사이의 상대 운동은, 관형 부재(5300) 및/또는 스토퍼(40)의 가열을 유발할 수 있으며, 이러한 가열은 전술한 바와 같이 스토퍼(40)의 외측(244)의 거칠기를 감소시킬 수 있을 것이다.

제어 모듈(5236)은 시스템(1000)의 작동을 제어하도록 구성된다. 다양한 예에서, 제어 모듈(5236)은, 전원(도시하지 않음), 하나 이상의 마이크로프로세서, 하나 이상의 사용자 입력 장치(예를 들어, 키보드), 하나 이상의 디스플레이 장치(예를 들어, 모니터), 및 시스템(5230)의 작동을 제어하기 위한 다른 특징부를 포함할 수 있을 것이다.

상기 전원은 제어 모듈(5236)의 작동 구성요소 및/또는 시스템(5230)의 다른 구성요소에 전력을 제공할 수 있으며, 제어 모듈(5236) 및/또는 시스템(5230)의 요구되는 성능 및/또는 수명 요건을 제공하기에 적합한 임의의 유형의 전원일 수 있다. 다양한 실시예에서, 상기 전원은 (예를 들어, 외부 에너지 소스를 사용하여) 재충전 가능할 수 있는 하나 이상의 배터리를 포함할 수 있을 것이다.

제어 모듈(5236)은, 하나 이상의 필드 프로그래밍 가능한 게이트 어레이(FPGA), 하나 이상의 프로그래밍 가능한 논리 장치(PLD), 하나 이상의 복합 PLD(CPLD), 하나 이상의 맞춤형 애플리케이션 특정 집적 회로(ASIC), 하나 이상의 전용 프로세서(예를 들어, 마이크로프로세서), 하나 이상의 중앙 처리 유닛(CPU), 소프트웨어, 하드웨어, 펌웨어, 또는 이들 구성요소 및/또는 다른 구성요소의 임의의 조합을 포함할 수 있을 것이다. 제어 모듈(5236)은 메모리에 저장된 컴퓨터 실행가능 명령을 실행하기 위해 메모리와 통신하도록 구성된 처리 유닛을 포함할 수 있다. 추가적으로, 또는 대안으로, 제어 모듈(5236)은 정보(예를 들어, 감지된 데이터)를 메모리에 저장하거나 및/또는 메모리로부터의 정보(예를 들어, 감지된 데이터)에 액세스하도록 구성될 수 있다.

일부 실시예에서, 상기 메모리는 휘발성 메모리 및/또는 비휘발성 메모리 형태인 컴퓨터 판독 가능한 매체를 포함하며, 제거 가능할 수도 있고, 제거 불가능할 수도 있고, 또는 제거 가능한 것과 제거 불가능한 것의 조합일 수도 있다. 상기 매체의 예로는, 랜덤 액세스 메모리(RAM), 읽기 전용 메모리(ROM), 전자적으로 소거 가능하며 프로그램 가능한 읽기 전용 메모리(EEPROM), 플래시 메모리, 광학 매체 또는 홀로그램 매체, 자기 카세트, 자기 테이프, 자기 디스크 저장장치 또는 다른 자기 저장 장치, 데이터 전송부, 및/또는 정보를 저장하기 위해 사용될 수 있고 예를 들어 양자 상태 메모리 및/또는 기타 등등과 같이 컴퓨팅 장치에 의해 액세스될 수 있는 임의의 다른 매체가 포함된다. 실시예에서, 상기 메모리는, 프로세서가, 본 명세서에 논의된 시스템 구성요소의 실시예의 양태를 구현하도록 하기 위한 및/또는 본 명세서에서 논의된 방법 및 절차의 실시예의 양태를 실행하도록 하기 위한, 컴퓨터 실행가능 명령을 저장한다.

상기 컴퓨터 실행가능 명령은, 예를 들어, 컴퓨터 코드, 디지털 신호 처리, 기계 사용 가능한 명령, 그리고, 예를 들어, 컴퓨팅 장치와 연관된 하나 이상의 프로세서에 의해 실행될 수 있는 프로그램 구성요소와 같은 것들을 포함할 수 있다. 상기 프로그램 구성요소는, 다양한 언어, 개발 키트, 프레임워크 및/또는 기타 등등을 비롯하여 임의의 개수의 상이한 프로그래밍 환경을 사용하여 프로그래밍될 수 있을 것이다. 본 명세서에서 고려되는 기능의 일부 또는 전부는, 또한 또는 대안으로, 하드웨어 및/또는 펌웨어로 구현될 수 있을 것이다.

일부 실시예에서, 구동 모듈(5234)은 제어 모듈(5236)에 의해 제어되며, 표면 수정 도중에 스토퍼 구성요소(예를 들어, 본체(240) 및/또는 배리어(242))와 관형 부재(5300) 사이의 상대 운동을 생성한다. 언급된 바와 같이, 구동 모듈(5234)은, 스토퍼 구성요소(예를 들어, 본체(240) 및/또는 배리어(242)) 및/또는 관형 부재(5300) 중 하나 이상의 회전을 유발할 수 있다. 그리고, 구동 모듈(5234)은, 추가적으로 또는 대안으로, 스토퍼 구성요소(예를 들어, 본체(240) 및/또는 배리어(242)) 및/또는 관형 부재(5300)의 축방향 이동을 발생시킬 수 있을 것이다. 구동 모듈(5234)은 구동 모터, 센서, 제어 회로, 구동 샤프트, 턴 테이블, 및/또는 원하는 상대 운동을 달성하기 위한 다양한 추가적 구성요소 또는 대안적 구성요소를 포함할 수 있다.

수정 시스템(5230)을 이용한 가공 도중에 생성되는 열은, 외측(244)에서의 고분자 이동을 촉진시키고, 주름, 스크래치, 파편, 또는, 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 계면에서 시일 결함의 가능성 및/또는 표면 거칠기에 기여할 수 있는 다른 원치 않는 표면 결함을 감소시키기 위해, (예컨대, 외측(244)에서) 스토퍼(40)의 재료의 온도를 충분하게 상승시킬 수 있다. 상기 상대 운동에 의해 유도되는 이러한 온도 상승은, 용융 온도 미만일 수도 있고, 용융 온도 초과일 수도 있고, 또는 다른 방식으로는 상대 운동에 의해 유발되는 기계적 계합/조작과 관련될 때, 표면 결함/거칠기가 요구되는 만큼 감소되도록 하는 바람직한 온도일 수 있을 것이다. 다양한 예에서, 스토퍼(40)와 관형 부재(5300) 사이의 상대 운동은 리브(300) 중 하나 이상의 국부적 가열을 초래한다.

비록 스토퍼(40)가 대체적으로 도시되어 있지만, 상기 수정은 외측(244) 전체가 아닌 리브(300)에만 또는 마이크로 리브(400)에만 단지 적용될 수도 있다. 실제로, 이러한 표면 수정은 단지 하나의 리브(300)에만 또는 심지어는 하나의 마이크로 리브(400)에만 적용될 수 있다. 수정의 수준 또는 정도는, 스토퍼(40)의 초기 기하학적 형상에 의해 영향을 받을 수 있을 것이다. 예를 들어, 배럴(20)과의 큰 억지 끼워 맞춤을 나타내는 리브(300)는 자연적으로 더 높은 수준의 마찰 및 에너지를 유발할 것이다. 일부 예에서, 제2 리브 또는 제3 리브(300)는, 표면 수정을 촉진하기 위해 이러한 방식으로 배럴(20)과 계합하도록 구성될 수 있을 것이다. 리딩 리브(leading rib)가 아닌 하나 이상의 중간 리브에서의 수정을 촉진시킴으로써, 원치 않는 입자 생성 및 배럴 내용물 내로의 성막의 문제를 방지하는 데 도움이 될 수 있다.

관형 부재(5300) 내에서의 스토퍼(40) 처리가, 상당한 양의 원치 않는 입자/오염물을 생성하지 않으면서, 외측(244)의 거칠기의 감소를 달성할 수 있다는 것이, 또한, 고려된다. 표면 수정의 일부로서 또는 달리 형성되는 미립자는 스토퍼(40)의 변형 재료 또는 용융 재료 내로 합쳐질 수도 있고 캡슐화(encapsulation)될 수도 있다.

또한, 수정 시스템(5230)을 사용하는 배럴 내 가공 도중에, 시일 성능 및/또는 활주 성능을 향상시키기 위해 배럴(20)의 표면 결함을 감소시킬 수 있다는 것이 고려된다. 예를 들어, 배럴(20)과 스토퍼(40) 사이의 상대 운동은, 스토퍼(40)의 외측(244)으로부터 배럴(20)의 내면(124)으로의 재료의 퍼짐 또는 이송을 유발할 수 있을 것이다. 이러한 재료의 이송은 (예를 들어, 마찰 용접부의 형태로) 시일 라인(seal line)을 생성할 수도 있고, 또는 스토퍼(40)를 이용하는 보다 신뢰성 있는 시일에 도움이 되도록 하기 위해 단순히 배럴(20) 내의 표면 불규칙부(예를 들어, 스크래치)를 채울 수 있다. 스토퍼(40)로부터 배럴(20)로의 이러한 재료 이송은, 배럴 표면(내면(124))에서의 불완전함의 영향을 감소시키는 데 도움이 되고 및/또는 시일 계면(702)이 동일한 재료 또는 유사한 재료를 포함하는 것인 시일 계면(702)의 구성을 생성하는 데 도움이 된다. 예를 들어, 배럴(20) 상의 이송된 재료와 스토퍼(40) 상의 배리어 재료(242)에 의해 형성되는 PTFE-PTFE 계면(또는 ePTFE-eTPFE 계면)는, 향상된 시일 성능 및/또는 활주 성능을 나타낼 수 있을 것이다. 시일 계면(702)를 위한 이러한 구성은 2개의 유사한 재료 사이의 표면 에너지에 기초하여 누출 가능성이 더 낮을 수 있다는 것이 고려된다.

본 개시의 다양한 양태는, 상대 운동 또는 상대 이동을 통해 스토퍼(40)를 수정하는 것을 비롯하여 주입기 장치(10, 100)를 제조하는 방법에 관한 것이다. 다양한 예에서, 스토퍼(40)를 수정하는 것은, 예컨대 스토퍼(40)의 일부분을 용융하거나 또는 달리 스토퍼(40)의 일부분의 고분자 이동을 유도하는 것에 의해, 스토퍼(40)의 외측(244)을 수정하는 것을 포함하며, 이는 궁극적으로 배럴(20)에 대한 스토퍼(40)의 시일 완전성을 향상시킬 수 있다. 이러한 시일 완전성은, 예컨대 스토퍼(40)의 외측의 표면 거칠기를 감소시키는 것, 스토퍼(40)의 외측(244)에서의 주름을 감소시키는 것, 스토퍼(40)의 외측(244)과 배럴(20)의 내면(124) 사이에 시일 라인을 형성하는 것, 및/또는 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 하나 이상의 누출 경로를 감소시키는 것 중 하나 이상에 의해 개선될 수 있다. 일부 예에서, 스토퍼를 수정하는 것은, 배럴(20)의 벽(118)을 통해 활성화가능 층으로 에너지를 보냄으로써, 스토퍼(40)의 활성화가능 층을 수정하는 것을 포함한다.

도 16a 내지 도 19b는, 도 5에 도시된 스토퍼(40)의 영역 "A"에 대응하는 시일 계면(702)에서의 전술한 제조 기술의 잠재적 이점을 보여주는 개략도이다. 도 16a 내지 도 18b는, 배럴(20)의 내면(124)이 완벽하게 매끄럽지 않을 때의, 배럴(20)에서의 표면 불규칙성의 형태인 잠재적 결함(700)을 나타낸다. 이러한 결함(700)은 스크래치, 불규칙성, 보이드(void) 또는 기공, 또는 다른 특징부일 수 있다. 도 16a에 도시된 바와 같이, 다양한 실시예에서, 배럴(20)과 스토퍼(40) 사이의 상대 운동을 유도함에 따른 스토퍼(40)의 표면 수정에 이어서, 스토퍼(40)의 배리어(242)는, 결함(700)(예를 들어, 스토퍼(40)가 배럴(20)과 계합하는 위치, 예컨대 매크로 특징 및/또는 마이크로 특징(400)에 근접한 위치에서의 결함)을 수용(accomodating)함으로써 또는 보다 양호하게는 상기 결함을 채움으로써, 배럴(20)에 더 근접하여 적응(conform)할 수 있다. 도 16b는, 결함(700)이, 스토퍼(40)의 외측(244)으로부터의 재료, 구체적으로 스토퍼(40)의 배리어(242)로부터의 재료로 적어도 부분적으로 채워진 것으로 도시되어 있는, 전술한 개념을 제시하려는 의도이다.

앞서 언급한 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)은, 배럴(20)과 함께 시일 계면(702)를 형성하는 고분자 재료(예를 들어, FEP, ePTFE, PTFE, 및/또는 본 명세서에 설명된 다른 고분자 재료)를 포함할 수 있으며, 스토퍼(40)를 수정하는 것은, 구성요소들의 상대 운동을 통해 시일 계면(702)에서의 고분자 재료의 고분자 이동을 유도하는 것을 포함한다. 도 16a에 도시된 바와 같이, 이러한 결함(700)을 채우기 이전에 또는 수용하기 이전에, 스토퍼(40)(배리어(242))와 배럴(20) 사이에 공간(710) 또는 잠재적 누출 경로(710)가 존재할 수 있을 것이다. 그리고, 표면 수정 이후에, 공간(710) 또는 잠재적 누출 경로(710)는 시일 계면(702)에서 보다 효과적으로 밀봉되거나 또는 폐쇄된다. 이는, 결과적으로, (예를 들어, 매크로 특징(300) 또는 마이크로 특징(400) 중 하나 이상에 근접하게) 시일 계면(702)에서 비교적 더 안전한 또는 안정적인 시일을 형성할 수 있도록 한다.

또한, 도 16a에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)과 배럴(20) 사이의 시일 계면(702)는, 시일 계면(702) 내로 유입되는 미립자(800)(예를 들어, 파편)를 포함할 수 있을 것이다. 이러한 미립자는, 제조 도중에 파손되었거나 느슨해지는 스토퍼(40) 또는 배럴(20)의 일부, 또는 다른 이물질을 포함할 수 있을 것이다. 도 16b에 도시된 바와 같이, 배럴 내 처리 도중에, 이러한 미립자는 시일 계면(702) 내로 리플로우(reflow)되거나 또는 합쳐질 수 있을 것이다. 명백하게, 이러한 미립자의 감소는, 특히 배럴 내용물의 오염이 극히 바람직하지 않은 제약 용례에서, 바람직할 것이다.

또한, 도 16a에 도시된 바와 같이, 그리고 도 3 및 도 4와 관련하여 앞서 언급한 바와 같이, 스토퍼(40)의 표면, 특히 배리어(242)의 표면은, 하나 이상의 주름 또는 표면 결함(900)을 포함할 수 있을 것이다. 이러한 표면 결함(900)은, 배럴(20) 내로의 스토퍼(40)의 삽입 도중에, 제조 도중에, 또는 다른 방식으로 생성될 수 있을 것이다. 스토퍼와 관형 부재(5300)(예를 들어, 도 16a 및 도 16b에 도시된 바와 같은 배럴(20)) 사이에서 유도된 상대 운동을 통한 주사기 스토퍼(40)의 수정은, 배리어(242)의 재료의 고분자 이동을 유발할 수 있으며, 이에 따라 표면 결함 또는 주름을 평활화할 수 있다. 이는, 결과적으로, (스토퍼(40)가 배럴(20) 내에 조립된 이후 또는 스토퍼(40)가 배럴(20) 내에 조립된 이후) 스토퍼(40)의 외측(244)을 배럴(20)의 내면(124)과 더욱 밀접하게 적응(conformity)시키도록 하는 데 도움을 줄 수 있다. 이는, 결과적으로, 스토퍼(40)의 외측(244)의 거칠기를 감소시킨다고 할 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 상기 표면 수정은, 시일 완전성을 향상시키는 데 도움을 주기 위해 (예를 들어, 연속적인 진동 또는 다른 상대 회전을 통해) 둘레방향 패턴으로 스토퍼에 적용될 수 있다.

도 17a 및 도 17b는, 배럴(20)의 내면(124)의 결함(예를 들어, 스크래치 또는 홈)을 채우기 위해 에너지(예를 들어, 마찰 에너지)를 사용하여 배럴(242)의 표면이 리플로우되거나 또는 동원되는, 유사한 효과를 도시한다. 도 17a에 도시된 바와 같이, 배럴(20)과 스토퍼(40) 사이에는 공간 또는 잠재적 누출 경로(710)가 존재한다. 상대 운동을 유도하고 배리어(242)의 표면을 동원함으로써, 잠재적 누출 경로(710)가 채워져, 전체 시일 완전성을 향상시킨다. 그리고, 도 16a 및 도 16b에서와 마찬가지로, 상기 상대 운동은, 원하는 효과를 생성하기 위해, 요구되는 패턴(예를 들어, 둘레방향 패턴 및/또는 종방향 패턴)으로 적용될 수 있다.

