KR20240049604A - 주입기 장치 스토퍼 피쳐의 개조 - Google Patents

Abstract

본 발명에 따른, 리브의 형성 이후에 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 밀봉면을 구비하는 스토퍼의 리브 기하학적 구조를 리폼하는 방법은, 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계를 포함한다.

Description

주입기 장치 스토퍼 피쳐의 개조

본 명세서에서 다루어지는 다양한 발명 개념은 주사기, 자동 주입기(auto-injector) 및 펜 등, 배럴 및 배럴 내에 활주 가능하게 수용되는 스토퍼를 포함하는 주입기 장치 뿐만 아니라 이러한 장치를 제조하고 사용하는 관련 방법에 관한 것이다.

주입기 장치(예컨대, 주사기, 자동 주입기 및 펜)는 통상적으로 배럴, 배럴 내에 위치하는 스토퍼 및 스토퍼를 변위시키는 플런저 로드(plunger rod) 또는 작동 기구를 포함한다. 스토퍼는 통상적으로 공기 및 액체 불투과성이고, 배럴과 기밀 및 액밀을 형성하면서, 저마찰 활주성(low-friction slidability)을 갖고 있다. 주입기 장치 내부에 액체를 충전 또는 배출할 때 배럴 내부에서의 액체 누출을 없애고 스토퍼의 외면과 배럴의 내벽 사이에서의 공기 유입을 없애기 위해서는 공기 불투과성과 액체 불투과성이 중요하다. 주입기 장치 내부의 액체의 충진 및 배출을 용이하게 하기 위해서는 저마찰 활주성이 중요하다. 이러한 요건 이외에도, 의료용 주사기, 자동 주입기 또는 펜은 주사기(예컨대, 의약 조성물을 포함하는 사전-충전 주사기, 자동 주입기, 또는 펜)와 접촉하는 바이오 의약품과 같은 의약 조성물에 악영향을 주어서는 안 된다.

주입기 장치 구성요소의 일부 예는 출원인 W. L. Gore & Associates, Inc.의 "Medical Injector devices Having Low Lubricant Hydrophobic Syringe Barrels"라는 명칭의 미국 공개공보 2021/0030970에서 찾아볼 수 있는데, 이 특허문헌에는 소수성인 내면을 갖는 배럴을 포함하는 의료용 주입기 장치가 기술되어 있다. 의료용 주입기 장치는 배럴과, 낮은 브레이크 해제력(break loose force), 낮은 평균 활주력(glide force) 및 낮은 활주력 변동 중 적어도 하나를 보유하면서 공기 및 액체 불투과성을 제공할 수 있는 스토퍼를 포함한다.

주입기 장치 구성요소의 추가 예는 각각 출원인 W. L. Gore & Associates, Inc.의 "Syringe Stoppers", "Fluoropolymer Barrier Materials for Containers" 및 "Non-Fluoropolymer Barrier Materials for Containers"(예컨대, 실리콘 오일 또는 기타 액체 윤활제 없이 주사기에 사용하기에 적합한 주사기 스토퍼를 기술)라는 명칭의 미국 특허 제8,722,178호 및 제9,597,458호 및 미국 공개공보 2016/0022918에서 찾아볼 수 있다.

주입기 장치 구성요소의 더 많은 예는 출원인 Sumitomo Rubber Industries, Ltd.의 "Gasket, and Medical Syringe"라는 명칭의 미국 특허 제10,751,473호에서 찾아볼 수 있는데, 이 특허문헌에는 탄성 재료로 제조된 본체와 본체의 표면에 마련된 불활성 수지 필름을 포함하는 의료용 주사기에 사용되는 개스킷이 기술되어 있다. 상기 개스킷은 원통 형상이고, 그 외주면에 환형 리브를 포함하며, 각 리브는 주사기 배럴의 내주면과 활주 접촉 상태로 유지되도록 활주 접촉부를 구비한다. 환형 리브는 개스킷의 원위 단부로부터 후방 단부까지 축방향으로 배치된다. 원위 환형 리브의 활주 접촉부는 원통형 개스킷의 축방향 길이의 1% 내지 25%인 폭을 갖는다.

스토퍼의 생산 동안 리브를 형성할 때, 배럴의 내면과 접속하는 상대적으로 평평한 외면을 형성하는 것이 바람직할 수 있다. 예를 들어, 스토퍼는 상대적으로 강성인 또는 적어도 하위 스토퍼 본체보다는 강성인 배리어 층을 스토퍼 본체 위에 포함할 수 있고, 배럴과 접속하는 표면 피쳐(예를 들어, 매크로 리브 또는 마이크로 리브)의 부분의 크기 및 형상에 영향을 미치는 보다 강성인 배리어 재료에 의해 나타나는 고유의 곡률 반경이 존재하는 경향이 있을 수 있다. 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 리브)의 형성 이후에 배리어 층에 절취부 또는 홈을 추가함으로써, (예컨대, 계면 전반에서 상대적으로 더 평평해지는 것에 의해) 배럴과 보다 유효한 밀봉을 이루도록 표면 피쳐의 형상이 재형성 또는 리폼될 수 있는 것으로 고려된다. 추가적으로 또는 대안적으로, 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 리브)는 상대적으로 더 날카로운 선두 에지 및/또는 후미 에지를 가져서, 표면 피쳐가 보다 유효한 와이퍼 시일로서의 역할을 하게 하도록, 리폼 가능할 수 있다. 이와 같이 표면 피쳐의 접촉 영역을 리폼 또는 개조하는 능력은, 보다 유효한 기체 및/또는 액체 시일을 생성할 수 있고, 또한 스토퍼 본체 및 배리어 층의 형성 및 결합 이전에 홈 또는 절취부가 생성되어 있는 상황에 비해, 인열의 위험을 줄일 수 있는 것으로 여겨진다. 홈 또는 절취부는 예를 들어 홈의 위치, 폭, 또는 깊이에 따라 전체 접촉 영역을 증가 또는 감소시키는 데 사용될 수 있고, 예를 들어 밀봉 및 활주성 각각을 최적화하는 데 사용될 수 있다. 배리어 또는 배리어 층을 포함하고 배리어 내의 결함을 메우기 위해 실리콘 또는 기타 추가 윤활성 재료(예컨대, 액체 윤활제)를 사용하지 않는 임의의 스토퍼에 대해 내구성 시일을 형성하는 것은 어려울 수 있다. 이들 결함은 삽입 중에 스토퍼의 압축으로 인해 배리어에 형성되는 주름, 스토퍼의 제조 또는 삽입 중에 발생하는 밀봉 영역 표면에 있어서의 스크래치, 또는 구성요소 제조 및 조립 프로세스에서 생기는 기타 결함에 의해 야기될 수 있다. 스토퍼의 밀봉 영역에 미세 피쳐(micro features)를 추가하는 것은, 주름을 줄이는 것에 의해, 및/또는 상기한 결함과 관련된 임의의 누출 채널을 보다 잘 봉쇄하는 데 기여하도록 작은 영역에 밀봉력을 집중시키는 것에 도움을 주는 것에 의해, 이러한 밀봉 결함을 줄이거나 제거하는 데 극적인 효과를 가질 수 있다고 고려된다.

일부 예에 따른, 리브의 형성 이후에 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 밀봉면을 구비하는 스토퍼의 리브 기하학적 구조를 리폼하는 방법은, 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계를 포함한다. 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는 상기 리브의 제1 에지에 홈을 형성하는 것을 포함할 수 있다. 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는 또한, 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 리플로우, 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 절단, 및 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 제거 중의 적어도 하나를 포함할 수 있다. 일부 방법은 또한, 상기 리브의 제1 에지의 반대편에 있는 리브의 제2 에지를 리폼하는 단계를 포함한다. 상기 스토퍼는 선택적으로 엘라스토머 본체와, 상기 엘라스토머 본체에 결합된 다층 배리어를 포함하고, 상기 다층 배리어는 제1 층과 제2 층을 포함하며, 상기 방법은 선택적으로, 에너지원으로 상기 스토퍼의 다층 배리어의 제1 층을 활성화하여 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 것을 더 포함한다. 제1 층은 상기 엘라스토머 본체를 향해 배향될 수 있고, 제2 층은 상기 엘라스토머 본체로부터 멀어지는 방향으로 배향될 수 있다. 일부 적절한 예에서, 상기 리브는, 상기 다층 배리어를 상기 엘라스토머 본체에 커플링하기 전에 리폼된다. 상기 리브를 리폼하는 것은 또한, 상기 리브의 굽힘 특성을 변경하는 것 및/또는 상기 리브의 크라운을 평탄화하는 것을 포함할 수 있다. 상기 리브는 예를 들어, 마이크로 리브 또는 매크로 리브일 수 있다.

일부 실시예에 따르면, 리브의 형성 이후에 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하는 스토퍼의 리브를 리폼하는 방법은, 상기 리브의 제1 측면을 리폼하는 단계, 및 상기 리브의 제1 측면의 반대편에 있는 리브의 제2 측면을 리폼하는 단계를 포함하고, 상기 리브의 제1 및 제2 측면은, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브가 리폼 이전의 리브보다 더 큰 굽힘 유연성을 갖도록 리폼된다. 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성할 수 있고, 이후에 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 좁은 크라운 및/또는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 평평한 크라운을 형성할 수 있다. 상기 리브는 매크로 리브 또는 마이크로 리브일 수 있다. 처리 동안, 상기 스토퍼는 배럴에 수용될 수 있고, 상기 리브의 제1 및 제2 측면을 리폼하는 것은, 에너지를 배럴을 통해 스토퍼에 지향시키는 것을 포함할 수 있다.

리브의 형성 이후에 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하는 스토퍼의 리브를 리폼하는 방법의 일부 예는, 상기 리브의 제1 측면을 리폼하는 단계, 및 상기 리브의 제1 측면의 반대편에 있는 리브의 제2 측면을 리폼하는 단계를 포함하고, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성하고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 좁은 크라운을 형성한다. 리폼의 일환으로, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성할 수 있고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 평평한 크라운을 형성할 수 있다. 상기 리브는 예를 들어 마이크로 리브일 수 있다.

주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 와이퍼 요소를 형성하는 배리어가 본체에 커플링되어 있는 밀봉면을 구비하는 스토퍼를 형성하는 방법의 일부 예는, 배리어에 형성된 포켓으로부터 돌출되는 가요성 본체를 갖는 융기 돌출부를 형성하도록 배리어에 제1 보이드 및 제2 보이드를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 융기 돌출부는, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 것이다. 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 와이퍼 요소를 형성하는 배리어가 본체에 커플링되어 있는 밀봉면을 구비하는 스토퍼를 형성하는 방법의 일부 예는, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 융기 돌출부를 형성하도록, 배리어에 복수 개의 슬릿을 형성하는 단계를 포함한다. 이러한 방법은, 상기 배럴 내에서 상기 스토퍼가 미끄럼 이동하는 동안, 상기 융기 돌출부가 편향될 때, 배럴과의 활주 저항의 감소를 야기하도록 구성되는 것인 융기 돌출부를 포함할 수 있다. 상기 배리어는 예를 들어 플루오로폴리머, 선택적으로 PTFE 또는 ePTFE로 형성될 수 있다. 상기 스윕각은 예를 들어 15도보다 크거나, 45보다 크거나, 또는 60도보다 클 수 있다.

주입기 장치에 사용하기 위한 스토퍼의 일부 예는, 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하며, 상기 스토퍼는 엘라스토머 본체와, 상기 엘라스토머 본체에 커플링된 배리어를 포함하고, 상기 배리어는 가요성 본체를 구비하는 융기 돌출부를 포함하며, 상기 가요성 본체는, 가요성 본체의 제1 측면 상의 제1 보이드 및 가요성 본체의 제2 측면 상의 제2 보이드에 의해 형성된 포켓으로부터 연장되고, 상기 융기 돌출부는, 상기 스토퍼가 상기 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 것이다. 주입기 장치에 사용하기 위한 스토퍼의 일부 다른 예는, 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하며, 엘라스토머 본체와, 상기 엘라스토머 본체에 커플링된 배리어를 포함하고, 상기 배리어는, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 융기 돌출부를 형성하도록, 배리어에 복수 개의 슬릿을 구비하는 것이다. 상기 스토퍼는, 상기 배럴 내에서 상기 스토퍼가 미끄럼 이동하는 동안, 융기 돌출부가 편향될 때, 배럴과의 활주 저항의 감소를 야기하도록 구성되는 것인 융기 돌출부를 포함할 수 있다. 상기 스토퍼는 플루오로폴리머, 선택적으로 PTFE 또는 ePTFE로 형성될 수 있다. 상기 스윕각은 예를 들어 15도보다 크거나, 45보다 크거나, 또는 60도보다 클 수 있다. 그리고, 하나 이상의 융기 돌출부는, 상기 스토퍼가 상기 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 하나 이상의 융기 돌출부가 상기 스윕각을 따라 편향되어, 상기 스토퍼와 상기 배럴 사이의 활주 저항이 감소되도록 구성될 수 있다.

전술한 실시예는 단지 예일뿐이며, 본 개시 내용에 의해 달리 제공되는 임의의 발명적 개념의 범위를 제한하거나 그렇지 않으면 좁히는 것으로 해석되어서는 안 된다. 다수의 실시예가 개시되어 있지만, 예시적인 실시예를 제시하고 설명하는 아래의 상세한 설명으로부터 또 다른 실시형태가 당업자에게 명백해질 것이다. 따라서, 도면과 상세한 설명은 본질적으로 제한적인 것이 아닌 예시적인 것으로 간주되어야 한다.

첨부 도면은 본 개시 내용의 추가 이해를 제공하기 위해 포함되고, 본 명세서에 포함되어 본 명세서의 일부를 구성하며, 실시형태를 예시하고, 상세한 설명과 함께 본 개시 내용의 원리를 설명하는 역할을 한다.
도 1은 일부 실시형태에 따라 주사기로서 구성된 주입기 장치를 도시한다.
도 2는 일부 실시형태에 따라 자동 주입기로서 구성된 주입기 장치를 도시한다.
도 3은 일부 실시형태에 따른 도 1 또는 도 2의 주입기 장치의 스토퍼를 도시한다.
도 4는 일부 실시형태에 따른 도 1 또는 도 2의 주입기 장치의 스토퍼를 도시한다.
도 5는 일부 실시형태에 따른 도 3 또는 도 4의 스토퍼의 일부분을 도시한다.
도 6 내지 도 11b는 일부 실시형태에 따른, 표면 피쳐의 리폼에 관한 다양한 개념을 예시한다.
도 12a 내지 도 15는 일부 실시형태에 따른, 유연한 또는 구부러지는 표면 피쳐에 관한 다양한 개념을 예시한다.
도 16은 일부 실시형태에 따른 도 3 또는 도 4의 스토퍼의 일부분을 도시한다.
도 17 및 도 18은 여러 실시형태에 따른, 스토퍼의 본체에 대한 배리어 프리폼의 결합 이전 및 이후의, 스토퍼의 배리어 배리어를 도시한다.
도 19 내지 도 21은 일부 실시형태에 따른, 시스템과, 도면들의 것과 같은 스토퍼의 마이크로 피쳐를 형성하기 위해 상기 시스템을 사용할 수 있는 방법을 나타낸다.
도 22 내지 도 23은 일부 실시형태에 따라, 툴링과, 스토퍼 조립 및 커플링을 위해 툴링을 사용할 수 있는 방법을 나타낸다.
도 24 내지 도 33은 일부 실시형태에 따른, 도 6 내지 도 13 및 도 15 내지 도 18의 것과 같은 마이크로 피쳐 배치 및 구성을 나타낸다.

정의 및 용어

본 개시 내용은 제한적인 방식으로 이해되는 것을 의도하고 있지 않다. 예컨대, 본 출원에 사용되는 용어는, 당업자가 해당 용어에 부여하는 의미의 맥락에서 폭넓게 이해되어야 한다.

제목의 사용은 설명을 쉽게 검토할 목적으로만 제공되며, 하나의 제목 아래의 개념이 다른 제목 아래의 개념에 적용할 수 없거나 또는 그렇지 않으면 관련이 없다는 것을 구분하거나 또는 그렇지 않으면 지정하려는 의도는 없다. 실제로, 그 반대가 의도되며 설명은 전체적으로 이해 및 해석되도록 의도되어 있고, 특정 실시형태의 다양한 피쳐 및 양태가 본원에 기술된 다양한 기타 실시형태에 걸쳐 적용 가능하고 또 그 실시형태에 적용 가능하다.

부정확성의 용어와 관련하여, "약" 및 "대략"이라는 용어는 명시된 측정값을 포함하고 명시된 측정값에 합리적으로 가까운 임의의 측정값도 또한 포함하는 측정값을 나타내기 위해 상호 교환적으로 사용될 수 있다. 명시된 측정값에 합리적으로 가까운 측정값은 관련 기술분야에서 통상의 지식을 갖고 있는 개인이 이해하고 쉽게 확인할 수 있는 바와 같이 합리적으로 작은 양만큼 명시된 측정값으로부터 벗어난다. 이러한 편차는, 예를 들어, 측정 오류, 측정 및/또는 제조 장비 보정의 차이, 측정값 판독 및/또는 설정 시 인적 오류, 다른 구성요소, 특정 구현 시나리오, 사람 또는 기계에 의한 대상체의 부정확한 조정 및/또는 조작 등과 관련된 측정값의 차이를 고려하여 성능 및/또는 구조적 파라미터를 최적화하기 위해 이루어진 사소한 조정 등에 기인할 수 있다. 관련 기술분야에서 통상의 지식을 가진 개인이 그러한 합리적으로 작은 차이에 대한 값을 쉽게 확인할 수 없다고 판단되는 경우, "약" 및 "대략"이라는 용어는 명시된 값의 플러스 또는 마이너스 10%를 의미하는 것으로 이해될 수 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "에너지원에 의해 활성화 가능" 및 그 유사어는 물리적 및/또는 화학적 상태의 변화와 같은 물질의 상태 변화를 나타낸다. 에너지원에 의한 활성화의 일례로는 고체 형태(또는 보다 단단한 형태)로부터 액체 형태(또는 보다 유동적인 형태)로의 현저한(즉, 분명히 드러나는) 변화가 있다. 에너지원에 의한 활성화의 다른 예로는 에너지원에 대한 노출을 통해 (예컨대, 가교 또는 사슬 절단을 통한) 가교 또는 분자량에 있어서의 현저한(즉, 분명히 드러나는) 변화를 나타내는 것이 있다. 참고로, 본원에서 사용된 바와 같이, "에너지원"은 열, 레이저, 고주파(RF), 마이크로파, 자외선, 복사, 초음파 등을 포함하는 다양한 타입의 에너지 중 임의의 것의 공급원을 나타낸다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "배리어", "배리어 구조물" 등은 어느 한 구성요소(예컨대, 스토퍼 본체)와 다른 구성요소(예컨대, 배럴 및/또는 배럴의 내용물) 사이의 상호 작용을 막거나 방해하는 물질을 나타낸다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "탄성" 및 "엘라스토머"는 주입기 장치(예컨대, FDA-승인 용례)에 이용되는 스토퍼를 참조하여 이해되는 재료 성질을 나타내며, 재료가 치수적으로 변형(예컨대, 수축, 확장, 뒤틀림 등)된 후에 그 변형 전 형상을 향해 자발적으로 되돌아가는 또는 회복되는 재료의 경향과 관련이 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "주입기 장치"는 배럴에 수용된 스토퍼와, 배럴 내에 유지된 내용물을 배럴 내부로부터 배출하거나 전달하기 위해 배럴 내에서 스토퍼를 변위시키도록 구성된 작동 기구를 포함하는 다양한 장치 중 임의의 것을 포함하는 것을 의도하고 있다. 주입기 장치의 예로는 주사기, 자동 주입기, 펜 등이 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, (예를 들어, "매크로 리브" 또는 "매크로 홈"의 경우와 같은) 용어 "매크로 피쳐"는 육안으로 그 윤곽을 볼 수 있는 스토퍼 리브 또는 홈 피쳐, 또는 스토퍼의 배리어 두께의 2배 이상인 높이를 나타내는 스토퍼 피쳐를 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, (예를 들어, 마이크로 리브, 마이크로 홈 또는 마이크로 보이드 등과 같은) 용어 "마이크로 피쳐"는 (비록 피쳐의 일반적인 존재 자체를 인식할 수 있지만) 육안으로는 그 윤곽이 보이지 않는 (표면 피쳐 또는 표면 밑의 피쳐) 스토퍼 피쳐를 나타내는 것을 의도하고 있다. 예를 들어, 마이크로 피쳐는 매크로 리브 또는 매크로 홈 상에 또는 내에 위치하는 스토퍼의 마이크로 리브 또는 마이크로 홈 피쳐를 포함할 것이다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "다층 배리어"는 복수의 재료 층을 갖는 배리어 구조물을 지칭하는데, 그 중 적어도 일부분은 서로 중첩된 방식으로 배치되거나(병렬 배치), 또는 경우에 따라 서로 인접하여 배치된다(직렬 배치). 다층 구조물은 상대적으로 날카롭고 뚜렷한 경계를 갖는 재료의 층 또는 두께를 가질 수 있고, 또는 그 사이에 혼합된 또는 보다 점진적인 전이 경계를 가질 수 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "다중-구역 배리어"는 서로 다른 재료 성질을 갖는 복수의 구역 또는 섹션을 갖는 배리어 구조물을 지칭한다. 다중-구역 구조물은 상대적으로 날카롭고 뚜렷한 경계에 의해 분리된 구역 또는 섹션을 가질 수 있고, 또는 혼합된 또는 점진적인 경계를 가질 수 있다. 다중 구역 배리어의 일부 예는, 다층 배리어가 또한 다중-구역 배리어를 형성하도록 병렬 또는 직렬로 배치된 별개의 층을 포함한다. 그 밖의 예는 복수의 구역을 형성하도록 변경된 단일 층을 포함할 수 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "요동하다" 등(예를 들어, "요동")은 일정하거나 가변적일 수 있는 주파수로 방향이 번갈아 바뀌는 동작을 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "근위"는 장치의 조작자 단부(예컨대, 플런저 단부)에 더 가까운 것을 의미하는 반면, 용어 "원위"는 근위보다 조작자로부터 더 멀리 떨어져 있음(예컨대, 피어싱 요소 단부)을 의미한다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "회전하다" 등(예를 들어, "회전")은 원주 방향의 동작을 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "밀봉 표면"은 (예를 들어, 보관시 및/또는 사용시) 액밀 시일을 유지하는 피쳐를 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "실리콘" 및 "실리콘 오일"은 본원에서 상호 교환적으로 사용될 수 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "실질적으로 없음"은 확인된 물질(예컨대, 실리콘, 실리콘 오일 또는 기타 윤활제)이 계량 불가능한 양 또는 극미량인 것을 나타내는 것을 의도하고 있고, 또는 시스템에 의도적으로 추가된 양이 없음(예컨대, 배럴 또는 스토퍼와 같은 주입기 장치에 의도적으로 첨가된 실리콘 오일이 없음)을 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "진동하다" 등(예를 들어, "진동")은 일정하거나 가변적일 수 있는 주파수로 방향이 번갈아 바뀌는 가속도를 갖는 동작을 나타내는 것을 의도하고 있다.

본원에서 사용된 바와 같이, 용어 "와이퍼"는 움직임이 자유로운(예를 들어, 유연하거나 또는 구부러질 수 있는) 그리고 표면에 대고 문지르도록 구성된 요소("와이퍼 요소"라고도 함)를 지칭하는 것을 의도하고 있다.

다양한 실시형태의 설명

당업자라면, 본 개시 내용의 다양한 양태가 의도된 기능을 수행하도록 구성된 임의의 수의 방법 및 장치에 의해 구현될 수 있음을 쉽게 이해할 것이다. 본원에서 참조되는 첨부 도면들은 반드시 일정한 비율로 도시되는 것이 아니고, 본 개시 내용의 다양한 양태를 예시하기 위해 과장될 수 있으며, 이와 관련하여 도면은 제한하는 것으로 해석되어서는 안 된다는 점에도 또한 주목해야 할 필요가 있다.