도 18a 및 도 18b는, 스토퍼(40)의 표면 수정을 유발하기 위해 스토퍼(40)에 에너지를 인가하는 것에 관한, 도 도 16a 내지 도 17b와 유사한 원리를 제시한다. 도 18a 및 도 18b는 주입기 장치(10)를 통한 횡단면을 따른 예시이다. 도 18a 및 도 18b는, 예를 들어, 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 시일 계면(702)에서 도 5에 지정된 영역 "A"를 포함하는 주입기 장치(10)의 횡단면을 나타낼 수 있을 것이다. 도 18a는, 배럴(20), 및 종방향 시야로부터 본 배럴(20)의 내면(124)의 둘레 주위의 표면 불규칙성(예를 들어, 스크래치)의 형태인 결함(700)을 도시한다. 또한, 스토퍼(40)의 둘레 주위에서의 외측(244)의 주름 또는 표면 결함(900)이 도시되어 있다.

도 18b는, 표면 수정에 따른, 시일 계면(702)에서의 예상되는 효과를 제시한다. 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)(예컨대, 배럴(242))의 유도된 고분자 이동은, 배럴(20)의 결함(700)이 채워지도록 하여, 예컨대 스토퍼(40)에서의 주름 또는 표면 결함을 평활화하고, 시일 계면(702)를 향상시키며, 시일 계면(702)에 대응하는 둘레방향 시일 라인을 생성하게 한다.

전술한 내용에 비추어, 주입기 장치(10, 100)를 제조하기 위한 다양한 방법은 스토퍼(40)의 배럴 내 처리를 포함한다. 예시적인 방법은, 스토퍼(40)를 벤트 튜브(4264)에 배치하고, 벤트 튜브(4264)를 배럴(20) 내로 삽입하며, 상기 외측(244)이 상기 배럴(20)의 내면(124)과 계합하여 상기 스토퍼(40)의 외측(244)과 상기 배럴(124)의 내면(124) 사이의 시일 계면(702)를 형성하도록 스토퍼(40)를 벤트 튜브(4264)로부터 배럴(20) 내로 전달하고, 스토퍼(40)의 외측(244)과 배럴(20)의 내면(124) 사이의 시일 계면(702)를 향상시키기 위해 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 상대 운동을 유도하는 것을 포함할 수 있다. 앞서 참조한 바와 같이, 상기 상대 운동은 회전 성분, 종방향 성분, 또는 이들의 조합을 포함할 수 있을 것이다. 논의된 바와 같이, 스토퍼(40)가 벤트 튜브(4264)로부터 배럴(20) 내로 전달된 이후에, 스토퍼(40)의 외측(244)은 시일 계면(702)에서의 주름을 포함할 수 있을 것이며, 스토퍼(40)의 외측(244)과 배럴(20)의 내면(124) 사이의 시일 계면을 향상시키는 것은, 시일 계면(702)에서의 상기 주름을 감소시키는 것을 포함한다. 스토퍼(40)의 외측와 배럴(20)의 내면(124) 사이의 시일 계면(702)를 향상시키는 것은, 스토퍼(40)의 외측(244)으로부터 배럴(20)의 내측(124)으로 재료를 이송하는 것을 포함한다. 리브(300) 중 하나 이상은 시일 계면(702)을 한정할 수 있을 것이다.

앞서 언급한 바와 같이, 배럴 표면(내면(124))에서의 불완전함의 영향을 줄이는 데 도움이 되도록 하고, 및/또는 동일하거나 유사한 재료를 포함하는 시일 계면(702)의 구성을 생성하도록 하기 위해, 스토퍼(40)로부터 배럴(20)로의 재료 전달이 이루어질 수 있다. 예를 들어, 배럴(20) 상의 이송된 재료 및 스토퍼(40) 상의 배리어 재료(242)에 의해 형성되는 PTFE-PTFE 계면(또는 ePTFE-eTPFE 계면)은, 향상된 시일 성능 및/또는 활주 성능을 나타낼 수 있을 것이다. 시일 계면(702)을 위한 이러한 구성은 2개의 유사한 재료 사이의 표면 에너지에 기초하여 누출 가능성이 더 낮을 수 있다는 것이 고려된다.

출원인 더블유. 엘. 고어 앤드 어소시에이트스 인코포레이티드에 의한 미국 특허 제5,772,755호는 배리어(242)와 배럴(20)(예를 들어, 붕규산 유리로 제조됨) 사이의 이러한 이송 메커니즘의 실현 가능성에 대한 증거를 제공한다. 예를 들어, 상기 특허 문헌은 배향된 PTFE를 생성하기 위한 유리 플레이트의 코팅을 설명한다. 구체적으로, 상기 유리 플레이트는 플랫폼 상에 배치되었으며, 복사열에 의해 200℃의 온도로 가열되었다. PTFE로 된 테이프가 응고 분산형 PTFE의 윤활(페이스트) 압출에 의해 준비되어, 윤활제를 기화시키고 압출된 테이프를 2:1로 신장시켜 상기 테이프가 순응성(compliant)이 되도록 한다. 이러한 테이프는 약 14 인치 길이의 가열 가능한 바 둘레에 감겨지게 된다. 이렇게 감겨진 바는 이어서 약 300℃로 가열되었으며, 이후 상기 바는 조절 가능한 힘으로 유리 기판 위로 드래깅(dragging)되었다. 유리 표면의 완전한 커버리지(coverage)를 보장하기 위해 복수의 패스가 구현되었다. PTFE 바를 드래깅함에 의해, PTFE는 PTFE 체인의 정렬된 열(row)에 있는 유리의 표면 상에 성막되었다.

전술한 메커니즘과 유사하게, 배리어(242)와 배럴(20) 사이의 상대 운동은, 약간의 가열을 유발시키며, 상대 운동의 방향에 대응하는 배향으로(예를 들어, 둘레방향으로, 종방향으로, 또는 특정 구현예에 좌우되는 이들의 조합으로) 재료(예컨대, PTFE 또는 ePTFE)가 이송되도록 한다.

따라서, 다양한 예에서, 주입기 장치(10, 100)는 시일 계면을 한정하는 배럴 및 스토퍼를 포함하며, 상기 배럴은 배리어의 재료에 대응하는 성막 재료를 구비하고, 상기 성막 재료는 방향성 배향을 갖는다. 상기 재료의 방향성 배향은, 예를 들어, 공통 방향으로 정렬되는 PTFE 체인의 열에 의해 한정될 수 있을 것이다. 상기 공통 방향은, 둘레방향, 종방향 또는 이들의 조합일 수 있을 것이다. 도 19a 및 도 19b는 도 18a 및 도 18b에서와 유사한 원리를 예시하지만, 벤트 튜브(4264) 또는 다른 관형 부재일 수 있는 보다 일반적인 관형 부재(5300)와 관련된 원리를 예시한다. 앞서 참조한 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측(244)은, 고분자 재료(예를 들어, FEP, ePTFE, PTFE, 및/또는 본 명세서에 설명되는 또 다른 고분자 재료)를 포함할 수 있다. 그리고, 스토퍼(40)를 수정하는 것은, 스토퍼(40)와 관형 부재(5300) 사이의 계면에서 고분자 재료의 고분자 이동을 유도하는 것을 포함한다. 스토퍼(40)의 표면, 특히 배리어(242)의 표면은 하나 이상의 주름 또는 표면 결함(900)을 포함할 수 있다는 것이 고려된다. 다시 말하지만, 이러한 표면 결함(900)은 제조 도중에 또는 다른 방식으로 생성될 수 있을 것이다. 스토퍼와 관형 부재(5300) 사이의 유도된 상대 운동을 통한 주사기 스토퍼(40)의 수정은, 배리어(242)의 재료의 고분자 이동을 유발할 수 있으며, 이에 따라 표면 결함 또는 주름을 평활화할 수 있다. 이는, 결과적으로, (스토퍼(40)가 배럴(20) 내에 조립된 이후에 또는 스토퍼(40)가 배럴(20) 내에 조립된 이후에) 스토퍼(40)의 외측(244)을 배럴(20)의 내면(124)과 더욱 밀접하게 적응시키도록 하는 데 도움을 줄 수 있다. 이는, 결과적으로, 스토퍼(40)의 외측 표면(244)의 거칠기의 감소를 유발할 수 있다. 앞서 언급한 바와 같이, 상기 표면 수정은, 시일 완전성을 향상시키도록 돕기 위해 (예를 들어, 연속적인 진동 또는 다른 상대 회전을 통해) 둘레방향 패턴으로 스토퍼에 적용될 수 있다.

예시 재료 세트

배럴(20)은 유리 재료(예컨대, 붕규산 유리), 세라믹 재료, 하나 이상의 고분자 재료(예컨대, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 및 그들의 공중합체), 금속 재료, 플라스틱 재료(예컨대, 환형 올레핀 중합체(COC) 및 환형 올레핀 공중합체(COP)), 및 그 조합과 같이 실질상 경질 또는 단단한 재료로 형성될 수 있다. 본질적으로 소수성이 아닌 재료로 형성된 배럴(예를 들어 유리 배럴)은 소수성이 되도록 코팅되거나 다른 방식으로 처리될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 일부 실시예에서, 배럴(20)은 실리콘 또는 실리콘 오일과 같은, 그러나 이에 제한되는 것은 아닌, 윤활제가 없는 것을 특징으로 하는 소수성 내부 벽을 갖는다. 본 명세서에 사용된 용어 "소수성 내부 벽"은 실리콘 오일이 없거나 실질적으로 없는(즉, 계측불가능하거나 미량인) 배럴의 내부 표면을 의미한다. 또한, 배럴(20)의 소수성 표면 역시 재료의 평평한 표면에서 탈이온수의 접촉각이 90°보다 크며, 이는 소수성 표면을 나타낸다. 일부 실시예에서, 물 접촉각은 약 90° 내지 약 180° 또는 약 96° 내지 약 180°, 약 96° 내지 약 130°, 또는 약 96° 내지 약 120°이다.

일부 실시예에서, 스토퍼(40)의 본체(240)는 고무 재료와 같은 적합한 엘라스토머로 형성된다. 적합한 고무 재료의 예에는 합성 고무, 열가소성 엘라스토머, 합성 고무와 열가소성 엘라스토머를 혼합하여 제조된 재료가 포함된다. 재료는 부틸, 브로모부틸 또는 클로로부틸, 할로겐화 부틸 고무, 스티렌 부타디엔 고무, 부타디엔 고무, 에피클로로히드린 고무, 네오프렌 고무, 에틸렌 프로필렌 고무, 실리콘(silicone), 니트릴, 스티렌 부타디엔, 폴리클로로프렌, 에틸렌 프로필렌 디엔, 플루오로엘라스토머, 열가소성 엘라스토머(TPE), 열가소성 가황물(TPV), 상표명 VITON®으로 판매되는 재료, 및 이들의 조합 및 블렌드로부터 구성된 고무일 수 있다. 일부 실시예에서, 본체(240)는 약 2.5 MPa 내지 약 5 MPa, 또는 약 3 MPa 내지 약 4 MPa의 초기 모듈러스(작은 변형)를 가질 수 있다. 일부 실시예에서, 초기 모듈러스는 약 3.5 MPa이지만, 다양한 값이 고려된다.

이전에 참조한 바와 같이, 배리어(242)의 일부(예를 들어, 층 또는 구역)는 배리어(242)의 다른 층 또는 구역보다 에너지원에 대해 더 활성화가능하거나 반응성이 있도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 레이저 또는 기타 광학 에너지원의 경우, 재료 두께, 색소 침착(pigmentation), 밀도/개방 공간/공기 함량, 화학/재료 조성 등을 수정하여 반응성 또는 활성화 능력을 조정할 수 있다. 무선 주파수(RF), 전기 및 전자기 에너지원의 경우, 배리어(242)는 이러한 에너지에 더 반응적인 금속성 물질(예: 철, 백금 등)과 같은 안료 또는 기타 필러를 포함하도록 조정될 수 있다. 마이크로파 에너지원의 경우 금속, 물 또는 기타 재료가 사용될 수 있다. 자외선(UV) 에너지 가교제(가교하여 밀도/강성을 증가시키는 아크릴레이트) 또는 UV 에너지를 흡수하는 기타 물질이 포함될 수 있다.

스토퍼의 배리어(242)의 하나 이상의 층에 적합한 재료의 예에는 초고분자량 폴리에틸렌 및 불소수지 필름이 포함된다. 배리어(242)는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 필름 또는 고밀화 팽창성 폴리테트라플루오로에틸렌(ePTFE) 필름과 같은 플루오로중합체 필름을 포함할 수 있다. PTFE 또는 ePTFE를 포함하는 필름 및 필름 복합재는, 하부의 엘라스토머에 존재할 수 있고 그렇지 않으면 배럴 내의 치료 물질을 오염시킬 수 있는 침출물 및 추출물에 얇고 강력한 배리어 층을 제공하는 데 도움이 될 수 있다.

배리어(242)의 적합한 재료의 일부 특정 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: (1) 스카이빙법(skiving method)에 의해 제조된 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 단독중합체 필름(예를 들면 니뽄 바루카사(Nippon Valqua Industries, Ltd.)의 VALFLON(상품명)); (2) 스카이빙법에 의해 제조된 변성 PTFE(테트라플루오로에틸렌 단량체와 몇 퍼센트의 퍼플루오로알콕시드 단량체의 공중합체) 필름(예를 들면, 니뽄 바루카사의 NEW VALFLON(상품명)); (3) 스카이빙법에 의해 제조된 초고분자량 폴리에틸렌 필름(예를 들면 삭신사(Saxin Corporation)의 NEW LIGHT NL-W(상품명)).

표시된 바와 같이, 배리어(242)는 복합재 또는 적층 재료일 수 있거나, 그렇지 않으면 다성분(예를 들어, 다층) 배리어를 포함할 수 있다. 배리어(242) 내에 또는 배리어로서 사용하기 위한 다른 적합한 플루오로중합체는 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP), 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐플루오라이드, 퍼플루오로프로필비닐에테르, 퍼플루오로알콕시 폴리머, 테트라플루오로에틸렌(TFE), 파릴렌 AF-4, 파릴렌 VT-4, 및 이들의 공중합체 및 조합을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 파릴렌 C 및 파릴렌 N과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는 비-플루오로중합체가 또한 또는 대안적으로 배리어(242)을 형성하는 데 사용될 수 있다.

배리어(242)를 위한 고밀화 ePTFE 필름은 Kennedy 등의 미국 특허 번호 제 7,521,010호, Dolan 등의 미국 특허 번호 제6,030,694호, Fuhr 등의 미국 특허 번호 제5,792,525호, 또는 Knox 등의 미국 특허 번호 제5,374,473호에 기술된 방식으로 제조될 수 있다. Branca의 미국 특허 번호 제5,708,044호, Baillie의 미국 특허 번호 제6,541,589호, Sabol 등의 미국 특허 번호 제7,531,611호, Ford의 미국 특허 번호 제8,637,144호, 및 Xu 등의 미국 특허 번호 제9,139,669호에 개시된 것과 같은 PTFE의 팽창된 공중합체도, 특히 고밀화되면, 배리어(242)에 대해 사용될 수 있다.

하나 이상의 실시예에서, 배리어(242)는 Sbriglia의 미국 특허 번호 제9,926,416호에 교시된 것과 같은 초고분자량 폴리에틸렌; Sbriglia의 미국 특허 공개 번호 제2016/0032069호에 교시된 것과 같은 폴리파라크실릴렌; Sbriglia 등의 미국 특허 번호 제9,732,184호에 교시된 것과 같은 폴리락트산; 및/또는 Sbriglia의 미국 특허 번호 제9,441,088호에 교시된 것과 같은 VDF-co-(TFE or TrFE) 폴리머 중 하나 이상을 포함하거나 그 하나 이상으로 형성될 수 있다.

배리어(242)는 또한 피브릴에 의해 상호 연결된 노드를 특징으로 하는 마이크로 구조를 갖는 기능성 테트라플루오로에틸렌(TFE) 공고분자 재료를 포함하는 팽창된 고분자 재료를 포함할 수 있으며, 여기서 기능성 TFE 공고분자 재료는 TFE와 PSVE(퍼플루오로설포닐 비닐 에테르)의 기능성 공중합체를 포함하거나, 비닐리덴 플루오라이드(VDF), 비닐 아세테이트 또는 비닐 알코올과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는, 다른 적합한 기능성 단량체를 갖는 TFE를 포함한다. 기능성 TFE 공중합체 물질은 예를 들어 Xu 등의 미국 특허 번호 제9,139,669호 또는 Xu 등의 미국 특허 번호 제8,658,707호에 기술된 방법에 따라 제조될 수 있다.

일부 실시예에서, 배리어(242)는 Gunzel의 미국 특허 공개 번호 제2016/0022918호에 설명된 것과 같은 배리어 층 및 결속 층(tie layer)을 갖는 복합 플루오로중합체 또는 비-플루오로중합체 재료로 형성될 수 있다. 본 명세서에 사용된 용어 "결속층"은 플루오로중합체 및/또는 비-플루오로중합체 재료를 포함할 수 있다는 점에 유의해야 한다. 결속층은 팽창된 폴리테트라플루오로에틸렌 또는 기타 다공성의 팽창된 플루오로중합체(예를 들어, Baille의 미국 특허 번호 제6,541,589호에 교시된 것과 같은 ePTFE)를 포함하거나 그것으로 형성될 수 있다. 대안적으로, 결속층은 비-플루오로중합체 재료로 형성되거나 포함할 수 있다. 결속층 내에 또는 결속층으로서 사용하기에 적합한 비-플루오로중합체 재료의 비제한적 예에는 비-플루오로중합체 멤브레인, 비-플루오로중합체 미세다공성 멤브레인, 부직포 재료(예를 들어, 스펀본디드(spunbonded), 멜트블로운 섬유 재료, 전기방사 나노섬유), 폴리비닐리덴 디플루오라이드(PVDF), 나노섬유, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리아릴설폰, 폴리에테르에테르케톤(PEEK), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리이미드가 포함된다.

일부 실시예에서, 배리어(242)는 다공성 ePTFE 층 및 열가소성 배리어 층을 포함하는 얇고 고밀화 복합재를 형성함으로써 제조될 수 있다. 이러한 양태에서, 마찰 계수가 낮은 표면을 갖는 열가소성 재료가 바람직하다. 이에 따라 FEP(불소화에틸렌프로필렌), PFA(퍼플루오로알콕시), 테트라플루오로에틸렌 중합체, 헥사플루오로프로필렌 및 비닐인덴 플루오라이드(THV)와 같은 플루오로중합체계 열가소성 플라스틱이 적용될 수 있다. 이러한 양태에 따른 배리어는 WO 94/13469(Bacino)에 교시된 공정에 따라 얻은 FEP/ePTFE 라미네이트일 수 있다. 배리어는 연화 온도보다 높은 공정 온도에서 또는 암형 공동 몰드에서 FEP 필름의 용융 온도보다 높은 공정 온도에서 형성될 수 있다.

일부 실시예에서, 배리어(242)는 고밀화 ePTFE 필름과, 배리어 층 필름에 접합된 다공성 ePTFE의 박층의 복합체를 포함할 수 있다. 고밀화 ePTFE 필름은 Kennedy 등의 미국 특허 번호 제7,521,010호에 기술된 바와 같이 얻어질 수 있다. ePTFE/고밀화 ePTFE 복합재는 Dolan 등의 미국 특허 번호 제6,030,694호에 기술된 방식으로 결합될 수 있다. 이 실시예에서, 복합 재료는 고밀화 ePTFE 필름의 층 및 다공성 ePTFE 층을 포함한다.

일부 실시예에서, 배리어(242)는 적어도 3개의 층, 즉 고밀화 팽창성 플루오로중합체 층, 배리어 용융 플루오로중합체 층 및 다공성 층을 갖는 복합 재료를 포함한다. 고밀화 팽창성 플루오로중합체 층은 고밀화 ePTFE로 형성되거나 포함할 수 있다. 배리어 용융 플루오로중합체 층은 고밀화 팽창성 플루오로중합체, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 팽창성 폴리테트라플루오로에틸렌(ePTFE), 고밀화 팽창성 폴리테트라플루오로에틸렌, 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP), 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐플루오라이드, 퍼플루오로프로필비닐에테르, 퍼플루오로알콕시 중합체 및 그 공중합체 및 조합과 같은 플루오로중합체를 포함할 수 있다. 배리어 용융층에 사용될 수 있는 비-플루오로중합체의 비제한적 예에는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이 포함된다. 다공성 층은 ePTFE 또는 다른 다공성의 팽창성 플루오로중합체로 형성되거나 포함할 수 있다. 고밀화 팽창성 플루오로중합체 층, 배리어 용융 플루오로중합체 층 및 다공성 층을 갖는 라미네이트 층은 고밀화 팽창성 플루오로중합체를 다공성 층 상에 코팅하거나 퇴적하여 복합 재료를 생성함으로써 구성될 수 있다. 비제한적인 일 실시예에서, 라미네이트 층은 고밀화 플루오로중합체(예를 들어, 고밀화 ePTFE), 열가소성플라스틱 접착제(예를 들어, FEP), 및 다공성 플루오로중합체(예를 들어, ePTFE)로 형성된다.

스토퍼(40)는 Ashmead 등의 미국 특허 번호 제8,722,178호, Ashmead 등의 미국 특허 번호 제 9,597,458호 및 Gunzel의 미국 특허 공개 번호 제2016/0022918호에 기술된 것을 비롯하여 본체(240)의 재료가 배리어(242)의 재료 내로 또는 그 반대로 침투하는 다양한 정도를 포함할 수 있다는 것을 이해해야 한다. 또한, 본 발명의 범위 및/또는 정신을 벗어나지 않으면서 스토퍼(40)를 형성하기 위해 활용될 수 있는 본 명세서에 설명된 공정의 많은 변형이 있음을 이해해야 한다.

치료 물질의 예

본 개시의 주사기, 팁 캡 및 기타 실시예는 응고 인자(coagulation factors), 사이토카인, 후성 단백질군(epigenetic protein families), 성장 인자, 호르몬, 펩타이드, 신호 전달 분자(signal transduction molecules) 및 이의 돌연변이와 같은 약물 및 생물학적 제제; 또한 아미노산, 백신 및/또는 이들의 조합도 포함하는, 그러나 이에 제한되지 않는, 상이한 치료 화합물과 함께 사용될 수 있다. 치료 화합물은 항체, 안티센스, 상기 생물학적 제제 및 이들의 표적 수용체에 대한 RNA 간섭 및 이들의 돌연변이를 더 포함한다. 추가 치료 화합물은 유전자 치료, 1차 및 배아 줄기 세포를 포함한다. 또한 치료 화합물은 항체, 안티센스, 단백질 키나제에 대한 RNA 간섭, 에스테라제, 포스파타제, 이온 채널, 프로테아제, 구조 단백질, 막 수송 단백질, 핵 호르몬 수용체 및/또는 이들의 조합을 포함힌다. 추가로, 본 개시에 사용되고 본 명세서에서 확인된 치료 화합물 중 적어도 하나, 또한 본 출원에 나열된 2개 이상의 치료 화합물은 본 개시의 범위 내에 있는 것으로 간주된다는 것을 이해하여야 한다.

응고 인자의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 피브리노겐, 프로트롬빈, 인자 I, 인자 V, 인자 X, 인자 VII, 인자 VIII, 인자 XI, 인자 XIII, 단백질 C, 혈소판, 트롬보플라스틴 및 VIIa의 보조 인자.

사이토카인의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 림포카인, 인터루킨, 케모카인, 모노카인, 인터페론 및 콜로니 자극 인자.

후성 단백질군의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. ATPase 패밀리 AAA 도메인 함유 단백질 2(ATAD2A), ATPase 패밀리 - AAA 도메인 함유 2B(ATAD2B), ATPase 패밀리 AAA 도메인 함유 - 2B(ATAD2B), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 1A(BAZ1A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 1B(BAZ1B), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2A(BAZ2A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2A(BAZ2A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2B(BAZ2B), 브로모도메인-함유 단백질 1(BRD1), 브로모도메인 함유 단백질 2 - 1차 브로모도메인(BRD2), 브로모도메인 함유 단백질 2 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRD2), 브로모도메인 함유 단백질 2 동형 1 - 브로모도메인 2(BRD2(2)), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 브로모도메인 1(BRD3(1)), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 1차 브로모도메인(BRD3), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRD3), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 브로모도메인 2(BRD3(2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 - 1차 브로모도메인(BRD4), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 롱 - 브로모도메인 1 및 2(BRD4(1-2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 롱 - 브로모도메인 2(BRD4(2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 쇼트(BRD4(full-length-short-iso.)), 브로모도메인 함유 단백질 7(BRD7), 브로모도메인 함유 8 - 브로모도메인 1(BRD8(1)), 브로모도메인 함유 8 - 브로모도메인 2(BRD8(2)), 브로모도메인 함유 단백질 9 동형 1(BRD9), 브로모도메인 함유 고환 특이 - 1차 브로모도메인(BRDT), 브로모도메인 함유 고환 특이 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRDT), 브로모도메인 고환 특이 단백질 동형 b - 브로모도메인 2(BRDT(2)), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 1(BRPF1), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 3(BRPF3), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 3(BRPF3), 브로모도메인 및 WD 반복 함유 3 - 2차 브로모도메인(BRWD3(2)), 고양이 눈 증후군 임계 영역 단백질 2(CECR2), CREB 결합 단백질(CREBBP), E1A 결합 단백질 p300(EP300), EP300(EP300), 뉴클레오좀-리모델링 인자 서브유닛(nucleosome-remodeling factor subunit) BPTF 동형 1 (FALZ), 뉴클레오좀-리모델링 인자 서브유닛 BPT (FALZ), 진정염색질 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스(Euchromatic histone-lysine N-methyltransferase) 2 (EHMT2), 히스톤 아세틸트랜스퍼레이스(Histone Acetyltransferase) - KAT2A (GCN5L2), 진정염색질 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스 1(EHMT1), 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스 MLL(MLL), 폴리브로모 1 - 1차 브로모도메인(PB1(1)), 폴리브로모 1 - 2차 브로모도메인(PB1(2)), 폴리브로모 1 - 브로모도메인 2(PBRM1(2)), 폴리브로모 1 - 브로모도메인 5(PBRM1(5)), 히스톤 아세틸트랜스퍼레이스 KAT2B(PCAF), PH-상호작용 단백질 - 1차 브로모도메인(PHIP(1)), PH-상호작용 단백질 - 2차 브로모도메인(PHIP(2)), 단백질 키나아제 C-결합 단백질 1(PRKCBP1), 단백질 아르기닌 N-메틸트랜스퍼레이스 3(PRMT3), SWI/SNF 관련 - 기질 연관 - 염색질의 액틴 의존 조절자 - 서브패밀리 a - 멤버 2(SMARCA2), SWI/SNF 관련 - 기질 연관 - 염색질의 액틴 의존 조절자 - 서브패밀리 a - 멤버 4(SMARCA4), 핵체 단백질 - SP110(SP110), 핵체 단백질 - SP140(SP140), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1(TAF1(1-2)), TAF1 RNA 폴리머레이스(polymerase) II - TATA 박스 결합 단백질(box binding protein)(TBP)-관련 인자 - 250kDa - 브로모도메인 2(TAF1(2)), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1 유사 - 1차 브로모도메인(TAF1L(1)), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1-유사 - 2차 브로모도메인(TAF1L(2)), 삼중 모티프 함유 24(tripartite motif containing 24)(TRIM24(Bromo.)), 삼중 모티프 함유 24(TRIM24(PHD -Bromo)), E3 유비퀴틴-단백질 라이게이스(ligase) TRIM33(TRIM33), 삼중 모티프 함유 33(TRIM33(PHD -Bromo.)), WD 반복 9 - 1차 브로모도메인(WDR9(1)), WD 반복 9 - 2차 브로모도메인(WDR9(WDR9) 2).

성장 인자의 예는 다음을 포함하지만 이에 제하되지 않는다: 신경 성장 인자(NGF), 혈관 내피 성장 인자(VEGF), 혈소판 유래 성장 인자(PDGF), C-fos 유도 성장 인자(FIGF), 혈소판 활성화 인자(PAF), 형질전환 성장 인자 베타(transforming growth factor beta)(TGF-β), 골 형태 형성 단백질(BMP), 액티빈, 인히빈, 섬유아세포 성장 인자(FGF), 과립구 콜로니 자극 인자(G-CSF), 과립구-대식세포 콜로니 자극 인자 (GM-CSF), 아교 세포주 유래 신경영양 인자(glial cell line-derived neurotrophic factor)(GDNF), 성장 분화 인자-9(GDF9), 표피 성장 인자(EGF), 형질전환 성장 인자-α(TGF-α), 성장 인자(KGF), 이동 자극 인자(MSF), 간세포 성장 인자 유사 단백질(HGFLP), 간세포 성장 인자(HGF), 간종 유래 성장 인자(HDGF) 및 인슐린 유사 성장 인자.

호르몬의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 아미노산 유래(멜라토닌, 티록신 등), 갑상선 자극 호르몬 분비 호르몬(Thyrotropin-releasing hormone), 바소프레신, 인슐린, 성장 호르몬, 당단백질 호르몬, 황체형성 호르몬, 난포 자극 호르몬, 갑상선 자극 호르몬, 에이코사노이드, 아라키돈산, 리폭신, 프로스타글란딘, 스테로이드, 에스트로겐, 테스토스테론, 코티솔, 및 프로게스토겐.

단백질, 펩티드 및 신호 전달 분자의 예는 다음을 포함하지만 이에 국한되지는 않는다. 운동실조 모세혈관확장증 돌연변이, 종양 단백질 p53, 체크포인트 키나제 2, 유방암 감수성 단백질, 이중 가닥 파손 복구 단백질, DNA 복구 단백질 RAD50, Nibrin, p53 결합 단백질, DNA 손상 체크포인트 단백질 매개체, H2A 히스톤 패밀리 멤버 X, 마이크로세팔린 , C-말단 결합 단백질 1, 염색체 단백질 1A의 구조적 유지, 세포 분열 주기 25 상동체 A(CDC25A), 포크헤드 박스 O3(포크헤드 박스 O3), B 세포 억제제의 카파 광 폴리펩티드 유전자 강화제의 핵 인자, 알파 (NFKBIA), 핵 인자(적혈구 유래 2) 유사 2(NFE2L2), 나트륨 이뇨 펩타이드 수용체 A(NPR1), 종양 괴사 인자 수용체 슈퍼패밀리, 멤버 11a(TNFRSF11A), v-rel 세망내피증 바이러스 종양유전자 상동체 A(조류) (RELA), 스테롤 조절 요소 결합 전사 인자 2(SREBF2), CREB 조절 전사 공동활성화제 1(CRTC1), CREB 조절 전사 공동활성화제 2(CRTC2), X-box 결합 단백질 1(XBP1) 및 카테닌 베타 1(cadherin- 관련 단백질 또는 CTNNB1).