본 개시 내용은 플루오로폴리머 또는 비-플루오로폴리머 필름 또는 플루오로폴리머 또는 비-플루오로폴리머 라미네이트의 배리어로 적어도 부분적으로 덮인 스토퍼, 배럴, 및 배럴 내에서 스토퍼를 변위시키는 플런저 로드 또는 작동 기구를 포함하는 주입기 장치(예를 들어, 주사기, 자동 주입기 및 펜)에 관한 것이다.

본 상세한 설명의 다양한 양태는 스토퍼(예컨대, 스토퍼의 배리어)의 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 매크로 또는 마이크로 피쳐)의 변경 또는 리폼에 관한 것이다. 이러한 리폼은 리브(예컨대, 마이크로 리브) 피쳐의 형성 또는 제거를 포함할 수 있다. 일부 예에서는, 상대적으로 더 좁은 또는 더 평평한 리브 피쳐가 형성될 수 있다. 또 다른 예에서는, 향상된 유연성을 갖는 리브 피쳐가 형성될 수 있다. 이러한 피쳐는 와이퍼 효과를 나타낼 수 있는데, 이러한 효과로는 주입기 장치의 배럴 내에서의 병진 이동시 리브 피쳐의 각도 형성이 있다. 이러한 와이퍼 효과로 인해 초기 활주 저항에서 밀봉력이 상대적으로 높아질 수 있는데, 이 경우 스토퍼의 변위가 개시됨에 따라 활주 저항은 초기 활주 저항으로부터 매우 빠르게 떨어진다.

일부 예에서, 스토퍼의 배리어는 에너지원(예를 들어, 레이저)으로 배리어를 활성화함으로써 형성된 적어도 하나의 마이크로 피쳐를 갖는다. 예를 들어, 배리어(242)는 복수의 층을 포함할 수 있거나, 또는 다층 배리어일 수 있고, 여기서 하나의 층(또는 층들)은 구조물의 다른 층(또는 다른 층들)보다 에너지원에 더 반응적이도록 구성된다. 또한 후속하여 기술될 다양한 실시형태에서, 하나 이상의 마이크로 피쳐는 배리어를 스토퍼의 본체에 커플링하기 전, 배리어를 본체에 커플링한 후 그러나 스토퍼를 배럴에 삽입하기 전, 및/또는 배리어를 본체에 커플링한 후 그러나 스토퍼를 배럴(20)에 삽입하기 전에 형성될 수 있다. 보다 효율적이고 및/또는 더 높은 수율의 제조, 감소된 오염 및/또는 미립자 생성, 강화된 밀봉 등을 비롯한, 다양한 이점이 상기한 피쳐를 활용하여 구현될 수 있다.

주입기 장치 개념

사용 시, 주입기 장치는, 통상적으로 의료용으로 환자에게 전달되는 치료제 또는 기타 물질인 유체를 저장(예를 들어, 단기 또는 장기)하고 전달하기 위해 이용될 수 있다. 일부 실시형태에서, 이러한 주입기 장치는 치료제를 환자에게 전달하기 위한 주입기 장치의 계획된 사용에 앞서 (예를 들어, 사전-충전 주사기로서) 치료제로 미리 충전될 수 있다. 주입기 장치에는 안과 질환(예를 들어, 황반변성 및 녹내장) 또는 당뇨병과 같은 질환(그러나 이에 국한되지는 않음)을 치료하는 치료제가 들어 있을 수 있다. 잠재적인 치료제의 비제한적인 예를 후속하여 기술한다. 유리하게는, 다양한 실시형태에서, 스토퍼 및 배럴에는 실리콘 또는 실리콘 오일이 들어 있지 않다. 예를 들어, 다양한 실시형태에 따르면, 본원에 기술된 주입기 장치에 있어서의 배럴 및 스토퍼에는 실리콘 및 실리콘 오일(또는 기타 액체 윤활제)이 없거나 실질적으로 없을 수 있다. 일부 경우에 있어서, 스토퍼와 배럴에는 (액체 형태이고 이에 따라 적어도 어느 정도 자체 윤활되는 주입기 장치 내의 치료 물질은 물론 제외한) 임의의 기타 액체 윤활제가 상당한 양으로 들어 있지 않거나 또는 실질적으로 없다.

도 1은 일부 실시형태에 따른 주사기 형태의 주입기 장치(10)를 도시한다. 도시된 바와 같이, 주입기 장치(10)는 배럴(20), 피어싱 요소(30), 및 배럴(20) 내에 수용되고 작동 기구(50)(예를 들어, 도시된 바와 같이 플런저 로드)에 작동적으로 커플링된 스토퍼(40)를 포함한다.

도시된 바와 같이, 배럴(20)은 근위 단부(120)와 원위 단부(122) 사이에서 연장된다. 배럴(20)은 내면(124) 및 외면(126)을 갖고, 내면은 배럴(20)에 의해 형성되는 수용 챔버(128)의 경계를 이룬다. 도시된 바와 같이, 배럴(20)의 근위 단부(120)는, 사용자가 작동 기구(50)를 누르고 당기는 것을 돕는 핑거 스토퍼 또는 핸들로서 사용될 수 있는 플랜지를 포함할 수 있다.

피어싱 요소(30)는 날카롭고 뾰족한 니들 캐뉼라, 또는 "무바늘" 시스템에 사용되는 것과 같이 끝이 무딘 캐뉼라를 포함할 수 있다. 예시의 용이함을 위해, 피어싱 요소(30)는 날카롭고 뾰족한 원위 단부를 갖는 날카롭고 뾰족한 세장형의 니들 캐뉼라로서 도시된다. 도시된 바와 같이, 피어싱 요소(30)는 배럴(20)의 원위 단부(122)와 커플링된다.

스토퍼(40)는 배럴(20)에 활주 가능하게 수용되고 배럴(20)의 내면(124)과 밀봉되도록 구성된다. 보다 구체적으로, 스토퍼(40)는 작동 기구(50)에 의해 배럴(20) 내에서 작동되어 수용 챔버(128)의 내용물을 가압하고 피어싱 요소(30)를 통해 배럴(20)로부터 배출하도록 구성된다.

작동 기구(50)는 원위 단부(152) 및 근위 단부(154)를 구비하고, 원위 단부(152)는 스토퍼(40)에 작동적으로 커플링되며, 예를 들어 작동 기구(50)가 배럴(20) 내에서 스토퍼(40)를 길이방향(또는 다른 방향)으로 변위시키도록 구성되는 방식으로, 스토퍼(40)와 체결되거나, 일체적으로 형성되거나, 또는 다른 방식으로 연관된다.

도 2는 일부 실시형태에 따른 자동 주입기 형태의 주입기 장치(100)로서, 배럴(20), 스토퍼(40) 및 작동 기구(50)(주입기 장치(100)와 관련하여 주입 부재라고도 기술됨)가 유사하게 구성 및 이용될 수 있는 주입기 장치를 도시한다. 주입기 장치(100)의 작동 기구(50)는 스토퍼(40)에 가해지는 가변 작동력을 이용 또는 발휘할 수 있다. 예를 들어, 작동 기구(50)는 하나 이상의 편향 부재(예를 들어, 스프링) 및 이러한 기능성을 달성하기 위한 다른 피쳐를 포함할 수 있다. 주입기 장치(100)의 다양한 기타 구성요소는, 관련 실시 분야의 당업자에 의해 이해되는 바와 같이, 주입기 장치(10)의 구성요소와 실질적으로 유사하다. 이러한 설명을 위해, 본원에 기술된 스토퍼(40)의 다양한 피쳐는 주입기 장치(10)의 구성에서 활용되는지 또는 주입기 장치(100)의 구성에서 활용되는지에 관계없이 적용 가능하다. 더 넓게 보면, 배럴(20) 및 스토퍼(40)와 관련하여 본원에 기술된 개념은 다양한 주입기 장치 구성 중 임의의 구성에서 구현될 수 있다.

주입기 장치(10, 100)는 배럴(20)의 수용 챔버(128)에 물질(60)을 포함할 수 있다. 일부 예에서, 물질(60)은 제조 현장, 또는 주입기 장치(10, 100)가 최종 사용자에 의해 이용되는 치료 현장 또는 부위로부터 멀리 떨어진 현장(예를 들어, 임상 현장)에서, 챔버 내에 놓이거나 또는 다른 방식으로 배치된다. 이러한 경우에, 주입기 장치(10, 100)는 "사전 충전된" 것으로 지칭될 수 있다(예를 들어, 주입기 장치(10)의 예에서는, 사전 충전 주사기). 물질(60)은 소정량(예를 들어, 1회 이상의 투여량)의 의약 조성물일 수 있다. 적절한 의약 조성물의 일부 예를 이하에 기술한다. 그러나, 물질(60)은 주사기로부터 배출될 수 있는 임의의 타입의 액체 또는 물질일 수 있고, 또는 물질(60)은, 예를 들어 미충전 주사기에서와 같이, 일제히 수용 챔버에 없을 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 이러한 예에서, 주입기 장치(10, 100)는 치료 현장에서 또는 그 근처에서 충전될 수 있다(예를 들어, 주입기 장치를 "충전"하는 것으로도 기술됨).

도 3 및 도 4는 스토퍼(40)의 예시적인 구성의 평면도 또는 정면도로서, 스토퍼(40)의 우측 절반이 도 3의 구성에 단면으로 도시되어 있고 스토퍼(40)의 좌측 절반이 도 4의 구성의 단면으로 도시되어 있다.

도 3 및 도 4의 구성 각각에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)는 탄성 재료로 제조된 본체(240)와, 본체(240) 상에 마련된, 배리어 필름 등과 같은 배리어(242)를 포함한다. 스토퍼(40)는 외측면(244), 종축(X), 및 종축(X)을 따른 높이를 갖는다. 스토퍼(40)는 선두면(246)과 후미면(248) 사이에서 연장된다. 도시된 바와 같이, 배리어(242)는 외측면(244) 및/또는 선두면(246)의 일부분(전체 포함)을 따라 연장될 수 있다. 필요에 따라, 배리어(242)는 또한 후미면(248)의 일부분(전체 포함)을 따라 연장될 수 있다.

일부 실시형태에서, 본체(240)는 스토퍼(40)에 대해 소기의 정도의 탄성 컴플라이언스를 제공한다. 예를 들어, 스토퍼(40)가 배럴(20)에 삽입될 때 스토퍼(40)가 배럴(20)과 포지티브하게 결합되도록, 본체(240)는 압축될 수 있다. 본체(240)에 적합한 재료를 이하에서 추가로 기술한다.

다양한 예에서, 본체(240)에 제공된 배리어(242)는, 배리어(242)를 통한 본체(240)로부터의(또는 본체로의) 물질의 이동을 막고, 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 활주 및/또는 정지 마찰을 감소시키고, 및/또는 스토퍼(40)와 배럴(20) 사이의 밀봉을 강화시키도록 구성된다. 이러한 피쳐들은 예시적인 의미로 언급된 것이며, 배타적인 목록이 되는 것을 의도하고 있지 않다. 배리어(242)는 단일 층 또는 복수 층일 수 있다. 배리어(242)는 서로 고유한 특성을 갖는 복수 층으로 구성될 수 있고, 및/또는 배리어는 층마다 보다 균질한 특성을 갖는 보다 균질한 구조물을 형성하도록 융합되거나 다른 방식으로 커플링되는 유사한 특성을 갖는 복수 층을 포함할 수 있다. 배리어(242)는 또한 배리어(242)의 하나 이상의 층으로서 역할을 하는 복합 재료(예컨대, 매트릭스 필름 재료 및 필러)를 포함할 수 있다. 배리어(242)에 적합한 재료를 이하에서 추가로 기술한다.

도 3 및 도 4의 구성 각각에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)는 짧은 원통형 형상을 갖고, 선두면(246)은 스토퍼(40)의 원추형 단부에 의해 형성된다. 도시된 바와 같이, 원추형 단부는 둔각을 형성하도록 종축(X)으로부터 멀리 돌출될 수 있다. 작동 기구(50)가 나사형 체결 장치를 사용하여 스토퍼(40)에 커플링되는 예에서, 스토퍼(40)는 후미면(248)에 암나사부를 갖는 축방향 리세스(250)를 포함할 수 있다.

도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측면(244)은, 원주 방향으로 연장되는 하나 이상의 환형 리브(300)와 같은, 매크로 리브라고도 기술되는 하나 이상의 리브(300) 및/또는 원주 방향으로 연장되는 하나 이상의 환형 홈(310)과 같은, 매크로 홈이라고도 기술되는 하나 이상의 홈(310)을 형성할 수 있다. 동작 시, 리브(300) 중 하나 이상은 활주 접촉하는 배럴(20)의 내면(124)(도 1 및 도 2)과 맞물리도록 구성된다. 스토퍼(40)는 허용 가능하게 낮은 브레이크 해제력, 낮은 평균 활주력 및 낮은 활주력 변동 중 하나 이상을 유지하면서 높은 레벨의 기체(예컨대, 공기) 및 액체 불투과성으로 용기 마개 완전성을 달성하도록 구성될 수 있다.

리브(300)는 임의의 수의 구성으로 구조화될 수 있다. 예를 들어, 최원위 또는 선두 리브만이 밀봉면을 가질 수 있다. 이와 같이 형성된 시일의 품질은 당업자에게 친숙한 임의의 수의 방법(예를 들어 헬륨 누출 시험)에 의해 평가될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 일부 실시형태에서, 복수의 리브(300)는 밀봉면을 가질 수 있다. 하나 이상의 실시형태에서, 밀봉면을 갖는 리브(300) 모두가 동일한 소정의 외경(예컨대, 스토퍼(40)가 비압축 상태일 때 각각의 리브의 정점으로부터 측정)을 가질 수 있다. 다른 실시형태에서, 밀봉면을 갖는 각각의 리브(300)는 소정의 자체 외경을 가질 수 있다. 예를 들어, 원위 또는 선두 리브는 소정의 외경을 가질 수 있고 근위 또는 후미 리브는 원위 또는 선두 리브의 소정의 외경의 약 75% 내지 약 99.9%인 소정의 외경을 가질 수 있다. 본 개시 내용의 정신 및 범위를 벗어나지 않으면서, 예를 들어 밀봉면을 갖는 3개의 리브를 구비하는 것과 같은, 다른 타입의 리브 배치 구성이 고려된다.

도 3 및 도 4에는 3개의 리브(300)가 도시되어 있지만, 임의의 수(예를 들어, 1개, 2개, 4개, 10개 등)의 리브가 고려될 수 있다. 도시된 바와 같이, 리브(300)는 배럴(20)의 내면(124)과 활주 접촉하도록 구성된 밀봉면(320A)(활주 접촉부(320A)라고도 기술됨)을 갖는 선두 리브(300A)를 포함한다. 도 3에 도시된 바와 같이, 리브(300) 중 하나 이상은 선택적으로, 밀봉면(예를 들어, 밀봉면(320A))이 다소 플랫할 수 있고 스토퍼(40)의 외측면(244)의 길이의 1 내지 25%의 폭을 가질 수 있는, 플랫 프로파일(예를 들어, 선두 리브(300A))을 갖는다. 도 4에 도시된 바와 같이, 리브(300) 중 하나 이상(예를 들어, 선두 리브(300A))은 선택적으로, 외측으로 볼록한 형상을 갖는데, 여기서 밀봉면(예를 들어, 밀봉면(320A))은 상대적으로 더 좁은 프로파일을 갖는다. 도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 리브(300)는 또한 중간 리브(300B) 및 후미 리브(300C)를 포함한다. 도시된 바와 같이, 중간 리브(300B)와 후미 리브(300C)는 선택적으로, 단면도로 보았을 때 외측으로 볼록한 형상을 갖는다. 중간 리브(300B)와 후미 리브(300C) 각각은 선택적으로, 배럴(20)의 내면(124)과 활주 접촉하도록 구성된 밀봉면(320B, 320C)을 각각 갖는다. 리브(300) 중 하나 이상이 외측으로 볼록한 형상을 갖는 경우, 대응하는 밀봉면은 스토퍼(40)의 종축(X)을 따라 측정될 때 상대적으로 작은 폭을 가질 수 있다. 구성에 따라, 밀봉 접촉면(320B, 320C) 각각은 스토퍼(40)의 외측면(244)의 길이의 0%보다 크고 최대 15%인 폭을 가질 수 있다.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)의 외측면(244)은 주름(362) 및 스크래치(364)와 같은 하나 이상의 결함(900)(부스러기 형태의 결함(900)의 예는 도 16a와 관련하여 찾아볼 수 있고 설명될 수 있음)을 포함할 수 있다. 주름(362) 및/또는 스크래치(364)와 같은 다양한 결함(900)은 종방향으로 또는 원주 방향 또는 종방향과 원주 방향으로(예를 들어, 나선형으로)로 배향될 수 있다. 결함(900)은 상대적으로 선형, 곡선형, 또는 양자 모두일 수 있다. 결함은 스토퍼(40) 상의 임의의 위치에 위치될 수 있지만, 특히 리브(300) 및 관련 밀봉면(320) 뿐만 아니라 이하에 기술되는 것과 같은 하나 이상의 마이크로 피쳐(400) 상에 또는 이들 피쳐를 따라 널리 퍼져 있을 수 있다. 이들 결함은, 스토퍼(40)가 처음 형성될 때(예를 들어, 배리어(242)가 본체(240)에 부착될 때) 또는 스토퍼(40)를 배럴(20)에 설치하는 과정을 비롯한 제조 프로세스의 임의의 시점에 형성될 수 있다. 예를 들어, 스토퍼가 직경 방향으로 압축될 때 주름(362)이 형성될 수 있다. 그리고, 예를 들어 배럴(20) 또는 조립 프로세스 동안에 이용되는 다른 관형 부재에 대해 스토퍼(40)가 미끄럼 이동될 때, 스크래치(364)가 형성될 수 있다.

마이크로 피쳐 개념

도 3 및 도 4에 표시된 바와 같이, 스토퍼(40)는, 하나 이상의 리브(300)에, 예를 들어 선두 리브(300A)의 활주 접촉부(320A)에, 위치된 하나 이상의 마이크로 피쳐(400)를 포함한다. 일부 예에서, 하나 이상의 마이크로 피쳐(400)는 하나 이상의 마이크로 홈 및/또는 마이크로 리브를 포함한다. 일부 예에서, 마이크로 피쳐(400)는 폭 및 깊이를 갖는데, 여기서 깊이는 마이크로 리브의 경우 돌출량이고 마이크로 홈의 경우 리세스의 양이다. 일부 실시예에서, 폭 및 깊이 중 어느 하나 또는 양자 모두는 예를 들어 200 ㎛ 이하, 100 ㎛ 이하, 50 ㎛ 이하, 10 ㎛ 이하, 또는 5 ㎛ 이하이지만, 다양한 치수가 고려된다. 전술한 "보다 크지 않은(이하)" 범위 각각은 "0"보다 큰 값을 포함한다는 점에 유의해야 할 필요가 있다.

도 5는 스토퍼(40)의 외측면(244)을 따라 있는 스토퍼(40)의 하나 이상의 부분의(예를 들어, 리브(300) 중 어느 하나에서의) 확대 단면도를 나타낸다. 도 6 내지 도 9는 배리어(242)에 형성된, 도 5에 표시된 영역 "A"에 포함된 다양한 마이크로 피쳐(마이크로 홈/마이크로 보이드)를 나타낸다. 예시의 용이함을 위해, 도 5 내지 도 9에서 본체(240)와 배리어(242)는 직선 에지로 도시되어 있지만, 도시된 영역이 스토퍼(40)의 (예를 들어, 매크로 리브(300)들 중 어느 하나 또는 매크로 홈(310)들 중 어느 하나 상의) 만곡부에 대응한다면, 어느 정도의 곡률이 (예를 들어, 안쪽으로 또는 바깥쪽으로 볼록하게) 나타날 수 있는 것으로 이해되어야 한다.

전술한 내용을 염두에 두고 보면, 도 5는 일부 실시형태에 따른, 스토퍼(40)의 본체(240) 및 배리어(242)의 단면을 도시한다. 도 5 내지 도 14의 각각에 파선으로 나타내어진 바와 같이, 배리어(242)는 선택적으로 복수의 층을 포함하고, 또는 제1 재료의 제1 층(402) 및 제2 재료의 제2 층(404)을 포함하는 다층 배리어이다. 배리어(242)는 1 ㎛ 내지 200 ㎛와 같은, 다양한 두께 중 임의의 두께를 가질 수 있다.

도시된 바와 같이, 제1 층(402)은 제2 층(404) 아래에 배치될 수 있다. 일반적으로 두 개의 층이 예시되어 있지만, 임의의 수의 층이 고려되는 것으로 이해되어야 한다(예컨대, 도 16과 관련 설명 참조). 도시된 바와 같이, 제1 층(402)은 스토퍼(40)의 본체(240)를 향하는 내면(410) 및 제2 층(404)을 향하는 외면(412)을 갖는다. 이어서, 제2 층(404)은 제1 층(402)을 향하는 내면(420) 및 본체(240)로부터 멀어지는 쪽을 향하는 외면(422)을 포함한다. 다양한 예에서, 제1 층(402)의 내면(410)은 본체(240)에 커플링(예를 들어, 접합, 접착, 체결 또는 다른 방식으로 연결)된다. 그리고 이어서, 제2 층(404)의 내면(420)은 제1 층(402)에 커플링(예를 들어, 접합, 접착, 체결 또는 다른 방식으로 연결)된다. 일부 실시형태에서, 제1 층(402)은 "내층"으로 지칭될 수 있고 제2 층(404)은 배리어(242)의 "외층"으로 지칭될 수 있지만, 제1 층(402) 및/또는 제2 층(404) 중 하나는 배리어(242)의 하나 이상의 다른 층(들) 사이에 위치된 중간층 또는 매립층일 수 있다.

다양한 예에서, 복수의 층 중 하나(예를 들어, 제1 층(402))는 복수의 층 중 다른 하나(예를 들어, 제2 층(404))의 제2 재료보다 에너지원에 의해 더 활성화 가능한 제1 재료를 포함할 수 있다. 다른 층보다 에너지원에 의해 더 활성화 가능한 어느 한 층의 이러한 피쳐는, 다양한 위치에서 배리어(242)의 하나 이상의 층의 다양한 표면 피쳐들 중의 임의의 것을 우선적으로 리폼하는데 활용될 수 있다.

별도로 기술된 것을 비롯하여, 배리어(242)의 각 층에 대해 다양한 재료가 고려된다. 예를 들어, 제1 재료 및/또는 제2 재료는 플루오로폴리머(예를 들어, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 또는 확장 PTFE(ePTFE))를 포함할 수 있다. 일부 예에서, 제1 층(402)은 미세다공성이고 제1 다공성을 정하며, 제2 층(404)은 제1 층보다 낮은 다공성을 갖고, 선택적으로 제2 층(404)은 제1 층(402)보다 더 높은 용융 온도를 특징으로 한다. 필요에 따라, 제2 층(404)은 제1 층(402)보다 더 높은 치수 안정성을 특징으로 할 수 있다. 제1 층(402)의 제1 재료와 제2 층(404)의 제2 재료 중 적어도 하나는 열가소성 재료를 포함할 수 있다. 필요에 따라, 제1 층(402)의 제1 재료는 제1 재료의 빛 에너지 및/또는 고주파 에너지의 흡수를 증가시키도록 구성된 필러를 포함할 수 있다. 그리고, 필러는 예를 들어, 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP) 및 에틸렌 테트라플루오로에틸렌(ETFE) 중 적어도 하나를 포함할 수 있다.

여러 예에서, 배리어(242)는 초기 형성 이후에 변경 또는 리폼된 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 매크로 피쳐(398) 또는 마이크로 피쳐(400)를 포함한다. 후술하는 바와 같이, 도 6 내지 도 14는 이러한 실시형태에 관한 다양한 개념을 예시한다.