G 단백질 결합 수용체(GPCR)의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 아데노신 수용체 패밀리, 아드레날린 수용체 패밀리, 안지오텐신 II 수용체, 아펠린 수용체, 바소프레신 수용체 패밀리, 뇌 특이적 혈관신생 억제제 패밀리, 브래디키닌(Bradykinin) 수용체 패밀리, 봄베신(Bombesin) 수용체 패밀리, 보체 성분(Complement component) 3a 수용체 1, 보체 성분 5a 수용체 1, 칼시토닌 수용체 패밀리, 칼시토닌 수용체 유사 패밀리, 칼슘 감지 수용체, 콜레시스토키닌 A 수용체(CCK1), 콜레시스토키닌 B 수용체(CCK2), 케모카인(C-C 모티브) 수용체 패밀리, 스핑고신 1-포스페이트 수용체 패밀리, 숙신산 수용체, 콜린성 수용체 패밀리. 케모카인 유사 수용체 패밀리, 칸나비노이드 수용체 패밀리, 코르티코트로핀 방출 호르몬 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 D2 수용체, 케모카인 C-X3-C 수용체 패밀리, 케모카인(C-X-C 모티브) 수용체 패밀리, 버킷(Burkitt) 림프종 수용체, 케모카인(C-X-C 모티브) 수용체 패밀리, 시스테닐 류코트리엔(Cysteinyl leukotriene) 수용체 2(CYSLT2), 케모카인 수용체(FY), 도파민 수용체 패밀리, G 단백질 결합 수용체 183(GPR183), 리소포스파티드산 수용체 패밀리, 엔도텔린 수용체 패밀리, 응고 인자 II(트롬빈) 수용체 패밀리, 유리 지방산 수용체 패밀리 , 포르밀펩티드 수용체 패밀리, 난포 자극 호르몬 수용체(FSHR), 감마-아미노부티르산(GABA) B 수용체, 갈라닌 수용체 패밀리, 글루카곤 수용체, 성장 호르몬 방출 호르몬 수용체(GHRH), 그렐린 수용체(ghrelin), 성장 호르몬 분비 촉진 수용체 1b (GHSR1b), 위 억제 폴리펩티드 수용체(GIP), 글루카곤 유사 펩티드 수용체 패밀리, 성선 자극 호르몬(Gonadotropin) 방출 호르몬 수용체(GnRH), 피로글루타아미레이트 RF아미드(pyroglutamylated RFamide) 펩티드 수용체 (QRFPR), G 단백질 결합 담즙산 수용체 1 (GPBA), 히드록시카보닐산(Hydroxycarboxylic acid) 수용체 패밀리, 리소포스파티드산(Lysophosphatidic acid) 수용체 4 (LPA4), 리소포스파티드산 수용체 5 (GPR92), G 단백질 결합 수용체 79 위유전자(pseudogene) (GPR79), 하이드록시카르복실산 수용체 1(HCA1), G-단백질 결합 수용체(C5L2, FFA4, FFA4, FFA4, GPER, GPR1, GPR101, GPR107, GPR119, GPR12, GPR123, GPR132, GPR135, GPR139, GPR141, GPR142, GPR143, GPR146, GPR148, GPR149, GPR15, GPR150, GPR151, GPR152, GPR157, GPR161, GPR162, GPR17, GPR171, GPR173, GPR176, GPR18, GPR182, GPR20, GPR22, GPR25, GPR26, GPR27, GPR3, GPR31, GPR32, GPR35, GPR37L1, GPR39, GPR4, GPR45, GPR50, GPR52, GPR55, GPR6, GPR61, GPR65, GPR75, GPR78, GPR83, GPR84, GPR85, GPR88, GPR97, TM7SF1), 대사성 글루탐산 수용체(Metabotropic glutamate receptpr), 가스트린 방출 수용체(BB2), 오렉신(Orexin) 수용체 패밀리, 히스타민 수용체 패밀리, 5-하이드록시트립타민 수용체 패밀리, KISS1 유래 펩티드 수용체(kisspeptin), 류신이 풍부한 반복 함유(Leucine-rich repeat-containing) G 단백질 결합 수용체 패밀리, 호리오고나도트로핀 수용체(LH), 류코트리엔 B4 수용체(BLT1), 아데닐산 사이클라제 활성화 폴리펩티드 1 수용체 1(mPAC1), 모틸린 수용체, 멜라노코르틴 수용체 패밀리, 멜라닌 농축 호르몬 수용체 1(MCH1), 뉴로펩티드(Neuropeptide) Y1 수용체(Y1), 뉴로펩티드 Y2 수용체(NPY2R), 오피오이드(Opioid) 수용체 패밀리, 옥시토신 수용체(OT), P2Y 퓨린수용체(Purinoceptor) 12(mP2Y12), P2Y 퓨린수용체 6(P2Y6), 췌장 폴리펩티드 수용체 패밀리, 혈소판 활성화 인자 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 E 수용체 패밀리, 프로스타노이드 IP1 수용체(IP1), MAS 관련 GPR 멤버 패밀리, 로돕신(Rhodopsin), 릴랙신 패밀리 펩티드 수용체 패밀리, 소마토스타틴 수용체 패밀리, 타키키닌 수용체 패밀리, 멜라토닌 수용체 패밀리, 우로텐신 수용체 패밀리, 혈관활성 장 펩티드(Vasoactive intestinal peptide) 수용체 1(mVPAC1), 뉴로메딘 B 수용체(BB1), 뉴로메딘 U 수용체 1(NMU1), 뉴로펩티드 B/W 수용체 패밀리, 뉴로펩티드 FF 수용체 1(NPFF1), 뉴로펩티드 S 수용체 1(NPS 수용체), 뉴로펩티드 Y 수용체 패밀리, 뉴로텐신 수용체 1(NTS1), 옵신 5(OPN5), 오피오이드 수용체 유사 수용체(NOP), 옥소에이코사노이드(OXE) 수용체 1(OXE), 옥소글루타레이트(알파-케토글루타레이트) 수용체 1(OXGR1), 퓨린성(Purinergic) 수용체 패밀리, 피리미딘성(Pyrimidinergic) 수용체 패밀리, 프로락틴 방출 호르몬 수용체(PRRP), 프로키네티신(Prokineticin) 수용체 패밀리, 혈소판 활성화 수용체(PAF), 프로스타글란딘 F 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 12(프로스타사이클린(prostacyclin)) 수용체 패밀리, 부갑상선 호르몬 수용체 패밀리, 무스카린 아세틸롤린 수용체(rM4), 프로스타노이드 DP2 수용체(rGPR44), 프로키네티신 수용체 패밀리, 릴랙신 패밀리 펩티드 수용체 패밀리, 세크레틴 수용체(secretin), 프리즐드(Frizzled) 클래스 수용체(Smoothened), 미량 아민 관련 수용체 패밀리, 타키키닌(Tachykinin) 패밀리, 트롬복산 A2 수용체(TP), 갑상선 자극 호르몬 방출 호르몬 수용체(TRH1), 및 갑상선 자극 호르몬 수용체(TSH).

핵 호르몬 수용체의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지는 않는다. 안드로겐 수용체(AR), 에스트로겐 관련 수용체 알파(ESRRA), 에스트로겐 수용체 1(ESR1), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 4(NR1H4), 핵 수용체 서브패밀리 3 - 그룹 C - 멤버 1(글루코코르티코이드 수용체)(NR3C1), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 3(간 X 수용체 α)(NR1H3), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 2(간 X 수용체 β)(NR1H2), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 2(간 X 수용체 β)(NR1H2), 핵 수용체 서브패밀리 3 - 그룹 C - 멤버 2(미네랄코르티코이드 수용체)(NR3C2), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 알파(Peroxisome Proliferator Activated Receptor alpha)(PPRA), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 감마(PPARG), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 델타(PPARD), 프로게스테론 수용체 α(PGR), 프로게스테론 수용체 β(PGR), 레티노산 수용체 - 알파(RARA), 레티노산 수용체 - 베타(RARB), 레티노이드 X 수용체 - 알파(RXRA), 레티노이드 X 수용체 - 감마(RXRG), 갑상선 호르몬 수용체 - 알파(THRA), 갑상선 호르몬 수용체 - 베타 (THRB), 레티노산 관련 희귀(Retinoic acid-related orphan) 수용체, 간 X 수용체, 파르네소이드(Farnesoid) X 수용체, 비타민 D 수용체, 프레그난(Pregnane) X 수용체, 구성 안드로스탄(Constitutive androstane) 수용체, 간세포 핵 인자 4, 에스트로겐 수용체, 에스트로겐 관련 수용체, 글루코코르티온(Glucocortioic) 수용체, 신경 성장 인자-유도-B, 생식 세포 핵 인자.

막 수송 단백질의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는다. ATP 결합 카세트(ABC) 슈퍼패밀리, 용질 운반체(SLC) 슈퍼패밀리, 다약제 내성 단백질 1(P-당단백질), 유기 음이온 수송체 1, 및 EAAT3, EAAC1, EAAT1, GLUT1, GLUT2, GLUT9, GLUT10, rBAT, AE1, NBC1, KNBC, CHED2, BTR1, NABC1, CDPD, SGLT1, SGLT2, NIS, CHT1, NET, DAT, GLYT2, CRTR, BOAT1, SIT1, XT3, y+LAT1, BAT1, NHERF1, NHE6, ASBT, DMT1, DCT1, NRAMP2, NKCC2, NCC, KCC3, NACT, MCT1, MCT8, MCT12, SLD, VGLUT3, THTR1, THTR2, PIT2, GLVR2, OCTN2, URAT1, NCKX1, NCKX5, CIC, PiC, ANTI, ORNT1, AGC1, ARALAR, Citrin, STLN2, aralar2, TPC, MUP1, MCPHA, CACT, GC1, PHC, DTD, CLD, DRA, PDS, Prestin, TAT1, FATP4, ENT3, ZnT2, ZnT10, AT1, NPT2A, NPT2B, HHRH, CST, CDG2F, UGAT, UGTL, UGALT, UGT1, UGT2, FUCT1, CDG2C, NST, PAT2, G6PT1, SPX4, ZIP4, LIV4, ZIP13, LZT-Hs9, FPN1, MTP1, IREG1, RHAG, AIM1, PCFT, FLVCR1, FLVCR2, RFT1, RFT2, RFT3, OATP1B1, OATP1B3, and OATP2A1와 같은 단백질.

구조 단백질의 예는 튜불린, 열충격 단백질, 미세소관 안정화 단백질, 종양단백질 18, 스타트민, 키네신-8 및 키네신-14 패밀리, Kip3 및 Kif18A를 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다.

프로테아제의 예로는 ADAM(디스인테그린 및 메탈로프로테아제) 패밀리가 포함되지만 이에 제한되는 것은 아니다.

단백질 키나제의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: AP2 관련 키나아제, 호모 사피엔스 ABL 원발암유전자(proto-oncogene) 1 - 비-수용체 티로신-단백질 키나아제 패밀리, c-abl 종양유전자 1 수용체 티로신 키나아제 패밀리, v-abl 아벨슨 뮤린 백혈병 바이러스 종양유전자 동족체(Abelson murine leukemia viral oncogene homolog) 2, 액티빈 A 수용체 패밀리, 샤페론 - bc1 복합 동족체(S. pombe)의 ABC1 활성(chaperone - ABC1 activity of bc1 complex homolog)(ADCK3), aarF 도메인 함유 키나아제 4(ADCK4), v-akt 뮤린 흉선종 바이러스 종양유전자 동족체 패밀리(murine thymoma viral oncogene homolog 패밀리), 역형성 림프종(anaplastic lymphoma) 수용체 티로신 키나아제 패밀리, 단백질 키나아제 A 패밀리, 단백질 키나아제 B 패밀리, 앵키린 반복(ankyrin repeat) 및 키나아제 도메인 함유 1(ANKK1), NUAK 패밀리 - SNF1 유사 키나아제, 마이토젠 활성화 단백질 키나아제 키나아제 키나아제 패밀리 오로라 키나아제 A(AURKA), 오로라 키나아제 B(AURKB), 오로라 키나아제 C(AURKC), AXL 수용체 티로신 키나아제 (AXL), BMP2 유도성 키나아제(BIKE), B 림프성 티로신 키나아제(BLK), 골 형태형성(bone morphogenetic) 단백질 수용체 패밀리, BMX 비-수용체 티로신 키나아제(BMX), v-raf 뮤린 육종(sarcoma) 바이러스 종양유전자 동족체 B1(BRAF), 단백질 티로신 키나아제 6(BRK), BR 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 브루톤 무감마글로불린혈증(Bruton agammaglobulinemia) 티로신 키나아제(BTK), 칼슘/칼모듈린 의존성 단백질 키나아제 패밀리, 사이클린 의존성 키나아제 패밀리, 사이클린 의존성 키나아제 유사 패밀리, CHK1 체크포인트 동족체(S. pombe)(CHEK1), CHK2 체크포인트 동족체(S. pombe)(CHEK2), 인슐린 수용체, 동형(isoform) A(INSR), 인슐린 수용체, 동형 B(INSR), rho-상호작용 세린/트레오닌 키나아제(CIT), v-kit Hardy-Zuckerman 4 고양이 육종 바이러스 종양유전자 동족체(KIT), CDC-유사 키나아제 패밀리 - 간세포 성장 인자 수용체(MET), 원발암 유전자 티로신-단백질 키나아제 수용체, 집락 자극 인자 패밀리 수용체, c-src 티로신 키나아제(CSK) ), 카제인 키나아제 패밀리, 거핵구 관련 티로신 키나아제(CTK), 사멸 관련 단백질 키나아제 패밀리, 이중 코르틴 유사 키나아제 패밀리, 디스코이딘 도메인 수용체 티로신 키나아제, 근 긴장성 이영양증(dystrophia myotonica)-단백질 키나아제(DMPK), 이중 특이성 티로신-(Y )-인산화 조절된 키나아제 패밀리, 표피 성장 인자 수용체 패밀리, 진핵생물 번역(eukaryotic translation) 개시 인자 2-알파 키나아제 1(EIF2AK1), EPH 수용체 패밀리, 에프린 타입 A 수용체 패밀리, 에프린 타입 B 수용체 패밀리, v-erb-b2 적아구성 백혈병(erythroblastic leukemia) 바이러스 종양유전자 동족체 패밀리, 마이토젠-활성화된 단백질 키나아제 패밀리, 소포체에서 핵 신호 전달(endoplasmic reticulum to nucleus signaling) 1(ERN1), PTK2 단백질 티로신 키나아제 2(FAK), fer(fps/fes 관련) 티로신 키나아제(FER). 고양이 육종 종양유전자(FES), 섬유아세포 성장 인자 수용체 패밀리, Gardner-Rasheed 고양이 육종 바이러스(v-fgr) 종양유전자 동족체(FGR), fms 관련 티로신 키나아제 패밀리, Fms 관련 티로신 키나아제 패밀리, fyn 관련 키나아제(FRK) ), SRC와 관련된 FYN 종양 유전자, 사이클린 G 관련 키나아제(GAK), 진핵생물 번역 개시 인자 2 알파 키나아제, 성장 호르몬 수용체. G 단백질 결합 수용체 키나아제 1(GRK1), G 단백질 결합 수용체 키나아제 패밀리, 글리코겐 신타아제(glycogen synthase) 키나아제 패밀리, 생식 세포 연관 2 (haspin) (HASPIN), 조혈 세포 키나아제(HCK), 호메오도메인(homeodomain) 상호작용 단백질 키나아제 패밀리, 마이토젠- 활성화된 단백질 키나아제 키나아제 키나아제 패밀리, 호르몬으로 상향 조절된 Neu 관련 키나아제(HUNK), 장 세포(MAK-유사) 키나아제(ICK), 인슐린 유사 성장 인자 1 수용체(IGF1R), 보존 나선 루프 나선 유비쿼터스 키나아제(conserved helix-loop-helix ubiquitous kinase)(IKK) -알파), B 세포의 카파 광 폴리펩티드 유전자 인핸서 억제제 - 키나아제 베타 패밀리, 인슐린 수용체(INSR), 인슐린 수용체 관련 수용체(INSRR), 인터루킨-1 수용체 관련 키나아제 패밀리, IL2 유도성 T 세포 키나아제(ITK), Janus 키나아제 패밀리, 키나아제 삽입 도메인 수용체, v-kit Hardy-Zuckerman 4 고양이 육종 바이러스 종양유전자 동족체, 림프구 특이적 단백질 티로신 키나아제(LCK), LIM 도메인 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌 키나아제 패밀리 류신 풍부 반복 키나아제 패밀리, v-yes-1 야마구치 육종 바이러스 관련 종양유전자 동족체(LYN), 남성 생식 세포 관련 키나아제(MAK), MAP/미세소관 친화성 조절 키나아제 패밀리, 미세소관 관련 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 모체 배아 류신 지퍼 키나아제(maternal embryonic leucine zipper kinase), c-mer 원발암 유전자 티로신 키나아제 (MERTK), met 원발암유전자(간세포 성장 인자 수용체), MAP 키나아제 상호 작용 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 미오신 경쇄(myosin light chain) 키나아제 패밀리, 혼합 계통(mixed lineage) 키나아제 도메인 유사 단백질 동형, CDC42 결합 단백질 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌 키나아제 패밀리 , 대식세포 자극 1 수용체(c-met 관련 티로신 키나아제)(MST1R), 라파마이신(세린/트레오닌 키나아제)의 기계적 표적(MTOR), 근골격 수용체 티로신 키나아제(MUSK), 미오신 경쇄 키나아제 패밀리, NIMA(never in mitosis gene a) 관련 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌-단백질 키나아제 NIM1(NIM1), 네모 유사 키나아제(NLK), 산화 스트레스 반응성 1(OSR1), p21 단백질(Cdc42/Rac) 활성화 키나아제 패밀리, PAS 도메인 함유 세린/트레오닌 키나아제, 혈소판 유래 성장 인자 수용체 패밀리, 3-포스포이노시티드 의존성 단백질 키나아제-1(PDPK1), 칼슘 의존성 단백질 키나아제 1, 포스포릴라제 키나아제 감마 패밀리, 포스파티딜이노시톨(phosphatidylinositol) 4,5-비스포스페이트 3-키나아제, 포스포이노시티드-3 -키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨 4-키나아제 패밀리. 포스포이노시티드 키나아제, FYVE 핑거 함유, Pim-1 발암유전자(PIM1), pim-2 발암유전자(PIM2), pim-3 발암유전자(PIM3), 포스파티딜이노시톨-4-포스페이트 5-키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨-5-포스페이트 4-키나아제 패밀리 단백질 키나아제, 멤브레인 관련 티로신/트레오닌 1 (PKMYT1), 단백질 키나아제 N 패밀리, 폴로 유사 키나아제 패밀리, 단백질 키나아제 C 패밀리, 단백질 키나아제 D 패밀리, cGMP-의존성 단백질 키나아제 패밀리, 진핵생물 번역 개시 인자 2-알파 키나아제 2 (PRKR), X-결합 단백질 키나아제 (PRKX), 프로락틴 수용체 (PRLR), PRP4 pre-mRNA 처리 인자 4 동족체 B (yeast) (PRP4), PTK2B 단백질 티로신 키나아제 2 베타 (PTK2B), SIK 패밀리 키나아제 3 (QSK), v-raf-1 뮤린 백혈병 바이러스 종양유전자 동족체 1(RAF1), 신경영양성(Neurotrophic) 티로신 키나아제 수용체 타입 패밀리, 수용체(TNFRSF)-상호작용 세린-트레오닌 키나아제 패밀리, 이중 세린/트레오닌 및 티로신 단백질 키나아제(RIPK5), Rho -연관된 코일형 코일 함유 단백질 키나아제 패밀리, c-ros 종양유전자 1, 수용체 ty 로진 키나아제(ROS1), 리보솜 단백질 S6 키나아제 패밀리, SH3-결합 도메인 키나아제 1(SBK1), 혈청/글루코코르티코이드 조절 키나아제 패밀리, 잠정적으로 특성화되지 않은 세린/트레오닌-단백질 키나아제(Sugen 키나아제 110)(SgK110), 염유도성(salt-inducible) 키나아제 패밀리, SNF 관련 키나아제 (SNRK), src 관련 키아아제, SFRS 단백질 키나아제 패밀리, 지라(Spleen) 티로신 키나아제 (SYK), TAO 키아아제 패밀리, TANK-결합 키나아제 1 (TBK1), tec 단백질 티로신 키나아제(TEC), 테스티스(testis)-특이 키나아제 1(TESK1), 변형 성장 인자, 베타 수용체 패밀리, 면역글로불린 유사 및 EGF 유사 도메인 1이 있는 티로신 키나아제(TIE1), TEK 티로신 키나아제, 내피(TIE2), 안지오포이에틴-1 수용체(Tie2), tousled 유사 키나아제 패밀리, TRAF2 및 NCK 상호 작용 키나아제(TN IK), 비-수용체 티로신 키나아제 패밀리, TNNI3 상호 작용 키나아제(TNNI3K), 일시적 수용체 전위 양이온 채널, 테스티스-특이 세린 키나아제 패밀리, TTK 단백질 키나아제(TTK), TXK 티로신 키나아제 (TXK), 티로신 키나아제 2(TYK2), TYRO3 단백질 티로신 키나아제 (TYRO3), unc-51-유사 키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨 3-키나아제, 백신 관련 키나아제 2 (VRK2), WEE1 동족체 패밀리, WNK 리신 부족(lysine deficient) 단백질 키나아제 패밀리, v-yes-1 야마구치 육종 바이러스 종양유전자 동족체 1 (YES) 키나아제 AZK(ZAK), 멸균 알파 모티프 및 류신 지퍼 함유 키나아제 AZK(ZAK), 제타-사슬(TCR) 관련 단백질 키나아제 70(ZAP70).