도 6 내지 도 13은 각각 표면 피쳐를 보여 주지만, 예들 중 임의의 예가 다른 도면과 관련하여 도시 및 기술된 표면 피쳐의 다양한 다른 예와 조합될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 기계적인 성형 수단(예컨대, 절단, 성형, 스크라이빙, 몰딩 등)도 또한 고려되지만, 이러한 피쳐를 형성하는 일부 예시적인 방법은 에너지원을 배리어(242)에 지향시키는 것(예를 들어, 도 19 내지 도 21과 관련 설명 참조)을 포함한다. 이러한 피쳐를 리폼하는 일부 방법은, 배리어(242)의 일부분을 활성화(예컨대, 리플로우, 융제, 용융 또는 증발)하여 하나 이상의 표면 피쳐를 리폼하도록, 에너지원이 어느 한 층(예를 들어, 제1 층(402) 또는 제2 층(404))에 또는 어느 한 층(예를 들어, 제2 층(404))을 통해 다른 층(예를 들어, 제1 층(402)) 내로 지향될 수 있다. 예를 들어, 레이저 에너지의 경우, 제2 층(404)은, 레이저가 제2 층(404)을 활성화하지 않으면서 제2 층(404)을 통과하는 것을 허용할만큼 레이저에 대해 충분히 투과성일 수 있다. 이어서, 제1 층(402)은 레이저 에너지에 대해 상대적으로 더 흡수성이 있을 수 있고, 따라서 레이저 에너지에 대해 더 반응성이 있을 수 있다.

도 3과 도 4는 매크로 리브 및 매크로 홈의 형태로 매크로 피쳐의 여러 예를 제공한다. 일반적으로, 이러한 피쳐는 연속적인 환형 피쳐이다. 마이크로 피쳐(400)는 또한 스토퍼 주위에서 연장되는 연속적인 환형 피쳐로서 형성될 수 있지만, 일련의 개별 볼륨 또는 개별 볼륨의 패턴(예를 들어, 도 24 내지 도 33 및 관련 설명 참조)도 또한 고려되는 것으로 이해될 것이다.

다양한 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400) 또는 매크로 피쳐(398))의 리폼 이후에, 표면 피쳐는 리폼 이전과는 상대적으로 다른 물리적 특성을, 예컨대, 증대된 컴플라이언스; 감소된 압축 저항; 감소된 두께; 증가된 유연성 등 중의 하나 이상을 나타낼 수 있다. 이러한 특성은 (예를 들어, 증대된 밀봉력과 감소된 활주 저항 사이의 관계를 최적화하기 위해) 리브의 유효 밀봉면 면적을 감소시키는 점에서, 및/또는(예를 들어, 증대된 밀봉력과 감소된 활주 저항 사이의 관계를 최적화하기 위해) 스토퍼의 변위 동안 리브에 있어서의 밀봉력을 감소시키는 점에서 유익할 수 있고, 또는 성능 및 신뢰성 면에서 다른 이점이 있을 수 있다.

전술한 내용을 고려해 보면, 본 개시 내용의 여러 양태는, 리브(예컨대, 매크로 리브 또는 마이크로 리브)의 형성 이후에 주사기 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 밀봉면을 구비하는 스토퍼의 리브 기하학적 구조를 리폼하는 방법에 관한 것으로, 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계를 포함한다. 일부 방법에서, 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는 상기 리브의 제1 에지에 홈을 형성하는 것을 포함한다. 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는, 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 리플로우, 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 절단, 및 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 제거 중의 적어도 하나를 포함할 수 있다.

전술한 내용을 염두에 두고 보면, 도 6은 리폼 이전의 매크로 리브(398a)(예컨대, 전술한 리브들(300A, 300B, 300C) 중의 임의의 것) 형태의 스토퍼(40)(예컨대, 배리어(242))의 표면 피쳐를 도시한다. 도 7은 리폼된 매크로 리브(398a)에 의해 형성된 마이크로 리브(400b) 형태의 리폼된 표면 피쳐를 도시한다. 도 6에 도시된 바와 같이, 배리어(242)는 선택적으로 복수의 층(예컨대, 제1 및 제2 층(402, 404))을 포함하고, 배리어(242) 및 하위 본체(240) 양자 모두가 배리어(242)에 의해 형성되는 매크로 리브(398a)를 형성한다. 매크로 리브(398a)는 일반적으로 리폼 이전의 호 길이 또는 폭을 갖는 크라운(450a)을 형성한다. 리폼 이후, 새롭게 형성된 마이크로 리브(400b)는 리폼 이전의 크라운(450a)보다 더 좁은 폭, 또는 상대적으로 더 짧은 호 길이를 갖는 크라운(450b)을 구비할 수 있다. 여러 예에서, 매크로 리브(398a)의 전체 프로파일은 마이크로 리브(400b)보다 상대적으로 더 둥글다. 다른 말로 하면, 마이크로 리브(400a)는 리폼 프로세스 이후에 매크로 리브(398a)보다 상대적으로 더 평평한 프로파일을 나타낸다.

도 6에 나타내어진 바와 같이, 매크로 리브(398a)는 제1 및 제2 에지(452a, 454a)라고도 지칭되는 제1 측면(452a) 및 제2 측면(454a)을 갖고, 리폼 프로세스는 매크로 리브(398a)의 양측면에서 배리어(242)로부터 복수의 재료 영역(456a)을 제거하는 것 - 예컨대, 제1 측면(452a)과 제2 측면(454a)으로부터 재료를 제거하는 것을 포함한다. 두 영역(456a)의 제거의 결과로, 예를 들어 마이크로 리브(400a)의 양측면에, 2개의 환형 보이드(458a)가 형성될 수 있다. 따라서, 리폼된 표면 피쳐를 제공하기 위해, 매크로 리브(398a)의 제1 및 제2 측면(452a, 454a) 또는 에지가 리폼된다. 상기 영역(452a)은 에너지 수단(예컨대, 레이저 에너지) 또는 기계적 수단(예컨대, 절단, 스크라이빙, 몰딩 또는 성형)을 이용하여 제거될 수 있다.

그리고, 여러 예에서, 결과적으로 얻어진, 리폼된 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 리브(400a))는 종축 X에 평행한 종방향으로 보다 큰 굽힘 유연성을 갖는다. 이와 같이 보다 큰 굽힘 유연성을 갖는 피쳐로 인해, 마이크로 리브(400a)는 편향 효과 또는 와이퍼 효과를 나타내게 될 수 있다(또한, 도 12 내지 도 14와 관련 설명 참조). 예를 들어, 마이크로 리브(400a)는 2개의 환형 보이드(458a)의 에지 사이에서 스윕각(α)에 걸쳐 편향 가능하거나 또는 구부러질 수 있다. 스윕각(α)은, 예를 들어 다양한 값이 고려되지만, 15도보다 클 수 있거나, 예를 들어 또는 최대 180도일 수 있다. 다른 말로 하면, 스윕각(α)은 +/- 90도, +/- 60도, +/- 45도, +/- 15도, 또는 다른 어떤 값일 수 있다. 마이크로 리브(400a)가 편향되거나 또는 구부러짐에 따라, 상대 밀봉 압력이 감소되고 활주 저항도 또한 빠르게 감소된다. 이러한 방식으로, 마이크로 리브(400a)는 비교적 낮은 활주 저항과 함께, 비교적 높은 정적 밀봉 능력을 나타낼 수 있다. 휨 또는 와이퍼 효과는 추가적으로 또는 대안적으로, 마이크로 리브(400a)가, 작동 중의 밀봉 효과의 향상 및/또는 마멸에 기인한 미립자의 감소를 위해, 결함, 미립자, 및 배럴(20)의 다른 피쳐에 대해 보다 순응적 또는 수용적이게 되는 것을 허용할 수 있다.

도 6에 일반적으로 나타내어진 바와 같이, 일부 성형 방법은, 배리어의 재료를 (예컨대 스토퍼(40)의 외측면(244)으로부터) 제거하고 환형 보이드(458a)를 형성하기 위해, 매크로 리브(398a)에, 그리고 구체적으로 복수의 영역(456a)에 에너지(1312) 및 에너지(1322)를 지향시키는 것을 포함한다. 복수의 층을 포함하는 일부 예에서는, 하나 이상의 층의 재료가 제거될 수 있다. 도 6에 도시된 바와 같이, 제2 층(404)의 재료는 제거될 수 있다. 이러한 피쳐를 형성하기 위한 몇몇 예시적인 방법 및 시스템이 도 19 내지 도 21과 관련하여 기술된다.

도 8은 리폼 이전의 마이크로 리브(400c) 형태의 스토퍼(40)(예컨대, 배리어(242))의 표면 피쳐를 도시한다. 도 9는 리폼된 마이크로 리브(400c)에 의해 형성된 마이크로 리브(400d) 형태의 리폼된 표면 피쳐를 도시한다. 파선으로 나타내어진 바와 같이, 배리어(242)는 선택적으로 복수의 층(예컨대, 제1 및 제2 층(402, 404))을 포함하고, 배리어(242)(예컨대, 제2 층(404))는 마이크로 리브(400c)를 형성한다. 마이크로 리브(400c)는 일반적으로 리폼 이전의 호 길이 또는 폭을 갖는 크라운(450c)을 형성한다. 리폼 이후, 새롭게 리폼된 마이크로 리브(400d)는 리폼 이전보다 더 좁은 폭, 또는 상대적으로 더 짧은 호 길이를 갖는다. 추가적으로, 크라운(450d)은 크라운(450c)보다 좁기 때문에, 마이크로 리브(400c)의 전체 프로파일은 마이크로 리브(400d)보다 상대적으로 더 둥글다. 다른 말로 하면, 마이크로 리브(400d)는 리폼 프로세스 이후에 마이크로 리브(400c)보다 상대적으로 더 평평한 프로파일을 나타낸다.

도 8에 나타내어진 바와 같이, 마이크로 리브(400c)는 제1 및 제2 에지(452c, 454c)라고도 지칭되는 제1 측면(452c) 및 제2 측면(454c)을 갖고, 리폼 프로세스는 마이크로 리브(400c)의 양측면에서 배리어(242)로부터 복수의 재료 영역(456c)을 제거하는 것 - 예컨대, 제1 측면(452c)과 제2 측면(454c)으로부터 재료를 제거하는 것을 포함한다. 두 영역(456c)의 제거의 결과로, 예를 들어 마이크로 리브(400d)의 양측면에, 2개의 환형 보이드(458d)가 형성될 수 있다. 따라서, 리폼된 표면 피쳐, 마이크로 리브(400d)를 제공하기 위해, 마이크로 리브(400c)의 제1 및 제2 측면(452c, 454c) 또는 에지가 리폼된다. 상기 영역(456c)은 에너지 수단(예컨대, 레이저 에너지) 또는 기계적 수단(예컨대, 절단, 스크라이빙, 몰딩 또는 성형)을 이용하여 제거될 수 있다.

여러 예에서, 결과적으로 얻어진, 리폼된 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 리브(400d))는 종축 X에 평행한 종방향으로 보다 큰 굽힘 유연성을 갖는다. 이와 같이 보다 큰 굽힘 유연성을 갖는 피쳐로 인해, 마이크로 리브(400a)는 편향 효과 또는 와이퍼 효과(또는 향상된 편향 또는 와이퍼 효과 - 도 12 내지 도 14와 관련 설명도 또한 참조)를 나타내게 될 수 있다. 예를 들어, 마이크로 리브(400d)는 2개의 환형 보이드(458d)의 에지 사이에서 스윕각(α)에 걸쳐 편향 가능하거나 또는 구부러질 수 있다. 다른 말로 하면, 스윕각(α)은 +/- 90도, +/- 60도, +/- 45도, +/- 15도, 또는 다른 어떤 값일 수 있다. 스윕각(α)은, 예를 들어 다양한 값이 고려되지만, 15도보다 클 수 있거나, 예를 들어 또는 최대 180도일 수 있다. 도 7과 관련하여 전술한 바와 같이, 마이크로 리브(400d)가 편향되거나 또는 구부러짐에 따라, 상대 밀봉 압력이 감소되고 활주 저항도 또한 빠르게 감소된다. 이러한 방식으로, 마이크로 리브(400d)는 비교적 낮은 활주 저항과 함께, 비교적 높은 정적 밀봉 능력을 나타낼 수 있다. 또, 휨 또는 와이퍼 효과는 추가적으로 또는 대안적으로, 마이크로 리브(400d)가, 작동 중의 밀봉 효과의 향상 및/또는 마멸에 기인한 미립자의 감소를 위해, 결함, 미립자, 및 배럴(20)의 다른 피쳐에 대해 보다 순응적 또는 수용적이게 되는 것을 허용할 수 있다.

도 8에 도시된 바와 같이, 일부 리폼 방법은, 배리어의 재료를 (예컨대, 스토퍼(40)의 외측면(244)으로부터) 제거하고 환형 보이드(458d)(도 9)를 형성하기 위해, 마이크로 리브(400c)에, 그리고 구체적으로 복수의 영역(456c)에 에너지(1312) 및 에너지(1322)를 지향시키는 것을 포함한다. 복수의 층을 포함하는 일부 예에서는, 하나 이상의 층의 재료가 제거될 수 있다. 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 제2 층(404)의 재료는 제거될 수 있다. 이러한 피쳐를 리폼하기 위한 몇몇 예시적인 방법 및 시스템이 도 19 내지 도 21과 관련하여 기술된다.

도 10a는 배리어의 재료를 리플로우하기 위해 또는 배리어의 재료의 고분자 운동을 일으키기 위해, 마이크로 리브(400c)에, 그리고 구체적으로 하나 이상의 영역(456c)에 에너지(1312) 및 에너지(1322)를 지향시키는 것을 포함하는 다양한 리폼 방법에 따른 다른 예를 도시한다. 복수의 층을 포함하는 일부 예에서, 하나 이상의 층의 재료는 리플로우하게 되거나 또는 고분자 운동을 나타내게 될 수 있다. 도 10a 및 도 10b에 도시된 바와 같이, 제2 층(404)의 재료는 리플로우하게 될 수 있다. 도시된 바와 같이, 마이크로 리브(400)의 크라운(450c)은 비교적 뾰족한 반경으로 시작되고, 변경 또는 리폼 이후에는 프로파일이 상대적으로 더 평평해진다. 이러한 피쳐를 리폼하기 위한 몇몇 예시적인 방법 및 시스템이 도 19 내지 도 21과 관련하여 기술된다. 도 11a는 리폼 이전의 관련된, 융기 에지 피쳐(400f) 또는 마이크로 리브(400f)를 갖는 마이크로 홈(400e) 형태의 스토퍼(40)(예컨대, 배리어(242))의 표면 피쳐의 또 다른 예를 도시한다. 도 11b는 리폼된(예컨대, 제거된) 융기 에지 피쳐(400f) 또는 마이크로 리브(400f)에 의해 형성된 마이크로 홈(400g) 형태의 리폼된 표면 피쳐를 도시한다. 파선으로 나타내어진 바와 같이, 배리어(242)는 선택적으로 복수의 층(예컨대, 제1 및 제2 층(402, 404))을 포함하고, 배리어(242)(예컨대, 제2 층(404))는 마이크로 홈(400e, 400g)을 형성한다.

도시된 바와 같이, 마이크로 홈(400e)은, 양측에 2개의 융기된 에지 피쳐(400f)를 갖는 제2 층(404)의 두께로의 함몰부이다. 여러 예에서, 상기 2개의 융기된 에지 피쳐(400f)는, 마이크로 홈(400e)의 성형 프로세스의 일환으로(예컨대, 레이저 성형 프로세의 일환으로) 마이크로 홈(400e)에 인접하게 재퇴적된 제2 층(404)으로부터 리플로우된 재료에 의해 생성된다. 리폼 이후에, 상기 2개의 융기된 에지 피쳐(400f)는 감소 또는 제거되고, 새롭게 리폼된 마이크로 홈(400g) 주위의 영역은 리폼 이전보다 더 낮은 프로파일 또는 상대적으로 더 평평한 프로파일을 갖는다.

도 11a 및 도 11b에 나타내어진 바와 같이, 리폼 프로세스는 양측의 상기 2개의 융기된 에지 피쳐(400f)의 적어도 일부분(예컨대, 실질적으로 전부)을 제거하는 것을 포함한다. 상기 융기된 에지 피쳐(400f)는 에너지 수단(예컨대, 레이저 에너지) 또는 기계적 수단(예컨대, 절단, 스크라이빙, 몰딩 또는 성형)을 이용하여 제거될 수 있다. 일부 실시형태에서, 상기 융기된 에지 피쳐(400f)의 재료는, 마이크로 홈(400e)을 제조하는 데 사용되는 성형 프로세스의 결과로, 부분적으로만 부착되고 및/또는 상대적으로 더 약한 재료로 구성된다. 이러한 부분적인 또는 더 약한 부착/구조는 도 11a에서는 상기 융기된 에지 피쳐(400f)의 베이스에서 일반적으로 물결선에 의해 나타내어져 있다. 예를 들어, 상기 융기된 에지 피쳐(400f)를 형성하는 재퇴적된 재료는 형상이 불규칙할 수 있고, 성형 프로세스의 일환으로 부분적으로 파괴 및 약화될 수 있으며, 또는 그렇지 않으면 스토퍼(40)가 배럴(20) 안에서 작동되는 동안 및/또는 스토퍼(40)가 배럴(20)에 삽입되는 동안 스토퍼(40)의 외측면(244)으로부터 마멸되기 쉬울 수 있다.

따라서, 여러 예에서, 결과적으로 얻어진, 리폼된 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 홈(400g))는: 더 낮은 마멸 또는 분리 가능성, 보다 큰 프로파일의 규칙성, 또는 이들의 조합 중 하나 이상을 갖는다. 이러한 피쳐들로 인해, 미립자가 줄어들게 될 수 있고, 및/또는 작동의 반복성(밀봉 및/또는 활주 기능성)이 더 커질 수 있게 된다.

이전 실시형태들과 유사하게, 일부 리폼 방법은, 배리어의 재료를 (예컨대, 스토퍼(40)의 외측면(244)으로부터) 제거하고 환형 보이드(458d)(도 9)를 형성하기 위해, 마이크로 리브(400c)에, 그리고 구체적으로 복수의 영역(456c)에 에너지(1312) 및 에너지(1322)를 지향시키는 것을 포함한다. 복수의 층을 포함하는 일부 예에서는, 하나 이상의 층의 재료가 제거될 수 있다. 도 8 및 도 9에 도시된 바와 같이, 제2 층(404)의 재료는 제거될 수 있다. 이러한 피쳐를 형성하기 위한 몇몇 예시적인 방법 및 시스템이 도 19 내지 도 21과 관련하여 기술된다.

도 12a 및 도 12b는, 예를 들어 도 6 내지 도 9와 관련하여 전술한 개념을 이용하여 달성될 수 있는, 와이퍼 요소 또는 가요성 표면 피쳐를 예시한다. 도 12a에 도시된 바와 같이, 가요성 표면 피쳐는 포켓(602)으로부터 돌출하는 융기 돌출부(600)(예컨대, 마이크로 리브(400) 또는 매크로 리브(300))를 포함한다. 융기 돌출부(600)는 가요성 본체를 구비하고, 포켓(602)은 적어도 하나의 보이드, 예컨대 융기 돌출부(600)의 제1 측에 있는 제1 보이드(620)와 융기 돌출부(600)의 제2 측에 있는 제2 보이드(622)에 의해 형성된다.

도시된 바와 같이, 융기 돌출부(600)는 배리어(242)(예컨대, 존재하는 경우 선택적으로 제2 층(404))의 재료로 형성된다. 도시된 바와 같이, 제1 보이드(620)는 융기 돌출부(600) 및 제1 에지(650)에 의해 경계가 이루어지고, 제2 보이드(622)는 융기 돌출부(600) 및 제2 에지(652)에 의해 경계가 이루어진다. 여러 예에서, 융기 돌출부(예컨대, 마이크로 리브)는 제1 에지(650)와 제2 에지(652) 사이에서 전술한 스윕각(α)에 걸쳐 작동되거나, 구부러지거나, 또는 만곡될 수 있다. 도 12b에 도시된 바와 같이, 융기 돌출부(600)는 종축 X에 평행한 방향으로 (예컨대, 탄력적으로 또는 탄성적으로) 편향되거나, 구부러지거나 또는 만곡되기에 충분한 유연성을 갖는다. 스토퍼(40)가 예를 들어 배럴(20) 내에서 제1 방향 Y로 미끄럼 이동될 때, 융기 돌출부(600)는 편향되거나, 만곡되거나, 또는 구부러질 수 있다.

도 13a 및 도 13b는 일부 실시형태에 따라, 배럴(20)에 수용된 스토퍼(40)의 융기 돌출부(600)를 도시한다. 도 13a는, 융기 돌출부(600)가 배럴(20)과 맞물려 탄성적으로 압축된 초기 위치에서의 융기 돌출부(600)를 도시한다. 이 초기 위치에서, 융기 돌출부(600)(예컨대, 마이크로 리브(400))는 배럴(20)에 대하여 제1 밀봉력 또는 제1 밀봉 압력을 형성한다. 도 13b에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)가 배럴(20) 내에서 제1 방향(Y)으로 미끄럼 이동될 때, 융기 돌출부(600)(예컨대, 마이크로 리브(400))는 스윕각(α)을 따라 편향된다. 일부 실시형태에서는, 융기 돌출부(600)가 편향됨에 따라, 활주 저항은 더 낮은 제2 활주 저항으로 감소된다. 일부 예에서, 제1 밀봉력 또는 제1 밀봉 압력도 또한, 변위 이후에 더 낮은 제2 밀봉력 또는 밀봉 압력으로 감소된다. 이와 같은 활주 저항의 감소는, 배럴 내에서의 스토퍼(40)의 움직임을 개시하는 데 필요한 힘과 브레이크 해제력을 줄인다는 점에서 유익할 수 있다. 도 15는 이러한 개념을 예시하는데, 도 15는 변위가 개시됨에 따라 빠르게 떨어지는 높은 초기 활주 저항을 예시한다. 도 15에 도시된 바와 같이, 변위가 중단됨에 따라 활주 저항은 다시 증가하기 시작할 수 있고, 융기 돌출부(600)는 보다 더 반경 방향으로 재배향되는 것이 허용된다.

도 14a 및 도 14b에 도시된 바와 같이, 융기 돌출부(600)의 형성은, 포켓(602)과 같은 포켓의 형성 또는 임의의 재료의 실질적인 제거를 필요로 하지 않는다. 예를 들어, 하나 이상의 융기 돌출부(600)를 형성하기 위해, 절취부, 슬라이스 또는 슬릿(604)이 배리어(242)에 형성될 수 있다. 도 14a에 도시된 바와 같이, 슬릿(604)은 도시된 반경 방향을 비롯하여, 다양한 각도들 중의 임의의 각도로 형성될 수 있다. 도 14b에 도시된 바와 같이, 스토퍼(40)가 배럴(20) 내에서 제1 방향 Y로 미끄럼 이동될 때, 하나 이상의 융기 돌출부(600)(예컨대, 복수의 마이크로 리브(400)/돌출부(600))는 스윕각(α)을 따라 편향된다. 또, 일부 실시형태에서는, 융기 돌출부(들)(600)가 편향됨에 따라, 활주 저항은 더 낮은 제2 활주 저항으로 감소된다. 일부 예에서, 제1 밀봉력 또는 제1 밀봉 압력도 또한, 변위 이후에 더 낮은 제2 밀봉력 또는 밀봉 압력으로 감소된다. 이와 같은 활주 저항의 감소는, 배럴 내에서의 스토퍼(40)의 움직임을 개시하는 데 필요한 힘과 브레이크 해제력을 줄인다는 점에서 유익할 수 있다. 앞서 참조된 바와 같이, 도 15는 이러한 개념을 예시한다.

슬릿(605)은 예를 들어 도 19 내지 도 21과 관련하여 기술된 방법들 중의 임의의 것을 사용하여 형성될 수 있다. 여러 예에서, 에너지 수단(예컨대, 레이저, 열 칼 등) 또는 기계적 수단(예컨대, 칼, 스크라이브 등)을 이용하여 슬릿이 형성된다.