외분비 상피 세포, 호르몬 분비 세포 등과 같이 내배엽에서 주로 유래하는 세포를 이용한 세포 치료제; 각질화 상피 세포, 습윤 중층 장벽 상피 세포, 감각 변환기 세포, 자율 뉴런 세포, 감각 기관 및 말초 뉴런 지지 세포, 중추 신경계 뉴런 및 신경교 세포, 수정체 세포와 같은 외배엽; 대사 및 저장 세포, 장벽 기능 세포(폐, 장, 외분비선 및 비뇨생식로), 세포외 기질 세포, 수축성 세포, 혈액 및 면역계 세포, 생식 세포, 간호사 세포, 간질 세포와 같은 중배엽 및 이들의 조합. 추가적으로, 본 발명의 범위에는 유전적으로, 화학적으로 또는 물리적으로 변경되거나 달리 수정된 세포가 포함된다.

외분비 상피 세포의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: 침샘 점액 세포, 침샘 1번(Salivary gland number 1), 혀의 폰 에브너 선 세포(Von Ebner's gland cell), 유선 세포, 누선 세포, 귀의 귀지선 세포, 에크린 땀샘 암 세포(Eccrine sweat gland dark cell), 에크린 땀샘 투명 세포(clear cell), 아포크린(Apocrine) 땀샘 세포, 눈꺼풀의 몰샘(Gland of Moll) 세포, 피지선 세포, 코의 보우만선(Bowman's gland) 세포, 십이지장내 브루너선(Brunner's gland) 세포, 정낭 세포, 전립선 세포, 구요도선(Bulbourethral gland) 세포, 바르톨린선(Bartholin's gland) 세포, 리트르샘(Gland of Littre) 세포, 자궁 내막 세포, 호흡기 및 소화관의 분리된 배상(Isolated goblet) 세포, 위 라이닝 점액(Stomach lining mucous) 세포, 위선 효소원 세포, 위선 벽 세포(Gastric gland oxyntic cell), 췌장 포상 세포, 소장의 파네트(Paneth) 세포, 폐의 타입 II 폐포세포(pneumocyte), 폐의 클라라(Clara) 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 호르몬 분비 세포: 뇌하수체 전엽 세포, 뇌하수체 중간 세포, 대세포 신경분비 세포, 소화관 및 호흡기 세포, 갑상선 세포, 부갑상선 세포, 부신 세포, 테스토스테론을 분비하는 고환의 라이디히(Leydig) 세포, 에스트로겐을 분비하는 난포의 내부 포막 세포(Theca internal cell), 프로게스테론을 분비하는 파열된 난포의 황체(Corpus luteum) 세포, 사구체 인접 세포(Juxtaglomerular cell), 신장의 치밀반점(Macula densa) 세포, 신장의 극주위(Peripolar) 세포, 신장의 혈관사이(Mesangial) 세포, 췌장 소도(Pancreatic islets); 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 각질화 상피(Keratinizing epithelial) 세포: 표피 각질 세포, 표피 기저 세포, 손톱과 발톱의 각질 세포, 손발톱 바닥 기저 세포, 수질 털줄기(Medullary hair shaft) 세포, 피질(Cortical) 털출기 세포, 각피(Cuticular) 털줄기 세포, 각피 모근 초상(Cuticular hair root sheath) 세포, 헉슬리층(Huxley's layer)의 모근 초상 세포, 헨레층(Henle's layer)의 모근 초상 세포, 외부 모근 초상 세포, 모발 기질(Hair matrix) 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 습윤 중층 장벽 상피 세포(Wet stratified barrier epithelial cells): 각막, 혀, 구강, 식도, 항문관, 원위 요도 및 질의 중층 편평 상피의 표면 상피 세포와 상피의 기저 세포, 비뇨기 상피 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 감각 변환기 세포: 코르티 기관의 청각 내유모 세포, 코르티 기관의 청각 외유모 세포, 후각 상피의 기저 세포, 냉감성 1차 감각 뉴런, 열 민감성 1차 감각 뉴런, 표피의 메르켈 세포, 후각 수용체 뉴런, 통증 민감성 1차 감각뉴런, 눈 망막의 광수용체 세포, 고유수용성 1차 감각 뉴런, 촉각 민감성 1차 감각 뉴런, 제1형 경동맥 체세포, 제2형 경동맥 체세포, 귀 전정계의 제1형 유모 세포, 귀 전정계의 제2형 유모 세포, 및 제1형 미뢰 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 자율 신경 세포: 콜린성 신경 세포(Cholinergic neural cell), 아드레날린성 신경 세포, 펩티드성 신경 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 감각 기관 및 말초 뉴런 지원 세포: 코르티 기관의 내부 주상 세포(Inner pillar cell), 코르티 기관의 외부 주상 세포, 코르티 기관의 내부 지골 세포(phalangeal cell), 코르티 기관의 외부 지골 세포, 코르티 기관의 경계 세포, 코르티 기관의 헨센(Hensen) 세포, 전정 기관 지지 세포, 미뢰 지지 세포, 후각 상피 지지 세포, 슈반(Schwann) 세포, 위성 아교 세포, 장 아교 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 중추 신경계 뉴런 및 신경아교 세포: 성상교세포(Astrocyte), 뉴런 세포, 희소돌기아교세포(Oligodendrocyte), 스핀들 뉴런; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 수정체 세포: 전방 수정체 상피 세포, 크리스탈린 함유 수정체 섬유 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 대사 및 저장 세포: 지방세포: 간 지방세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 장벽 기능 세포: 신장 벽세포, 신장 사구체 다리세포, 신장 근위 세뇨관 브러시 경계 세포(Kidney proximal tubule brush border cell), 헨레 고리의 세구역 세포(Loop of Henle thin segment cell), 신장 원위 세뇨관 세포, 신장 집합관 세포, 주세포, 개재 세포(Intercalated cells), 타입 I 폐세포, 췌관 세포, 비-줄무늬관 세포(Nonstriated duct cell), 주세포, 개재세포, 관 세포, 장 브러시 경계 세포, 외분비선 줄무늬 관 세포, 담낭 상피 세포, 고환날세관 비섬모 세포(Ductulus efferens nonciliated cell), 부고환 주 세포, 부고환 기저 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 세포외 기질 세포: 에나멜 아세포 상피 세포(Ameloblast epithelial cell), 귀의 전정계의 반달면(Planum semilunatum) 상피 세포, 코르티 기관 치간 상피 세포, 소성 결합 조직 섬유아세포(Loose connective tissue fibroblasts), 각막 섬유아세포, 힘줄 섬유아세포, 골수 망상 조직 섬유아세포, 기타 비상피 섬유아세포, 혈관주위세포, 추간판의 수핵 세포, 시멘트아세포/시멘트세포(Cementoblast/cementocyte), 상아질모세포/상아아세포(Odontoblast/odontocyte), 유리질연골 연골세포(Hyaline cartilage chondrocyte), 섬유연골 연골세포, 탄성연골 연골세포, 골아세포/골세포(Osteoblast/osteocyte), 골조상세포, 눈의 유리체의 유리체세포, 귀의 외림프 공간의 성상(Stellate) 세포, 간 성상 세포, 및 췌장 스텔레(stelle) 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 수축성 세포: 골격근 세포, 위성 세포, 심근 세포, 평활근 세포, 홍채의 근상피 세포, 및 외분비선의 근상피 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 혈액 및 면역계 세포: 적혈구, 거핵구(Megakaryocyte), 단핵구, 결합조직 대식세포, 상피 랑게르한스(Epidermal Langerhans) 세포, 파골세포, 수지상 세포, 미세아교(Microglial) 세포, 호중성 과립구(Neutrophil granulocyte), 호산성(Eosinophil) 과립구, 호염기성(Basophil) 과립구, 하이브리도마 세포, 비만 세포, 헬퍼 T 세포, 억제 T 세포, 세포독성 T 세포, 자연 살해 T 세포, B 세포, 자연 살해 세포, 망상적혈구, 혈액 및 면역계에 대한 줄기 세포, 및 수임 전구체; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 생식 세포: 난원세포/난모세포, 정자세포, 정모세포, 정조 세포, 정자; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 간호 세포: 난포(Ovarian follicle) 세포, 세르톨리(Sertoli) 세포, 흉선 상피 세포; 다음을 포함하지만 이에 제한되지 않는 간질 세포: 간질 신장 세포 및 상기한 것의 임의의 조합.

비제한적인 예로서 기타 알려진 생물학적 제제의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: 아보시나기스(Abbosynagis), 아베그린(Abegrin), 악템라(Actemra), AFP-시드(Cide), 안토바(Antova), 아제라(Arzerra), 오렉시스(Aurexis), 아바스틴(Avastin), 벤리스타(Benlysta), 벡사르(Bexxar), 블론트레스(Blontress), 보사트리아(Bosatria), 캄파스(Campath), CEA-시드, CEA-스캔, 심지아(Cimzia), 사이람자(Cyramza), 엑토맙(Ektomab), 얼비툭스(Erbitux), 피브리신트(FibriScint), 가즈이바(Gazyva), 허셉틴(Herceptin), hPAM4-시드, 휴마스펙트(HumaSPECT), 휴맥스(HuMax)-CD4, 휴맥스-EGFr, 휴미라(Humira), HuZAF, 하이브리-시커(Hybri-ceaker), 일라리스(Ilaris), 인디마시스(Indimacis)-125, 캐드사일라(Kadcyla), 렘트라다(Lemtrada), 류카레스트(LeukArrest), 류코스캔(LeukoScan), 루센티스(Lucentis), 림포뮨(Lymphomun), 림포스캔(LymphoScan), 림포스타트(LymphoStat-B), 맙테라(MabThera), 마이코그랩(Mycograb), 마일로타그(Mylotarg), 마이오신트(Myoscint), 뉴트로스펙(NeutroSpec), 누맥스(Numax), 누비온(Nuvion), 옴니타르그(Omnitarg), 옵디보(Opdivo), 오르토클론(Orthoclone) OKT3, 오바렉스(OvaRex), 파노렉스(Panorex), 프롤리아(Prolia), 프로스타신트(Prostascint), 랍티바(Raptiva), 레미케이드(Remicade), 레모밥(Removab), 렌카렉스(Rencarex), 레오프로(ReoPro), 렉소뮨(Rexomun), 리툭산Rituxan, 로악템라RoActemra, 신티문(Scintimun), 심포니(Simponi), 시뮬렉트(Simulect), 솔리리스(Soliris), 스텔라라(Stelara), 시나기스(Synagis), 텍트레스(Tactress), 테라심(Theracim), 테라긴(Theragyn), 테라록(Theraloc), 티사브리(Tysabri), 벡티빅스(Vectibix), 벨루마(Verluma), 졸레르(Xolair), 예르보이(Yervoy), 제나팍스(Zenapax) 및 제바린(Zevalin) 및 이들의 조합.