도 16은 도 5 및 도 12에 도시된 것과는 다른 배리어(242) 구성을 갖지만, 도 5 및 도 12에 도시된 영역 "A"에 대응하는 스토퍼(40)의 일부분의 또 다른 도면이다. 이전에 참조되었지만, 의심의 여지를 없애기 위해, 도 35는 3개 이상(도시된 바로는 총 5개)의 층을 포함하는 다층 배리어 구성의 예를 도시한다. 도시된 바와 같이, 제1 층(402) 및/또는 제2 층(404)은 층들 내의 임의의 위치에 있을 수 있다. 그리고, 다양한 구현예에서는 더 많거나 더 적은 층이 있을 수 있다. 제1 층(402)은 예를 들어 최내층 또는 매립층일 수 있다. 제2 층(404)은 예를 들어 최외층 또는 매립층일 수 있다. 그리고, 제1 층과 제2 층(402, 404)은 접촉해 있을 수 있고, 또는 하나 이상의 다른 층에 의해 분리될 수 있다. 전술한 여러 마이크로 피쳐(400)는 임의의 다양한 치수를 가질 수 있다. 일부 예에서, 마이크로 홈들 중 하나 이상은 0.25 ㎛ 내지 50 ㎛, 선택적으로 0.25 ㎛ 내지 0.5 ㎛의 깊이와, 0.25 ㎛ 내지 50 ㎛, 선택적으로 0.25 ㎛ 내지 0.5 ㎛의 폭을 갖고, 및/또는 마이크로 리브들 중 하나 이상은 0.25 ㎛ 내지 50 ㎛, 선택적으로 0.25 ㎛ 내지 0.5 ㎛의 높이와, 0.25 ㎛ 내지 50 ㎛, 선택적으로 0.25 ㎛ 내지 0.5 ㎛의 폭을 갖는다. 후술하는 바와 같이, 마이크로 홈 및/또는 마이크로 리브는, 예를 들어 원주 방향, 나선 방향, 또는 심지어 종방향으로 연장되는, 임의의 다양한 구성을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 11 및 도 16과 관련하여 앞서 예시된 바와 같이, 하나 이상의 마이크로 홈은 베이스와 두 개의 측면을 가질 수 있고, 두 측면 중 어느 하나 또는 양자 모두가 마이크로 리브를 형성한다. 일부 실시형태에서, 마이크로 리브를 형성하는 재료는 마이크로 홈의 베이스를 형성하는 재료보다 높은 밀도를 갖는다. 그리고, 일부 실시형태에서, 마이크로 리브를 형성하는 재료는 마이크로 홈의 베이스를 형성하는 재료보다 낮은 밀도를 갖는다.

또한, 전술한 바와 같이, 제1 층(402)과 같은, 스토퍼(40)의 일부분은 선택적으로, 에너지원에 의해 활성화될 때 체적이 증가하도록 구성된 재료를 포함하고, 결과적으로 얻어지는 마이크로 리브는 에너지원에 의해 활성화됨으로써 체적이 증가된 제1 층(402)의 일부분에 대응한다. 그리고, 마이크로 채널 또는 보이드의 경우에, 제1 층(402)과 같은 스토퍼(40)의 일부분은 에너지원에 의해 활성화될 때 제거되도록 구성된 재료를 포함하는데, 여기서 마이크로 홈은 에너지원에 의해 활성화됨으로써 제거된 제1 층(402)의 일부분에 대응한다.

도 17은 배리어(242)의 예를 시트 형태의 프리폼(2000)으로서 도시한다. 도시된 바와 같이, 배리어(242)의 내측면(245)에는 하나 이상의 마이크로 리브와 같은 마이크로 피쳐(400)의 패턴이 형성되어 있다. 도 18은 (도 18에 도시되지 않은) 본체(240)에 커플링된 배리어(242)를 도시하는데, 여기서 마이크로 피쳐(400)는 (예를 들어, 도 22 및 도 23과 관련하여 이하에 기술되는 몰딩 프로세스들 중의 어느 하나를 통해) 본체(240)에 대한 배리어(242)의 커플링의 일환으로 스토퍼(40)의 외측면(244)에 전사되어 있다.

스토퍼 구성요소에 에너지를 인가하기 수단

스토퍼(40)의 제조 방법은 배리어(242)의 층 또는 구역(예컨대, 제1 층(402))을 기계적으로 또는 에너지적으로 활성화하는 것을 포함한다. 예를 들어, 하나 이상의 표면 피쳐: 매크로 피쳐(예컨대, 매크로 리브와 매크로 홈 중의 어느 하나 또는 양자 모두) 또는 하나 이상의 마이크로 피쳐(예컨대, 마이크로 홈과 마이크로 리브 중의 어느 하나 또는 양자 모두)를 성형 또는 리폼하는 데 에너지원이 사용될 수 있다. 특정 방법에 따른 이러한 형성 이전 또는 이후에, 배리어(242)는 엘라스토머 본체(240)에 커플링될 수 있다. 일부 예에서, 배리어(242)는 (예를 들어, 구성요소들 사이의 접합을 돕는 재료를 리플로우하는 것에 의해) 하나 이상의 표면 피쳐를 리폼하는 동안 본체(240)에 커플링될 수 있다.

전술한 바와 같이, 어느 한 층(예를 들어, 제1 층(402))은 직접적으로 활성화될 수 있고 또는 다른 층(예를 들어, 제2 층(404))을 통해 활성화 대상 층에 에너지를 지향시킴으로써 활성화될 수 있다. 예를 들어, 제2 층(404)은 제1 층(402) 위에 배치될 수 있고, 제1 층(402)은 제2 층(404)을 통해 활성화될 수 있다. 일부 방법에서, 적어도 하나의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 리브와 같은 마이크로 피쳐)를 리폼하는 것은, 배리어를 에너지적으로 활성화한 후 배리어(242)를 냉각하는 것을 포함한다. 마이크로 홈과 마이크로 리브는 개별적으로 형성 또는 리폼될 수 있지만, 일부 방법은, 선택적으로 배리어(242)의 용융된 부분이 리플로우 및 재응고되게 함으로써, 하나 이상의 마이크로 홈 및 마이크로 리브를 동시에 형성 또는 리폼하는 것을 포함한다.

에너지로 배리어(242)의 층을 활성화하는 것은, 성형 모듈(1300)로부터의 에너지원과 스토퍼(40) 사이에서 상대 이동을 유도하는 것을 포함할 수 있는데, 이 상대 이동은 선택적으로 선형 운동 및/또는 회전 운동 중 어느 하나 또는 양자 모두를 포함한다. 적어도 하나의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 시트 형태(예를 들어, 시트 프리폼) 또는 관형 형태(예를 들어, 관형 프리폼)의 배리어를 이용해 형성 또는 리폼될 수 있다. 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 배리어(242)의 외면(422) 및/또는 배리어(242)의 내면(410)에 형성 또는 리폼될 수 있다.

도 19와 도 20은 시스템(1000)과, 이 시스템(1000)이 스토퍼(40)의 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 형성하는 데 사용될 수 있는 방법을 예시한다. 도시된 바와 같이, 시스템(1000)은 제어 모듈(1100), 구동 모듈(1200), 성형 모듈(1300) 및 처리 모듈(1400)을 포함한다. 앞서 참조된 바와 같이, 하나 이상의 표면 피쳐는 본체(240)에 대한 배리어(242)의 조립 이후에, 또는 본체(240)에 대한 배리어(242)의 조립 이전에, (예를 들어, 배리어 프리폼 또는 본체 프리폼에 마이크로 피쳐(400)를 형성함으로써) 형성될 수 있다. 그리고, 도 20에 예시된 바와 같이, 다양한 실시형태에서, 하나 이상의 표면 피쳐는 주입기 장치(10)의 조립 후(즉, 스토퍼(40)가 배럴(20)에 삽입된 후, 그리고 선택적으로 배럴(20)의 내용물이 이미 사전-충전 어셈블리 내의 제자리에 있는 상태에서) 형성 또는 리폼될 수 있다.

제어 모듈(1100)은 시스템(1000)의 작동을 제어하도록 구성된다. 여러 예에서, 제어 모듈(1100)은 전원(도시 생략), 하나 이상의 마이크로프로세서, 하나 이상의 사용자 입력 장치(예컨대, 키보드), 하나 이상의 디스플레이 장치(예컨대, 모니터), 및 시스템(1000)의 작동을 제어하기 위한 기타 피쳐를 포함할 수 있다.

전원은 제어 모듈(1100)의 작동 구성요소 및/또는 시스템(1000)의 다른 구성요소에 전력을 제공할 수 있고, 제어 모듈(1100) 및/또는 시스템(1000)의 소기의 성능 및/또는 수명 요건을 제공하기에 적합한 임의의 타입의 전원일 수 있다. 여러 실시형태에서, 전원은 (예를 들어, 외부 에너지원을 사용하여) 재충전 가능할 수 있는 하나 이상의 배터리를 포함할 수 있다.

제어 모듈(1100)은 하나 이상의 FPGA(Field Programmable Gate Array), 하나 이상의 PLD(Programmable Logic Device), 하나 이상의 CPLD(Complex PLD), 하나 이상의 맞춤형 ASIC(Application Specific Integrated Circuits), 하나 이상의 전용 프로세서(예컨대, 마이크로프로세서), 하나 이상의 중앙 처리 장치(CPU), 소프트웨어, 하드웨어, 펌웨어, 또는 상기한 및/또는 그 밖의 구성요소의 임의의 조합을 포함하거나 이에 포함될 수 있다. 제어 모듈(1100)은 메모리에 저장된 컴퓨터-실행 가능 명령을 실행하기 위해 메모리와 통신하도록 구성된 처리 유닛을 포함할 수 있다. 추가적으로 또는 대안적으로, 제어 모듈(1100)은 정보(예컨대, 감지된 데이터)를 메모리에 저장하고 및/또는 메모리로부터의 정보(예컨대, 감지된 데이터)에 접근하도록 구성될 수 있다.

일부 실시형태에서, 메모리는 휘발성 및/또는 비휘발성 메모리 형태의 컴퓨터 판독 가능 매체를 포함하고, 분리 가능, 분리 불가능 또는 이들의 조합일 수 있다. 미디어 예로는 RAM(Random Access Memory); ROM(Read Only Memory); EEPROM(Electronically Erasable Programmable Read Only Memory); 플래시 메모리; 광학 또는 홀로그래픽 매체; 자기 카세트, 자기 테이프, 자기 디스크 저장 장치 또는 기타 자기 저장 장치; 데이터 전송부; 및/또는 정보를 저장하는 데 사용될 수 있고, 예를 들어 양자 상태 메모리 등과 같이 컴퓨팅 장치에 의해 액세스될 수 있는 임의의 다른 매체 등이 있다. 실시형태들에서, 메모리는 프로세서가 본원에 거론된 시스템 구성요소의 실시형태의 양태를 구현하게 하고, 및/또는 본원에 거론된 방법 및 절차의 실시형태의 양태를 수행하게 하기 위한 컴퓨터 실행 가능 명령을 저장한다.

컴퓨터 실행 가능 명령은 예를 들어 컴퓨터 코드, 디지털 신호 처리, 기계-사용 가능 명령어 등을, 예컨대 컴퓨팅 장치와 연관된 하나 이상의 프로세서에 의해 실행될 수 있는 프로그램 구성요소와 같은 것을 포함할 수 있다. 프로그램 구성요소는 다양한 언어, 개발 키트, 및/또는 프레임워크 등을 비롯한 다수의 서로 다른 프로그래밍 환경을 사용하여 프로그래밍될 수 있다. 본원에서 고려되는 기능성 중 일부 또는 전부는 또한 또는 대안적으로 하드웨어 및/또는 펌웨어에서 구현될 수 있다.

일부 실시형태에서, 구동 모듈(1200)은 제어 모듈(1100)에 의해 제어되고, 성형 툴이 마이크로 피쳐(400)를 소기의 형태로 성형하는 동안, 성형 모듈(1300)과 하나 이상의 스토퍼 구성요소(예를 들어, 본체(240) 및/또는 배리어(242)) 사이에 상대 운동을 생성한다. 예를 들어, 구동 모듈(1200)은 성형 모듈(1300)에 대한 하나 이상의 스토퍼 구성요소(예를 들어 본체(240) 및/또는 배리어(242))의 회전, 및/또는 스토퍼 구성요소 둘레로의 성형 모듈(1300)의 원주 방향 이동을 일으킬 수 있다. 구동 모듈(1200)은 추가적으로 또는 대안적으로 스토퍼 구성요소(예를 들어, 본체(240) 및/또는 배리어(242))의 축방향 이동을 생성할 수 있다. 구동 모듈(1200)은 성형 모듈(및 선택적으로 처리 모듈(1400))과 스토퍼 구성요소 사이에서 소기의 상대 운동을 달성하기 위해 구동 모터, 센서, 제어 회로, 구동 샤프트, 턴 테이블 및/또는 다양한 추가적인 또는 대안적인 구성요소를 포함할 수 있다. 도 20에 도시된 바와 같이, 구동 모듈(1200)은 조립된 주입기 장치(10)(예를 들어, 배럴(20) 및 스토퍼(40))와 성형 모듈(1300) 사이에 상대 이동을 발생시키도록 구성될 수 있다.