비제한적인 예로서 알려진 단일클론 항체의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: 3F8, 8H9, 아바고보맙(Abagovomab), 압식시맙(Abciximab), 아비투주맙(Abituzumab), 아브릴루맙(Abrilumab), 악톡수맙(Actoxumab), 아달리무맙(Adalimumab), 아데카투무맙(Adecatumumab), 아두카누맙(Aducanumab), 아파세비쿠맙(Afasevikumab), 아펠리모맙(Afelimomab), 아푸투주맙(Afutuzumab), 알라시주맙 페골(Alacizumab pegol), ALD518, ALD403, 알렘투주맙(Alemtuzumab), 아릴로쿠맙(Alirocumab), 알투모밥 펜테토산(Altumomab pentetate), 아마투시맙(Amatuximab), AMG334, 아난투모밥 마페나톡스(Anatumomab mafenatox), 아네투맙 라브탄신(Anetumab ravtansine), 아니프롤루맙(Anifrolumab), 안루킨주맙(Anrukinzumab), 아폴리주맙(Apolizumab), 아르시투모맙(Arcitumomab), 아스린바쿠맙(Ascrinvacumab), 아셀리주맙(Aselizumab), 아테졸리주맙(Atezolizumab), 아티누맙(Atinumab, 아틀리주맙(Atlizumab), 아토롤리무맙(Atorolimumab), 아벨루맙(Avelumab), 바피누주맙(Bapineuzumab), 바실릭시맙(Basiliximab), 바비툭시맙(Bavituximab), 벡투모맙(Bectumomab), 베겔로맙(Begelomab), 벨리무맙(Belimumab), 베네랄리주맙(Benralizumab), 베르틸리무맙(Bertilimumab), 베시레소맙(Besilesomab), 베바시주맙(Bevacizumab), 벤즐로톡수맙(Bezlotoxumab), 비시로맙(Biciromab), 비마그루맙(Bimagrumab), 비베키주맙(Bimekizumab), 비바투주맙 메르탄신(Bivatuzumab mertansine), 블레셀루맙(Bleselumab), 블리나투모맙(Blinatumomab), 블론투베트맙(Blontuvetmab), 블로소주맙(Blosozumab), 보코시주맙(Bococizumab), 브라지쿠맙(Brazikumab), 브렌툭시맙 베도틴(Brentuximab vedotin), 브리아키누맙(Briakinumab), 브로달루맙(Brodalumab), 브롤루시주맙(Brolucizumab), 브론틱투주맙(brontictuzumab), 부로스맙(Burosumab), 카비랄리주맙(Cabiralizumab), 카나키누맙(Canakinumab), 칸투주맙 메르탄신(cantuzumab mertansine), 칸투주맙 라브탄신(cantuzumab ravtansine), 카플라시주맙(Caplacizumab), 카프로맙 펜데티드(Capromab pendetide), 카를루맙(Carlumab), 카로툭시맙(Carotuximab), 카투막소맙(Catumaxomab), cBR96-독소루비신 면역컨쥬게이트(cBR96-doxorubicin immunoconjugate), 세델리주맙(Cedelizumab), 세르구투주맙 아무날루킨(Cergutuzumab amunaleukin), 세르톨리주맙 페골(Certolizumab pegol), 세툭시맙(Cetuximab), 시타투주맙 보가톡스(Citatuzumab bogatox), 시수투무맙(Cixutumumab), 클라자키주맙(Clazakizumab), 클레놀릭시맙(Clenoliximab), 클리바투주맙 테트라세탄(Clivatuzumab tetraxetan), 코드리투주맙(Codrituzumab), 콜툭시맙 라브탄신(coltuximab ravtansine), 코나투무맙(conatumumab), 콘시주맙(concizumab), CR6261, 크레네주맙(Crenezumab), 크로테두맙(Crotedumab), 다세투주맙(Dacetuzumab), 다클리주맙(Daclizumab), 달로투주맙(Dalotuzumab), 다피롤리주맙 페골(Dapirolizumab pegol), 다라투무맙(Daratumumab), 덱트레쿠맙(Dectrekumab), 뎀시주맙(Demcizumab), 데닌투주맙 마포도틴(Denintuzumab mafodotin), 데노수맙(Denosumab), 데파툭시주맙 마포도틴(Depatuxizumab mafodotin), 데를로툭시맙 비오틴(Derlotuximab biotin), 데투모밥(Detumomab), 디누툭시맙(Dinutuximab), 디리다부맙(Diridavumab), 도마그로주맙(Domagrozumab), 도리모맙 아리톡스(Dorlimomab aritox), 드로지투맙(Drozitumab), 둘리고투맙(Duligotumab), 두필루맙(Dupilumab), 두르발루맙(Durvalumab), 두시기투맙(Dusigitumab), 에크로멕시맙(Ecromeximab), 에쿨리주맙(Eculizumab), 에도바코맙(Edobacomab), 에드레콜로맙(Edrecolomab), 에팔리주맙(Efalizumab), 에푼구맙(Efungumab), 엘델루맙(Eldelumab), 엘젬투맙(Elgemtumab), 엘로투주맙(Elotuzumab), 엘실리모맙(Elsilimomab), 에막투주맙(Emactuzumab), 에미베투주맙(Emibetuzumab), 에미시주맙(Emicizumab), 에나바투주맙(Enavatuzumab), 엔포르투맙 베도틴(Enfortumab vedotin), 엔리모맙 페골(Enlimomab pegol), 에노블리투주맙(Enoblituzumab), 에노키주맙(Enokizumab), 에노티쿠맙(Enoticumab), 엔시투시맙(Ensituximab), 에피투모맙 시툭세탄(Epitumomab cituxetan), 에프라투주맙(Epratuzumab), 에렌누맙(Erenumab), 에를리주맙(Erlizumab), 에르투막소맙(Ertumaxomab), 에타라시주맙(Etaracizumab), 에트롤리주맙(Etrolizumab), 에미나쿠맙(Evinacumab), 에볼로쿠맙(Evolocumab), 엑스비비루맙(Exbivirumab), 파놀레소맙(Fanolesomab), 파랄리모맙(Faralimomab), 파를레투주맙(Farletuzumab), 파시누맙(Fasinumab), FBTA05, 펠비주맙(Felvizumab), 페자키누맙(Fezakinumab), 피바투주맙(Fibatuzumab), 피클라투주맙(Ficlatuzumab), 피기투무맙(Figitumumab), 피리부맙(Firivumab), 플란보투맙(Flanvotumab), 플레티쿠맙(Fletikumab), 폰톨리주맙(Fontolizumab), 포랄루맙(Foralumab), 포라비루맙(Foravirumab), 프레솔리무맙(Fresolimumab), 풀라누맙(Fulranumab), 퓨툭시맙(Futuximab), 갈카네주맙(Galcanezumab), 갈릭시맙(Galiximab), 가니투맙(Ganitumab), 간테네루맙(Gantenerumab), 가빌리모맙(Gavilimomab), 젬투주맙 오조가미신(Gemtuzumab ozogamicin), 게보키주맙(Gevokizumab), 기렌툭시맙(Girentuximab), 글렘바투무맙 베도틴(Glembatumumab vedotin), 골리무맙(Golimumab), 고밀릭시맙(Gomiliximab), 구셀쿠맙(Guselkumab), 이발리주맙(Ibalizumab), 이브리투모맙 티욱세탄(Ibritumomab tiuxetan), 이크루쿠맙(Icrucumab), 이다루시주맙(Idarucizumab), 이고보맙(Igovomab), IMA-638, IMAB362, 이말루맙(Imalumab), 임시로맙(Imciromab), 임가투주맙(Imgatuzumab), 인클라쿠맙(Inclacumab), 인다툭시맙 라브탄신(Indatuximab ravtansine), 인투사투맙 베도틴(Indusatumab vedotin), 이네빌리주맙(Inebilizumab), 인플릭시맙(Infliximab), 이놀리모맙(Inolimomab), 이노투주맙 오조가미신(Inotuzumab ozogamicin), 인테투무맙(Intetumumab), 이필리무맙(Ipilimumab), 이라투무맙(Iratumumab), 이사툭시맙(Isatuximab), 이톨리주맙(Itolizumab), 익세키주맙(Ixekizumab), 켈릭시맙(Keliximab), 라베투주맙(Labetuzumab), 람브롤리주맙(Lambrolizumab), 람팔리주맙(Lampalizumab), 라나델루맙(Lanadelumab), 란도그로주맙(Landogrozumab), 라프리툭시맙 엠탄신(Laprituximab emtansine), LBR-101/PF0442g7429, 리브리키주맙(Lebrikizumab), 레말레소맙(Lemalesomab), 렌달리주맙(Lendalizumab), 렌질루맙(Lenzilumab), 레르델리무맙(Lerdelimumab), 렉사투무맙(Lexatumumab), 리비비루맙(Libivirumab), 리파스투주맙 베도틴(Lifastuzumab vedotin), 리겔리주맙(Ligelizumab), 릴로토맙 사테트락세탄(Lilotomab satetraxetan), 린투주맙(Lintuzumab), 리리루맙(Lirilumab), 로델시주맙(Lodelcizumab), 로키베트맙(Lokivetmab), 로르보투주맙 메르탄신(Lorvotuzumab mertansine), 루카투무맙(Lucatumumab), 룰리주맙 페골(Lulizumab pegol), 루밀릭시맙(Lumiliximab), 룸레투주맙(Lumretuzumab), LY2951742, 마파투무맙(Mapatumumab), 마르게툭시맙(Margetuximab), 마슬리모맙(Maslimomab), 마투주맙(Matuzumab), 마브릴리무맙(Mavrilimumab), 메폴리주맙(Mepolizumab), 메텔리무맙(Metelimumab), 밀라투주맙(Milatuzumab), 민레투모맙(Minretumomab), 미르베툭시맙 소라브탄신(Mirvetuximab soravtansine), 미투모맙(Mitumomab), 모가물리주맙(Mogamulizumab), 모날리주맙(Monalizumab), 모롤리무맙(Morolimumab), 모타비주맙(Motavizumab), 목세투모맙 파수도톡스(Moxetumomab pasudotox), 무로모나브(Muromonab)-CD3, 나콜로맙 타페나톡스(Nacolomab tafenatox), 나밀루맙(Namilumab), 나프투모맙 에스타페낱톡스(Naptumomab estafenatox), 나라툭시맙 엠탄신(Naratuximab emtansine), 나르나투맙(Narnatumab), 나탈리주맙(Natalizumab), 나비식시주맙(Navicixizumab), 나비부맙(Navivumab), 네바쿠맙(Nebacumab), 네시투무맙(Necitumumab), 네몰리주맙(Nemolizumab), 네렐리모맙(Nerelimomab), 네스바쿠맙(Nesvacumab), 니모투주맙(Nimotuzumab), 니볼루맙(Nivolumab), 노페투모맙 메르펜탄(Nofetumomab merpentan), 오빌톡사시맙(Obiltoxaximab), 이비누투주맙(Obinutuzumab), 오카라투주맙(Ocaratuzumab), 오클레리주맙(Ocrelizumab), 오둘리모맙(Odulimomab), 오파투무맙(Ofatumumab), 올라라투맙(Olaratumab), 올로키주맙(Olokizumab), 오말리주맙(Omalizumab), 오나르투주맙(Onartuzumab), 온툭시주맙(Ontuxizumab), 오피시누맙(Opicinumab), 오포르투주맙 모나톡스(Oportuzumab monatox), 오레고보맙(Oregovomab), 오르티쿠맙(Orticumab), 오텔릭시주맙(Otelixizumab), 오틀레르투주맙(Otlertuzumab), 옥셀루맙(Oxelumab), 오자네주맙(Ozanezumab), 오졸랄리주맙(Ozoralizumab), 파기박시맙(Pagibaximab), 팔리비주맙(Palivizumab), 팜레블루맙(Pamrevlumab), 파니투무맙(Panitumumab), 판코맙(Pankomab), 파노바쿠맙(Panobacumab), 파르사투주맙(Parsatuzumab), 파스콜리주맙(Pascolizumab), 파소툭시주맙(Pasotuxizumab), 파테클리주맙(Pateclizumab), 파트리투맙(Patritumab), 펨브롤리주맙(Pembrolizumab), 펨투모맙(Pemtumomab), 페라키주맙(Perakizumab), 페르투주맙(Pertuzumab), 펙셀리주맙(Pexelizumab), 피딜리주맙(Pidilizumab), 피나투주맙 베도틴(Pinatuzumab vedotin), 핀투모맙(Pintumomab), 플라쿨루맙(Placulumab), 플로잘리주맙(Plozalizumab), 포칼리주맙(Pogalizumab), 폴라투주맙 베도틴(Polatuzumab vedotin), 포네주맙(Ponezumab), 프레잘리주맙(Prezalizumab), 프릴릭시맙(Priliximab), 프리톡사시맙(Pritoxaximab), 프리투무맙(Pritumumab), PRO 140, 퀼리주맙(Quilizumab), 라코투모맙(Racotumomab), 라드레투맙(Radretumab), 라피비루맙(Rafivirumab), 랄판시주맙(Ralpancizumab), 라무시루맙(Ramucirumab), 라니비주맙(Ranibizumab), 락식바쿠맙(Raxibacumab), 레파네주맙(Refanezumab), 레가비루맙(Regavirumab), 레슬리주맙(Reslizumab), 릴로투무맙(Rilotumumab), 리누쿠맙(Rinucumab), 리산키주맙(Risankizumab), 리툭시맙(Rituximab), 리바바주맙 페골(Rivabazumab pegol), 로바투무맙(Robatumumab), 롤레두맙(Roledumab), 로모소주맙(Romosozumab), 론탈리주맙(Rontalizumab), 로발피투주맙 테시린(Rovalpituzumab tesirine), 로벨리주맙(Rovelizumab), 루필주맙(Ruplizumab), 사시투주맙 고비테칸(Sacituzumab govitecan), 사말리주맙(Samalizumab), 사펠리주맙(Sapelizumab), 사릴루맙(Sarilumab), 사투모맙 펜데티드(Satumomab pendetide), 세쿠키누맙(Secukinumab), 세리반투맙(Seribantumab), 세톡사시맙(Setoxaximab), 세비루맙(Sevirumab), SGN-CD19A, SGN-CD33A, 시브로투주맙(Sibrotuzumab), 시팔리무맙(Sifalimumab), 실툭시맙(Siltuximab), 심투주맙(Simtuzumab), 시플리주맙(Siplizumab), 시루쿠맙(Sirukumab), 소피투주맙 베도틴(Sofituzumab vedotin), 솔라네주맙(Solanezumab), 솔리토맙(Solitomab), 소네프시주맙(Sonepcizumab), 손투주맙(Sontuzumab), 스타물루맙(Stamulumab), 술레소맙(Sulesomab), 수비주맙(Suvizumab), 타발루맙(Tabalumab), 타카투주맙 테트락세탄(Tacatuzumab tetraxetan), 타도시주맙(Tadocizumab), 탈리주맙(Talizumab), 탐투베트맙(Tamtuvetmab), 타네주맙(Tanezumab), 타플리투모맙 파프톡스(Taplitumomab paptox), 타렉스투맙(Tarextumab), 페피바주맙(Tefibazumab), 텔리모맙 아리톡스(Telimomab aritox), 테나투모맙(Tenatumomab), 테넬릭시맙(Teneliximab), 테플리주맙(Teplizumab), 테프로투무맙(Teprotumumab), 테시돌루맙(Tesidolumab), 테툴로맙(Tetulomab), 테제펠루맙(Tezepelumab), TGN1412, 티실리무맙(Ticilimumab), 티가투주맙(Tigatuzumab), 틸드라키주맙(Tildrakizumab), 티몰루맙(Timolumab), 티소투맙 베도틴(Tisotumab vedotin), TNX-650, 토실리주맙(Tocilizumab), 토랄리주맙(Toralizumab), 토사톡수맙(Tosatoxumab), 토시투모맙(Tositumomab), 토베투맙(Tovetumab), 트랄로키누맙(Tralokinumab), 트라스투주맙(Trastuzumab), 트라스투주맙 엠탄신(Trastuzumab emtansine), TRBS07, 트레칼리주맙(Tregalizumab), 트레멜리무맙(Tremelimumab), 트레보그루맙(Trevogrumab), 투쿠투주맙 셀몰레우킨(Tucotuzumab celmoleukin), 투비루맙(Tuvirumab), 우블리툭시맙(Ublituximab), 울로쿠플루맙(Ulocuplumab), 우렐루맙(Urelumab), 우르톡사주맙(Urtoxazumab), 우스테키누맙(Ustekinumab), 우토밀루맙(Utomilumab), 바다스툭시맙 탈리린(Vadastuximab talirine), 반도르투주맙 베도틴(Vandortuzumab vedotin), 반틱투맙(Vantictumab), 바누시주맙(Vanucizumab), 바팔릭시맙(Vapaliximab), 바릴루맙(Varlilumab), 바텔리주맙(Vatelizumab), 베돌리주맙(Vedolizumab), 벨투주맙(Veltuzumab), 베팔리모맙(Vepalimomab), 베센쿠맙(Vesencumab), 비실리주맙(Visilizumab), 보발리리주맙(Vobarilizumab), 볼로식시맙(Volociximab), 보르세투주맙 마포도틴(Vorsetuzumab mafodotin), 보투무맙(Votumumab), 젠투주맙(Xentuzumab), 잘루투무맙(Zalutumumab), 자놀리무맙(Zanolimumab), 자툭시맙(Zatuximab), 지랄리무맙(Ziralimumab), 및 졸리모맙 아리톡스(Zolimomab aritox) 및 이들의 조합.

바이러스성 질병을 위해 개발된 백신의 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: A형 간염 백신, B형 간염 백신, E형 간염 백신, HPV 백신, 인플루엔자 백신, 일본뇌염 백신, MMR 백신, MMRV 백신, 소아마비 백신, 광견병 백신, 로타바이러스 백신, 수두 백신, 대상포진 백신, 천연두 백신, 황열병 백신, 아데노바이러스 백신, 콕사키 B 바이러스 백신, 사이토메갈로바이러스 백신, 인간용 뎅기열 백신, 인간용 동부 말 뇌염 바이러스 백신, 에볼라 백신, 엔테로바이러스 71 백신, 엡스타인-바 백신, C형 간염 백신, HIV 백신, 인간용 HTLV-1 T-림프성 백혈병 백신, 마르부르크 바이러스 질병 백신, 노로바이러스 백신, 인간용 호흡기 세포융합 바이러스 백신, 중증 급성 호흡기 증후군(SARS) 백신, 인간용 웨스트 나일 바이러스 백신; 세균성 질병의 예에는 다음이 포함되지만 이에 제한되는 것은 아니다: 탄저병 백신, DPT 백신, Q열 백신, Hib 백신, 결핵(BCG) 백신, 수막구균 백신, 장티푸스 백신, 폐렴구균 결합백신, 폐렴구균 다당 백신, 콜레라 백신, 우식증 백신, 에를리히증 백신, 나병 백신, 라임병 백신, 포도상구균 아우레우스 백신, 화농연쇄구균 백신, 매독 백신, 야토병 백신, 페스트균 백신; 기생충 질환의 예에는 다음이 포함되지만 이에 제한되는 것은 아니다: 말라리아 백신, 주혈흡충증 백신, 샤가스병 백신, 구충 백신, 인간용 회선사상충증 하천 실명증 백신(Onchocerciasis river blindness vaccine for humans), 트리파노소마증 백신, 내장 리슈만편모충증 백신; 비감염성 질병의 예에는 다음이 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다: 알츠하이머병 아밀로이드 단백질 백신, 유방암 백신, 난소암 백신, 전립선암 백신, T-VEC(Talimogene laherparepvec); 또한 다음 상품명을 포함하되 , 이에 제한되지 않는 백신: ACAM2000, ActHIB, Adacel, Afluria, AFLURIA QUADRIVALENT, Agriflu, BCG Vaccine, BEXSERO, Biothrax, Boostrix, Cervarix, Comvax, DAPTACEL, DECAVAC, Engerix-B, FLUAD, Fluarix, Fluarix Quadrivalent, Flublok, Flucelvax, Flucelvax Quadrivalent, FluLaval, FluMist, FluMist Quadrivalent, Fluvirin, Fluzone Quadrivalent, Fluzone, Fluzone High-Dose and Fluzone Intradermal, Gardasil, Gardasil 9, Havrix, Hiberix, Imovax, Infanrix, IPOL, Ixiaro, JE-Vax, KINRIX, Menactra, MenHibrix, Menomune-A/C/Y/W-135, Menveo, M-M-R II, M-M-Vax, Pediarix, PedvaxHIB, Pentacel, Pneumovax 23, Poliovax, Prevnar, Prevnar 13, ProQuad, Quadracel, Quadrivalent, RabAvert, Recombivax HB, ROTARIX, RotaTeq, TENIVAC, TICE BCG, Tripedia, TRUMENBA, Twinrix, TYPHIM Vi, VAQTA, Varivax, Vaxchora, Vivotif, YF-Vax, Zostavax 및 이들의 조합.

주사 가능한 약물의 예에는 다음이 포함되지만, 이에 제한되는 것은 아니다: 아블라바르(Ablavar) (가도포스베세트 삼나트륨주사제), 알바렐릭스 데포, 아보보툴리늄톡신 A 주사제, ABT-263, ABT-869, ABX-EFG, 악세레트로핀(소마트로핀 주사제), 아세타도트(아세틸시스테인 주사제), 아세타졸아미드 주사제 (아세타졸아미드 주사제), 아세틸시스테인 주사제(아세타도트), 악템라(토실리주맙 주사세), 악트렐(주사용 코르티코렐린 오빈트리플루테이트), 악툼뮨(Actummune), 악티바제, 주사용 아시클로버(조비락스 주사제), 아다셀, 아달리무맙, 아데노스칸(아데노신 주사제), 아데노신 주사제(아데노스칸), 아드레나클릭, 아드레뷰 (정맥내용 이오벤구안 1123 주사제), 아플루리아, Ak-플루오르(플루오레세인 주사제), 알듀라자임(라로니다제), 알글루세라제 주사제(세레다제), 알케란 주사세(멜팔란 HCl 주사제), 주사용 알로퓨리놀 나트륨(알로프림), 알로프림(주사용 알로퓨리놀 나트륨), 알프로스타딜, 알슈마(슈마트립탄 주사제), ALTU-238, 아미노산 주사제, 아미노신, 아피드라, 아프레밀라스트, 주사용 알프로스타딜 이중 챔버 시스템(카베르젝트 임펄스), AMG 009, AMG 076, AMG 102, AMG 108, AMG 114, AMG 162, AMG 220, AMG 221, AMG 222, AMG 223, AMG 317, AMG 379, AMG 386, AMG 403, AMG 477, AMG 479, AMG 517, AMG 531, AMG 557, AMG 623, AMG 655, AMG 706, AMG 714, AMG 745, AMG 785, AMG 811, AMG 827, AMG 837, AMG 853, AMG 951, 아미오다론 HCl 주사제(아미오다론 HCl 주사제), 아모바르비탈 나트륨 주사제(아미탈 나트륨), 아미탈 나트륨(아모바르비탈 나트륨 주사제), 아나킨라, 안티-A베타, 안티-베타7, 안티-베타20, 안티-CD4, 안티-CD20, 안티-CD40, 안티-IFN알파, 안티 -IL13, 안티-OX40L, 안티-oxLDS, 안티-NGF, 안티-NRP1, 아릭스트라, 암파다제(히알루로니다제 주사제), 암모뉼(페닐아세트산나트륨 및 벤조산나트륨 주사제), 아나프록스, 안제메트 주사제(돌라세트론 메실레이트 주사제), 아피드라(인슐린 글루리신[rDNA근원] 주사제), 아포맙, 아라네스프(다르베포에틴 알파), 아르가트로반(아르가트로반 주사제), 아르기닌 염산염 주사제(R-진(Gene) 10), 아리스토코트, 아리스토스판, 삼산화비소 주사제(트리세녹스), 아르티칸 HCl 및 에피네프린 주사제(셉토카인), 아르제라(오파투무맙 주사제), 아스클레라(폴리도칸올 주사제), 아탈루렌, 아탈루렌-DMD, 아테놀롤 주사제(테노르민 정맥내 주사제), 아트라큐리움 베실레이트 주사제(아트라큐리움 베실레이트 주사제), 아바스틴, 아작탐 주사제(아즈트레오남 주사제), 아지트로마이신(지트로막스 주사제), 아즈트레오남 주사제(아작탐 주사제), 박클로펜 주사제(리오레살 척수강내), 정균수(주사용 정균수), 박클로펜주사제(리오레살 척수강내), 발 인 오일(Bal in Oil) 앰플(디메르카르프롤 주사제), BayHepB, BayTet,베나드릴, 벤다무스틴 염산염 주사제(트린다), 벤즈트로핀 메실산염 주사제(코겐틴), 베타메타손 주사용 현탁액(셀레스톤 솔루스판), 벡사르, 바이실린 C-R 900/300(페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인 주사제), 블레녹산(블레오마이신 황산염 주사제), 블레오마이신 황산염 주사제(블레녹산), 보니바 주사제(이반드로네이트 나트륨 주사제), 보톡스 코스메틱(주사용 오나보툴리늄톡신A), BR3-FC, 브라벨(유로폴리트로핀 주사제), 브레틸리움(브레틸리움 토실레이트 주사제), 브레비탈 나트륨(주사용 메토헥시탈 나트륨), 브레틴, 브리오바셉트, BTT-1023, 부피바카인 HCl, 바이에타, Ca-DTPA(펜테테이트 칼슘 삼나트륨 주사제), 카바지탁셀 주사제(제브타나), 카페인 알칼로이드(카페인 및 벤조산나트륨 주사제), 칼시젝스 주사제(칼시트롤), 칼시트롤(칼시젝스 주사제), 염화칼슘(염화칼슘 주사제 10%), 칼슘 이나트륨 베세네이트(에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제), 캄파스(알템투주맙), 캄프토사르 주사제(이리노테칸 염산염), 카나키누맙 주사제(일라리스), 카파스타트 황산염(주사용 카프레오마이신), 주사용 카프레오마이신(카파스타트 황산염), 카르디오라이트(주사용 테크네튬 Tc99 세스타미비용 프렙 키트), 카르티셀, 카트플로, 주사용 세파졸린 및 덱스트로스(세파졸린 주사제), 세페핌 염산염, 세포탁심, 세프트리악손, 세레자임, 카르니토르 주사제, 카베르젝트, 셀레스톤 솔루스판, 셀시오르, 세레빅스(포스페니토인 나트륨 주사제), 세레다제(알글루세라제 주사제), 세레텍(테크네튬 Tc99m 엑사메타짐 주사제), 세르톨리주맙, CF-101, 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트(클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제), 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제(클로람페니콜 나트륨 숙시네이트), 콜레스타겔(콜레세벨람 HCL), 코리오고나도트로핀 알파 주사제(오비드렐), 심지아, 시스플라틴(시스플라틴 주사제), 클로라르(클로파라빈 주사제), 클로미핀시트레이트, 클로니딘 주사제(듀라클론), 코겐틴(벤즈트로핀 메실레이트 주사제), 콜리스티메테이트 주사제(콜리-마이신 M), 콜리-마이신 M(콜리스티메테이트 주사제), 콤파스, 코니밥탄 HCl 주사제(바프리솔), 주사용 접합 에스트로겐(프레마린 주사제), 코팍손, 주사용 코티코렐린 오바인 트리플루테이트(악트렐), 코버트(이부틸라이드 푸마레이트 주사제), 쿠비신(답토마이신 주사제), CF-101, 사이아노키트(주사용 하이드록소코발라민), 사이타라빈 리포좀 주사세(데포사이트), 사이아노코발라민, 사이토벤(간시클로버), D.H.E. 45, 다세투주맙, 다코겐(데시타빈 주사제), 달테파린, 단트리움 정맥내용(주사용 단트롤렌 나트륨), 주사용 단트롤렌 나트륨(단트리움 정맥내용), 답토마이신 주사제(쿠비신), 다르베포이에틴 알파, DDAVP 주사제(데스모프레신 아세테이트 주사제), 데카박스, 데시타빈 주사제(다코겐), 무수 알코올(무수 알코올 주사제), 데노수맙 주사제(프롤리아), 델라테스트릴, 델레스트로겐, 델테파린 나트륨, 데파콘(발프로에이트 나트륨 주사제), 데포 메드롤(메틸프레드니솔론 아세테이트 주사용 현탁액), 데포사이트(사이타라빈 리포솜 주사제), 데포두르(황산몰핀 XR 리포솜 주사제), 데스모프레신 아세테이트 주사제(DDAVP 주사제), 데포-에스트라디올, 데포-프로베라 104 mg/ml, 데포-프로베라 150 mg/ml, 데포-테스토스테론, 주사용 덱스라족산, 정맥내 주사 전용(토텍트), 덱스트로스/전해질, 덱스트로스 및 염화나트륨 주사제(0.9% 염화나트륨 중의 덱스트로스 5%), 덱스트로스, 디아제팜 주사제(디아제팜 주사제), 디곡신 주사제(라녹신 주사제), 디라우디드-HP(하이드로몰폰 염산염 주사제), 디머카프롤 주사제(발 인 오일 앰플), 디펜하이드라민 주사제(베나드릴 주사제), 디피리다몰 주사제(디피리다몰 주사제), DMOAD, 주사용 도세탁셀(탁소텔), 돌라세트론 메실레이트 주사제(안제메트 주사제), 도리박스(주사용 도리페넴), 주사용 도리페넴(도리박스), 독세르칼시페롤 주사제(헥토롤 주사제), 독실(독소루비신 HCl 리포좀 주사제), 독소루비신 HCl 리포좀 주사제(독실), 둘라클론(클로니딘 주사제), 두라몰프(몰핀 주사제), 디스포트(아보보툴리눔톡신 A 주사제), 에칼란타이드 주사제(칼비토르), EC-나프로신(나프록센), 에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제(칼슘 이나트륨 베세네이트), 에덱스(주사용 알프로스타딜), 엔제릭스, 에드로포늄 주사제(엔론), 엘리글루스타트 타르테이트, 엘록사틴(옥살리플라틴 주사제), 에멘드 주사제(포사프레피탄트 디메글루민 주사제), 에날라프릴라트 주사제(에날라프릴라트 주사제), 엔론(에드로포늄 주사제), 에녹사파린 나트륨 주사제(로베녹스), 에오비스트(가독세테이트 이나트륨 주사제), 엔브렐(에타네르셉트), 에녹사파린, 에피셀, 에피네페린, 에피펜, 에피펜 Jr., 에프라투주맙, 에르비툭스, 에르타페넴 주사제(인반즈), 에리트로포이에텐, 필수 아미노산 주사제(네프라민), 에스트라디올 시피오네이트, 에스트라디올 발레레이트, 에타네르셉트, 엑세나타이드 주사제(바이에타), 에볼트라, 파브라자임(아달시다제 베타), 파모티딘 주사제, FDG(플루데옥시글루코스 F 18 주사제), 페라헴(페루목시톨 주사제), 페리덱스 정맥내용(페루목시드 주사용 용액), 페르티넥스, 페루목시드 주사용 용액(페리덱스 정맥내용), 페루목시톨 주사제(페라헴), 플라길 주사제(메트로니다졸 주사제), 플루아릭스, 플루다라(플루다라빈 인산염), 플루데옥시글루코스 F18 주사제(FDG), 플루오레세인 주사제(Ak- Fluor), 폴리스팀(Follistim) AQ 카트리지(폴리트로핀(Follitropin) 베타 주사제), 폴리트로핀 알파 주사제(Gonal-f RFF), 폴리트로핀 베타 주사제(폴리스팀 AQ 카트리지), 폴로틴(Folotyn)(정맥 주사용 프랄라트렉세이트(Pralatrexate) 용액), 폰다파리눅스(Fondaparinux), 포르테오(Forteo)(테리파라타이드(Teriparatide)(rDNA 유래) 주사제) ), 포스타마티닙, 포사프레피탄트 디메글루민 주사제(에멘드 주사제), 포스카넷 나트륨 주사제(포스카비르), 포스카비르(포스카넷 나트륨 주사제), 포스페니토인 나트륨 주사제(세레빅스), 포스프로포폴 디소듐 주사제(루세드라), 프라그민, 푸제온(엔푸비르타이드), GA101, 가도베네이트 디메글루민 주사제(멀티핸스), 가도포스베세트 삼나트륨 주사제(아블라바), 가도테리돌 주사제 용액(프로한스), 가도베르세타마이드 주사제(옵티마크), 가독세테이트 디소듐 주사제(에오비스트), 가니렐릭스(가니렐릭스 아세트산 주사제), 가다실, GC1008, GDFD, 주사용 젬투주맙 오조가미신 (마일로타그), 제노트로핀, 겐타마이신 주사제, GENZ-112638, 골리무맙 주사제(심포니 주사제), 고날-f RFF(폴리트로핀 알파 주사제), 그라니세트론염산염(키트릴 주사제), 겐타마이신 황산염, 글라티라머 아세트산, 글루카겐, 글루카곤, HAE1, 할돌 (할로페리돌 주사제), 하브릭스, 헥토롤 주사제(독세르칼시페롤 주사제), 헤지호그 경로 억제제(Hedgehog Pathway Inhibitor), 헤파린, 허셉틴, hG-CSF, 휴마로그, 인간 성장 호르몬, 휴마트로프, 휴맥스, 휴메곤, 휴미라, 휴물린, 이반드로네이트 나트륨 주사제(보니바 주사제), 이부프로펜 라이신 주사제(네오프로펜), 이부틸리드 푸마르산염 주사제(Corvert), 이다마이신 PFS(이다루비신 염산염 주사제), 이다루비신 염산염 주사제(이다마이신 PFS), 일라리스(카나키누맙 주사제), 주사용 이미페넴 및 실라스타틴(프리맥스신 I.V.), 이미트렉스, 주사용 인코보툴리눔톡신 A(제오민), 인크렐렉스(메카세르민[rDNA 유래] 주사제), 인도신 IV(인도메타신 주사제), 인도메타신 주사제(인도신 IV), 인판릭스, 이노헵, 인슐린, 인슐린 아스파트[rDNA 유래]주사제(노보로그), 인슐린 글라진 rDNA 유래] 주사제(란투스), 인슐린 글루리신[rDNA 유래] 주사제(아피드라), 인터페론 알파-2b, 주사용 재조합형(인트론 A), 인트론 A(인터페론 알파-2b, 주사용 재조합형), 인반즈(에르타페넴 주사제) , 인베가 서스테나(팔리페리돈 팔미테이트 서방성 주사 현탁액), 인비라제(사퀴나비르 메실레이트), 로벤구안1123 정맥용 주사제(AdreView), 이오프로마이드 주사제(울트라비스트), 이오베르솔 주사제(옵티레이 주사제), 아이플렉스(메카세르민 린파베이트[rDNA 유래] 주사제), 이프리바스크, 이리노테칸 염산염(캄프토사르 주사제), 철자당 주사제(베노퍼), 이스토닥스(주사용 로미뎁신), 이트라코나졸 주사제(스포라녹스 주사제), 제브타나(카바지탁셀 주사제), 조넥사, 칼비토르(에칼란타이드 주사제), KCL in D5NS (5% 포도당 및 염화나트륨 주자제의 염화칼륨), KCL in D5W, KCL in NS, 케나로그 10 주사제(트리암시놀론 아세토나이드 주사용 현탁액), 케피반스(팔리퍼민), 케프라 주사제(레베티라세탐), 케라티노사이트, KFG, 키나제 억제제, 키네레트 (아나킨라), 킨리틱(유로키나제 주사제), 킨릭스, 클로노핀(클로나제팜), 키트릴 주사제(그라니세트론 염산염), 라코사미드정 및 주사제(빔팟), 젖산링거, 라녹신 주사제(디곡신 주사제), 주사용 란소프라졸(프리바시드 I.V.), 란투스, 류코보린 칼슘(류코보린 칼슘 주사제), 렌테(L), 렙틴, 레베미르, 류카인 사르그라모스팀, 류프롤리드 아세테이트, 레보티록신, 레베티라세탐(케프라 주사제), 로베녹스, 레보카르니틴 주사제(카니터 주사제), 렉시스칸(레가데노손 주사제), 리오레살척수강내 (바클로펜 주사제), 리라글루타이드[rDNA] 주사제(빅토자), 로베녹스(에녹사파린 나트륨 주사제), 루센티스(라니비주맙 주사제), 루미자임, 루프론(류프롤리드 아세테이트 주사제), 루세드라(포스프로포폴 디나트륨 주사제), 마시, 황산마그네슘(황산마그네슘 주사제), 만니톨 주사제(만니톨 IV), 마르카인(부피바카인 염산염 및 에피네프린 주사제), 막시핌(주사용 세페핌 염산염), 테크네티움 주사제(테크네티움 Tc99m 메드로네이트 주사제)의 MDP 다회투여키트, 메카세르민[rDNA 유래]주사제(인크렐렉스), 메카세르민 린파베이트[rDNA 유래] 주사제(아이플렉스), 멜팔란 Hcl 주사제(알케란 주사제), 메토트렉세이트, 메낙트라, 메노퍼(Menopur)(메노트로핀 주사제), 주사용 메노트로핀(레프로넥스), 주사용 메토헥시탈 소듐(브레바이탈 소듐), 메틸도페이트 염산염 주사제, 액제 (메틸도페이트 Hcl), 메틸렌 블루(메틸렌 블루 주사제), 메틸프레드니솔론 아세테이트 주사 현탁액(데포 메드롤), MetMab, 메토클로프라미드 주사제(레글란 주사제), 메트로딘(주사용 유로폴리트로핀), 메트로니다졸 주사제(플라길 주사제), 미아칼신, 미다졸람(미다졸람 주사제), 밈파라(시나칼렛), 미노신 주사제(미노사이클린 주사제), 미노사이클린 주사제(미노신 주사제), 미포메르센, 주사용 미토산트론 농축액(노반트론), 모르핀 주사제(듀라모르프), 모르핀 황산염 XR 리포좀 주사제(데포두르), 모르후에이트나트륨( 모르후에이트나트륨 주사제), 모테사닙, 모조빌(플레릭사포 주사제), 멀티핸스(가도베네이트 디메글루민 주사제), 다중 전해질 및 포도당 주사제, 다중 전해질 주사제, 마일로타르그(주사용 젬투주맙 오조가마이신), 미오자임(알글루코시다제 알파), 나프실린 주사제(나프실린 소듐) , 나프실린소듐(나프실린주), 날트렉손엑스알주(비비트롤), 나프로신(나프록센), 네오프로펜(이부프로펜라이신주), 난드롤데카노에이트, 네오스티그민메틸황산염(네오스티그민메틸황산염주), NEO-GAA, NeoTect(테크네티움Tc 99m 디프레오타이드주) , 네프라민(필수아미노산주사제), 뉴라스타(페그필그라스팀), 뉴포젠(필그라스팀), 노볼린, 노보로그, 네오레코르몬, 뉴트렉신(트리메트렉세이트글루쿠로네이트주), NPH(N), 넥스테론(아미오다론염산주사제), 노르디트로핀(소마트로핀주사제), 일반 식염수(염화나트륨 주사제), 노바트론(주사용 미톡산트론 농축액), Novolin 70/30 Innolet(70% NPH, 인간 인슐린 이소판 현탁액 및 30% 일반, 인간 인슐린 주사제), 노로로그(인슐린 아스파트[rDNA 유래] 주사제) , Nplate(로미플로스팀), 뉴르로핀(주사용 소마트로핀(rDNA 유래)), 뉴트로핀 AQ, 뉴트로핀 Depot(주사용 소마트로핀(rDNA 유래)), 옥트레오타이드 아세테이트 주사제(산도스타틴 LAR), 오크레리주맙, 오파투무맙 주사제(아르제라), 올란자핀 서방성 주사 현탁액(자이프렉사 렐프레브), 옴니타르그, 옴니트로프(소마트로핀[rDNA 유래]주), 온단세트론 염산염 주사제(조프란 주사제), 옵티마크(가도베르세타미드 주사제), 옵티레이 주사제(이오버솔 주사제), 오렌시아, Aviva 내 오스미트롤 주사제(Aviva 플라스틱 용기 250 내 만니톨 주사에), 비아플렉스 내 오스미트롤 주사제(비아플렉스 플라스틱 용기 250 내 만니톨 주사제), 오스테오프로테그린, 오비드렐(초리오고나도트로핀 알파 주사제), 옥사실린(주사용 옥사실린), 옥살리플라틴 주사제(엘록사틴), 옥시토신 주사제(피토신), 팔리페리돈 팔미테이트 서방성 주사 현탁액(인베가 서스테나), 파미드로네이트 디소듐 주사제(팜 이드로네이트 디나트륨 주사제), 파니투무맙 정맥 주사제(벡티빅스), 파파베린 염산염 주사제(파파베린 주사제), 파파베린 주사제(파파베린 염산염 주사제), 부갑상선호르몬, 파리칼시톨 주사제 플립탑 바이알(젬플러 주사제), PARP 억제제, 페디아릭스, PEGlntron, 페그인터페론, 페그필그라스팀, 페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인, 펜테테이트 칼슘 삼나트륨 주사제(Ca-DTPA), 펜테테이트 아연 삼나트륨 주사제(Zn-DTPA), 펩시드 주사제(파모티딘 주사제), 페르고날, 페르투주맙, 펜톨라민 메실레이트(주사용 펜톨라민 메실레이트), 피소스티그민 살리실레이트(피소스티그민 살리실레이트(주사제)), 피소스티그민 살리실레이트(주사제)(피소스티그민 살리실레이트), 피페라실린 및 타조박탐 주사제(조신), 피토신(옥시토신 주사제) , Plasma-Lyte 148(다중 전해질 주사제), Plasma-Lyte 56 및 포도당(Viaflex 플라스틱 용기 250 내 다중 전해질 및 포도당 주사제), 플라즈마라이트, 플레릭사포 주사제(모조빌), 폴리도카놀 주사제(아스클레라), 염화칼륨, 정맥 주사용 프랄라트렉세이트 용액(폴로틴), 프램린티드 아세테이트 주사제(Symlin), 프레마린 주사제(주사용 공액 에스트로겐(Conjugated Estrogens for Injection)), 주사용 테크네튬 Tc99 세스타미비용 준비 키트(Cardiolite), 프리바시드 정맥주사(주사용 란소프라졸), 프리막신 정맥주사(주사용 이미페넴 및 실라스타틴), 프로키말, 프로크리트, 프로게스테론, 프로한스(가도테리돌 주사 용액), 프롤리아(데노수맙 주사제), 프로메타진 HCl 주사제(프로메타진 염산염 주사제), 프로프라놀롤 염산염 주사제(프로프라놀롤 염산염 주사제), 퀴니딘 글루코네이트 주사제(퀴니딘 주사제), 퀴니딘 주사제(퀴니딘 글루코네이트 주사제), R-진 10(아르기닌 염산염 주사제), 라니비주맙 주사제(루센티스), 라니티딘 염산염 주사제(잔탁 주사제), 랍티바, 레클라스트(졸레드론산 주사제), 레콤비바릭스 HB, 레가데노손 주사제(렉시스칸), 레글란 주사제(메토클로프라미드 주사제), 레미케이드, 레나겔, 렌벨라(세벨라메르 카보네이트), 레프로넥스(주사용 메노트로핀), 레트로버 정맥내용(지도부딘 주사제), rhApo2L/TRAIL, 링거 및 5% 덱스트로스 주사제(덱스트로스 중의 링거), 링거 주사제(링거 주사제), 리툭산, 리툭시맙, 로세핀(세프트리악손), 로쿠로늄 브로마이드 주사제(제무론), 로페론-A(인터페론 알파-2a), 로마지콘(플루마제닐), 주사용 로미뎁신(이스토닥스), 사이젠(소마트로핀 주사제), 산도스타틴 LAR(옥트레오티드 아세테이트 주사제), 스컬로스틴 Ab, 센시파르(시나칼세트), 센소르카인(부피바카인 HCl 주사제), 셉토카인(아티카인 HCl 및 에피네프린 주사제), 세로스팀 LQ(소마트로핀(rDNA 근원) 주사제), 심포니 주사제(골리무맙 주사제), 아세트산나트륨(아세트산나트륨 주사제), 중탄산나트륨(중탄산나트륨 5% 주사제), 락트산나트륨(아비바 중의 락트산나트륨 주사제), 페닐아세트산나트륨 및 벤조산나트륨 주사제(암모눌), 주사용 소마트로핀(rDNA 근원)(뉴트로핀), 스포라녹스 주사제(이트라코나졸 주사제), 스텔라라 주사제(유스테키누맙), 스템겐, 수펜타(수펜타닐 시트레이트 주사제), 수펜타닐 시트레이트 주사제(수펜타), 수마벨, 수마트립탄 주사제(알수마), 심린, 심린 펜, 전신 헤지호그 길항제, 신비스크-원(하일란 G-F 20 단일 관절내 주사제), 타르세바, 탁소테레(주사용 도세탁셀), 테크네튬 Tc 99m, 주사용 텔라반신(비바티브), 템시롤리무스 주사제(토리셀), 테노르민 정맥내 주사제(아테놀롤 주사제), 테리파라티드(rDNA 근원) 주사제(포르테오), 테스토스테론 시피오네이트, 테스토스테론 에난테이트, 테스토스테론 프로피오네이트, 테브-트로핀(소마트로핀, rDNA 근원, 주사용) tgAAC94, 염화탈로우스, 테오필린, 티오테파(티오테파 주사제), 티모글로불린(항-티모사이트 글로불린(토끼)), 티로겐(주사용 티로트로핀 알파), 티카르실린 이나트륨 및 크라불라네이트 칼륨 갤럭시(티멘틴 주사제), 티간 주사제(주사용 트리메토벤즈아미드 염산염), 티멘틴 주사제(티카르실린 이나트륨 및 클라불라네이트 칼륨 갤럭시), TNK아제, 토브라마이신 주사제(토브라마이신 주사제), 토실리주맙 주사제(악템라), 토리셀(템시롤리무스 주사제), 토텍트(주사용 덱스라족산, 정맥내 주사 전용), 트라스투주맙-DM1, 트라바솔(아미노산(주사제)), 트레안다(벤다무스틴 염산염 주사제), 트렐스타르(주사용 현탁액용 트립토렐린 파모에이트), 트리암시놀론 아세토나이드, 트리암시놀론 디아세테이트, 트리암시놀론 헥사세토니드 주사용 현탁액(아리스토스판 주사제 20 mg), 트리에센스(트리암시놀론 아세토니드 주사용 현탁액), 주사용 트리메토벤즈아미드 염산염(티간 주사제), 트리메트렉세이트 글루쿠로네이트 주사제(뉴트렉신), 주사용 현탁액용 트립토렐린 파모에이트(트렐스타), 트윈젝트, 트리바리스(트리암시놀론 아세토니드 주사용 현탁액), 트리세녹스(삼산화비소 주사제), 트윈릭스, 팁호이드 Vi, 울트라비스트(이오프로마이드 주사제), 주사용 유로폴리트로핀(메트로딘), 유로키나아제 주사제(킨리틱), 유스테키누맙(스텔라라 주사제) 울트라렌트(U), 발륨(디아제팜), 발프로네이트 나트륨 주사제(데파콘), 발트로핀(소마트로핀 주사제), 반코마이신 염산염(반코마이신 염산염 주사제), 반코마이신 염산염 주사제(반코마이신 염산염), 바프리솔(코니밥탄 HCl 주사제) VAQTA, 바소비스트(정맥내용 가도포스베세트 삼나트륨 주사제), 벡티빅스(정맥내용 파니투무맙 주사제), 베노페르(철 수크로스 주사제), 베르네포르핀 주사제(비수다인), 비바티브(주사용 텔라반신), 빅토자(리라글루타이드[rDNA] 주사제), 빔파트(라코사미드 정제 및 주사제), 빈블라스틴 황산염(빈블라스틴 황산염 주사제), 빈카사르 PFS(빈크리스틴 황산염 주사제), 빅토자, 빈크리스틴 황산염(빈크리스틴 황산염 주사제), 비수다인(베르테포르핀 주사제), 비타민 B-12, 비비트롤(날트렉손 XR 주사제), 볼루벤(염화나트륨 주사제 중의 하이드록시에틸 전분), 젤로다, 제니칼(오를리스타트), 제오민(주사용 인코보툴리늄톡신 A), 졸레어, 잔탁 주사제(라니티딘 염산염 주사제), 젬플라 주사제(파리칼시톨 주사제 플립톱 바이알), 제무론(로쿠로늄 브로마이드 주사제), 제나팍스(다클리주맙), 제발린, 지도부딘 주사제(레트로버 정맥내용), 지트로막스 주사제(아지트로마이신), Zn-DTPA(펜테테이트 아연 삼나트륨 주사제), 조프란 주사제(온단세트론 염산염 주사제), 징고, 주사용 졸레드론산(조메타), 졸레드론산 주사제(레클라스트), 조메타(주사용 졸레드론산), 조신(피페라실린 및 타조박탐 주사제), 지프렉사 렐프레브(올란자핀 서방형 주사용 현탁액) 및 이들의 조합.

주의

본 출원의 발명은 일반적으로 그리고 특정 실시예와 관련하여 위에서 설명하였다. 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서, 상기 실시예에 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 실시예는 첨부된 청구범위 및 그 균등물의 범위 내에 있다면 본 발명의 수정 및 변형을 포괄하도록 의도된다.

Claims (29)

1. 주입기 장치를 제조하는 방법으로서,
   스토퍼의 외측이 관형 부재의 내면과 계합하게 되도록 관형 부재 내에 주입기 장치의 스토퍼를 배치하는 단계; 및
   스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동을 유발함으로써 스토퍼의 외측을 수정(modifying)하는 단계로서, 상기 상대 운동은 회전 운동 및 진동 운동 중 하나 또는 양자 모두를 포함하는 것인 단계
   를 포함하는, 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 관형 부재는 주입기 장치의 배럴인 것인, 방법.
3. 제1항에 있어서, 상기 관형 부재는 주입기 장치의 배럴 내로 삽입되도록 구성되는 벤트 튜브(vent tube)이며, 상기 벤트 튜브는 주입기 장치의 배럴 내로 스토퍼를 전달하도록 구성되는 것인, 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 리브(rib)를 한정하고, 상기 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 상기 리브에서의 국부적 가열을 유발하는 것인, 방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상대 운동은 스토퍼의 외측의 거칠기가 감소되도록 하는 것인, 방법.
6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 주름을 포함하고, 상기 상대 운동은 상기 주름이 감소되도록 하는 것인, 방법.
7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측는 종방향 및 둘레방향에서의 거칠기를 한정하고, 또한, 상기 상대 운동은 상기 종방향 및/또는 상기 둘레방향에서의 거칠기가 감소되도록 하는 것인, 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 상대 운동은 스토퍼의 외측의 재료가 관형 부재의 내면으로 이송되도록 하는 것인, 방법.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 고분자 재료를 포함하고, 상기 상대 운동은 상기 고분자 재료의 고분자 이동(polymeric movement)을 유도하는 것인, 방법.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼는, 제1 재료로 형성된 배리어 및 제2 재료로 형성된 본체를 포함하고, 상기 배리어는 상기 본체에 결합되는 것인, 방법.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 플루오로중합체 재료를 포함하는 것인, 방법.
12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 종방향 성분을 포함하는 것인, 방법.
13. 주입기 장치를 제조하는 방법으로서,
    주입기 장치의 스토퍼를 벤트 튜브에 배치하는 단계;
    상기 벤트 튜브를 상기 주입기 장치의 배럴 내로 삽입하는 단계;
    상기 스토퍼의 외측이 상기 배럴의 내면과 계합하여, 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면(seal interface)를 한정하도록, 벤트 튜브로부터 주입기 장치의 배럴 내로 스토퍼를 전달하는 단계; 및
    상기 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키기 위해 상기 스토퍼와 배럴 사이의 상대 운동을 유도하는 단계
    를 포함하는, 방법.
14. 제13항에 있어서, 상기 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 회전 성분을 포함하는 것인, 방법.
15. 제13항 또는 제14항에 있어서, 상기 스토퍼와 관형 부재 사이의 상대 운동은 종방향 성분을 포함하는 것인, 방법.
16. 제13항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 고분자 재료를 포함하며, 상기 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 단계는, 상기 시일 계면에서 상기 고분자 재료의 고분자 이동을 유도하는 것을 포함하는 것인, 방법.
17. 제13항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 스토퍼가 벤트 튜브로부터 주입기 장치의 배럴 내로 전달된 후에, 상기 스토퍼의 외측은 시일 계면에서의 주름을 포함하며, 또한, 상기 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 단계는, 시일 계면에서의 상기 주름을 감소시키는 것을 포함하는 것인, 방법.
18. 제13항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼는 본체 및 이 본체에 결합되는 배리어를 포함하고, 상기 배리어는 플루오로중합체 재료로 형성되며, 또한, 상기 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 단계는, 시일 계면에서의 국부적 가열을 유발하는 것을 포함하는 것인, 방법.
19. 제13항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측과 배럴의 내면 사이의 시일 계면을 향상시키는 단계는, 스토퍼의 외측으로부터 배럴의 내측으로 재료를 이송하는 것을 포함하는 것인, 방법.
20. 제13항 내지 제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은 리브를 한정하고, 상기 시일 계면은 스토퍼의 리브를 포함하는 것인, 방법.
21. 주입기 장치로서,
    외측을 갖는 스토퍼로서, 본체 및 이 본체의 재료와는 상이한 재료로 형성된 배리어를 포함하며, 상기 배리어는 상기 본체에 결합되고, 상기 배리어는 스토퍼의 외측의 적어도 일부를 한정하는 것인, 스토퍼; 및
    배럴로서, 상기 배럴은 시일 계면을 한정하기 위해 스토퍼의 외측과 계합하는 내면을 갖고, 상기 배럴의 내면은, 시일 계면에, 배리어의 재료에 대응하는 성막 재료(deposited material)를 포함하여, 상기 시일 계면이 상기 성막 재료 및 상기 배리어의 재료에 의해 한정되게 하며, 상기 성막 재료는 방향성 배향(directional orientation)을 갖는 것인, 배럴
    을 포함하는, 주입기 장치.
22. 제21항에 있어서, 상기 방향성 배향은 둘레방향 성분을 포함하는 것인, 주입기 장치.
23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 성막 재료의 방향성 배향은 공통 방향으로 정렬되는 PTFE 체인의 열(row)에 의해 한정되는 것인, 주입기 장치.
24. 제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼의 외측은, 시일 계면에서, 마이크로 리브 및 매크로 리브 중 적어도 하나를 포함하는 것인, 주입기 장치.
25. 제21항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 배리어는 플루오로중합체 재료를 포함하는 것인, 주입기 장치.
26. 제21항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 성막 재료가 배럴의 내면에 있는 하나 이상의 결함을 채우는 것인, 주입기 장치.
27. 제21항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 성막 재료는 단지 시일 계면에만 위치하는 것인, 주입기 장치.
28. 제21항 내지 제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 시일 계면은, 스토퍼의 외측이 배럴의 내면과 계합하는 위치인 하나 이상의 둘레방향 밴드에 대응하는 것인, 주입기 장치.
29. 제21항 내지 제28항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 성막 재료는 배럴의 내측에 하나 이상의 둘레방향 밴드를 한정하는 것인, 주입기 장치.