여러 실시형태에서 제어 모듈(1100)에 의해 제어되는 성형 모듈(1300)은, 예컨대 도 5 내지 도 18과 관련하여 앞서 참조된 바와 같이, 에너지(1312)를 생성하여 배리어(242) 및/또는 본체(240)와 같은 하나 이상의 스토퍼 구성요소에 지향시키는 1차 에너지 발생기(1310)를 포함한다.

일부 실시형태에서, 성형 모듈(1300)(또한 리폼 모듈(1300)의 역할도 함)은 에너지(1322)를 생성하여 배리어(242) 및/또는 본체(240)와 같은 하나 이상의 스토퍼 구성요소에 지향시키는 2차 에너지 발생기(1320)를 포함한다. 예를 들어, 실시형태들에서, 존재하는 경우, 2차 에너지 발생기(1320)는 1차 에너지 발생기(1310)로부터의 에너지(1312)로부터 오프셋된 각도로 에너지(1322)를 스토퍼 구성요소에 지향시킬 수 있다. 빔들은 예를 들어 배리어(242) 상의 개별 영역 상에 포커싱될 수 있다. 또는 대안적으로, 두 에너지(1312 및 1322)의 빔 또는 지향성은 에너지(1312, 1322)로부터의 누적 에너지가 스토퍼 구성요소의 재료를 활성화하기에 충분하도록 스토퍼 구성요소 상의 또는 내의 소기의 위치에서 교차할 수 있는 반면, 단독으로 취해지는 경우에는 이와는 달리, 각각의 에너지(1312, 1322)가 스토퍼 구성요소의 재료를 활성화하기에 불충분할 것이다. 성형 모듈은 바람직하게는 레이저 에너지원을 포함하지만, 전자 빔 에너지원, 자외선 에너지원, 플라즈마 에너지원, 초음파 에너지원, 또는 하나 이상의 스토퍼 구성요소를 활성화할 수 있는 그 밖의 에너지원을 비롯한 다양한 에너지원 중 어느 것이라도 구현될 수 있는 것으로 고려된다.

적합한 레이저 발생기의 예로는, 예를 들어 CO2 레이저가 있다. 적합한 레이저 발생기의 일부 예는, 배럴(20)에 부정적인 영향을 주는 일 없이, 배리어(242) 및/또는 본체(240)의 재료를 활성화하도록 구성된 것을 포함한다. 이러한 예에서, 레이저 발생기의 타입 및 파장의 선택은 배럴 재료 및 스토퍼 재료에 따라 좌우될 수 있다. 예를 들어, 붕규산 유리로 제조된 배럴의 경우, 적합한 파장은 400 내지 1700 ㎚의 범위일 수 있다. 어느 한 구체적인 예에서, 1070 ㎚ 레이저 빔은 가열 없이 붕규산 배럴을 쉽게 통과하면서도 여전히 스토퍼 기하구조를 변경하기에 충분한 에너지를 전달하는 것으로 드러났다.

일부 실시형태에서, 성형 모듈(1300)은 스토퍼(예를 들어, 배리어(242) 및/또는 본체(240))의 전체 둘레 주위에 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 동시에 형성 또는 리폼한다. 일부 실시형태에서, 구동 모듈(1200)은, 에너지(1312) 및/또는 에너지(1322)의 빔 또는 지향성이 소기의 패턴(예를 들어, 연속적인 원주 방향 패턴 또는 도 24 내지 도 33과 관련하여 기술된 패턴 중 임의의 패턴)으로 구성요소의 재료에 인가되도록, 성형 모듈(1300)과 하나 이상의 스토퍼 구성요소 사이에 상대 이동을 발생시킨다. 도 20에 도시된 바와 같이, 일부 실시형태에서 성형 모듈(1300)은 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))의 형성 또는 리폼을 위해 에너지를 배럴(20)을 통해 스토퍼(40)에 지향시키도록 구성된다. 예를 들어, 배럴(20)은 광투과성 재료(예컨대, 붕규산 유리)로 형성될 수 있고, 성형 모듈(1300)은 배럴(20)을 통해 스토퍼(40)에 레이저 빔 형태의 에너지를 전달하도록 구성된 레이저(예컨대, CO2 레이저)를 포함할 수 있다.

일부 실시형태에서, 제어 모듈(1100)에 의해 제어될 수 있는 처리 모듈(1400)은 처리 물질(1410)을 스토퍼(40)에 적용하고, 예를 들어 표면 피쳐의 형성/리폼 중에 발생된 부스러기를 제거하기 위한 린스 용액, 과열을 피하는 것 및/또는 가열 후 스토퍼 구성요소 재료의 재응고를 조장하는 것을 돕는 용도의, 또는 그 밖의 용도의 냉각제(예컨대, 질소 가스와 같은 기체 또는 냉매와 같은 유체)를 적용한다. 도 20에 도시된 바와 같이, 처리 모듈(1400)은, 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))의 형성/리폼 동안 또는 이후에, 처리 물질(1410)을 (예를 들어, 배럴(20)을 냉각하기 위해) 배럴(20)에, 스토퍼(40)에, 및/또는 배럴(20)의 내용물(예를 들어, 치료 물질)에 적용할 수 있다.

도 21은 시스템(1000), 및 시스템(1000)이 스토퍼(40)의 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를, 하지만 하나 이상의 스토퍼 구성요소(예컨대, 본체(240) 또는 배리어(242))의 프리폼(2000)으로, 형성하는 데 사용될 수 있는 방법의 다른 예를 도시한다. 예를 들어, 도 22 및 도 23과 관련하여 기술되는 바와 같이, 스토퍼(40)의 하나 이상의 구성요소는 시트 형태의 프리폼(2000)으로서 제공된 후에, 스토퍼(40)를 형성하도록 몰딩되거나 또는 다른 방식으로 조립될 수 있다. 시스템(1000)은 대체로 동일한 구성요소를 가질 수 있고, 구동 모듈(1200)이 프리폼(2000)을 다루도록 구성된다는 점을 제외하고는, 도 19의 예와 대체로 유사한 방식으로 작동될 수 있다.

스토퍼 어셈블리 및 커플링 기구

스토퍼를 조립하는, 그리고 특히 배리어(242)와 본체(240)를 함께 배치하는, 다양한 방식이 고려된다.

예를 들어, 도 22는 몰드(3002)와, 맨드릴(3004)과 같은 성형 장치를 비롯한, 도 23과 관련하여 기술될 것과 유사한 툴링(3000)의 사용을 포함한다. 몰드(3002)는 내부벽(3008)에 의해 형성된 캐비티(3006)를 포함한다. 캐비티(3006)는 소기의 형상 및 크기를 갖는 스토퍼(40)를 생산하도록 형상 및 크기가 설정된다. 도시된 바와 같이, 툴링(3000)은 배리어 재료의 프리폼(2000a)과 본체 재료의 프리폼(2000b)으로부터 스토퍼(40)를 제조하도록 구성되는데, 이들 프리폼(2000a, 2000b) 각각은 시작까지 시트 또는 비교적 평탄한 형태이다.

프리폼(2000a, 2000b)은 선택적으로 정렬되고 그 후에 도시된 바와 같이 몰드(3002)의 캐비티(3006) 안으로 (예를 들어, 동시에) 밀어 넣어진다. 이에 따라, 프리폼(2000b)으로부터 본체(240)가 형성되고, 프리폼(2000a)으로부터 배리어(242)가 본체와 함께 몰딩되거나 본체 상에 적층되어, 도시된 바와 같이 스토퍼(40)를 형성한다. 예시된 실시형태에서, 맨드릴(304)은 프리폼(2000a, 2000b)을 몰드(3002) 안으로 밀어 넣도록 작동된다. 일부 실시형태에서, 맨드릴(3004)은 성형 동안 본체(240)에 구조를 형성하도록 구성될 수 있다(예를 들어, 암나사부를 갖는 후미면(248)의 축방향 리세스(250)).

사출 몰딩, 압축 몰딩, 진공 프레스 몰딩, 공동 몰딩 또는 다른 공지의 또는 다른 방식의 종래의 프로세스 및 장비가 또한 프리폼(2000a, 2000b)을 이용하여 스토퍼(40)를 제조하는데 사용될 수 있다.

다른 예로서, 도 23은 스토퍼(40)를 조립하기 위해 원통 형태의 배리어(242) 재료의 프리폼(2000c)이 시트 형태의 본체(240) 재료의 프리폼(2000b)과 결합될 수 있는 방법의 일부 실시형태를 예시한다. 도 23에 도시된 바와 같이, 프로세스는 몰드(3002) 및 맨드릴(3004)과 같은 성형 장치를 포함하는 툴링(3000)의 사용을 포함한다. 몰드(3002)는 내부벽(3008)에 의해 형성된 캐비티(3006)를 포함한다. 캐비티(3006)는 스토퍼(40)를 생산하도록 형상 및 크기가 설정된다.

툴링(3000)은 배리어 재료의 프리폼(2000c)과, 프리폼(2000b)을 형성하는 소정 질량의 본체 재료로부터 스토퍼(40)를 제조하도록 구성된다. 도시된 바와 같이, 배리어 재료의 프리폼(2000c)은 몰드(3002)의 캐비티(3006)에 배치된다. 그 후에, 본체 재료의 프리폼(2000b)은 배리어 재료의 프리폼(2000c) 내의 내부 보이드 영역에 적용된다. 도시된 바와 같이, 맨드릴(3004)은 고체 또는 반고체 형태일 수 있는 프리폼(2000b)을, 프리폼(2000c)의 개방 근위 단부를 통해 프리폼(2000c) 안으로 밀어 넣도록 작동된다. 맨드릴(3004)은 프리폼(200b)에 구조를 형성하도록 구성될 수 있다(예를 들어, 암나사부를 갖는 후미면(248)의 축방향 리세스(250)).

맨드릴(3004)이 선택적으로 이용되지만, 다른 실시형태에서 본체 재료는 다른 기법에 의해, 예를 들어 유동성 유체 또는 다른 유체 형태에서와 같이 압력의 인가에 의해, 배리어 재료의 프리폼(2000c)에 퇴적된다. 사출 몰딩, 압축 몰딩, 진공 프레스 몰딩, 공동 몰딩 또는 다른 공지의 또는 다른 방식의 종래의 프로세스 및 장비가 프리폼(2000c)을 이용하여 스토퍼(40)를 제조하는데 사용될 수 있다.

구성요소 접합을 향상시키거나 달성하기 위해 전술한 내용에 대해 다양한 수정이 적용될 수 있다. 일부 예에서, 배리어(242)는, 하나 이상의 마이크로 피쳐(400)를 형성하는 동안에 또는 에너지원으로 제1 층(402)을 활성화하는 것에 의해, 본체(240)에 접합(또는 추가적으로 접합)될 수 있다. 접착제, 엘라스토머 접합 재료, 표면 처리 및 기타 실례의 추가적인 사용도 또한 고려된다.

표면 피쳐 배치 및 구성

하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 다양한 연속(예를 들어, 원주 방향 라인) 및 불연속(예를 들어, 단속적인 원주 방향 라인) 패턴 중 임의의 패턴으로 배치될 수 있다. 다시 말하자면, 각각의 표면 피쳐는 매우 다양한 구성 중 임의의 것을 취할 수 있다. 이하의 다양한 구성과 피쳐는 다양한 이익 및 이점을 달성할 수 있다. 예를 들어, 표면 피쳐는, 특히 스토퍼(40)의 밀봉 및/또는 활주 기능을 향상시키고, (예를 들어, 배럴(20)에의 압입 및 삽입의 일부인) 배리어(242)의 주름 형성을 줄이고, 및/또는 본체(240)로부터 배리어(242)의 박리 또는 분리의 발생을 감소시키기 위해 배치될 수 있다.

일부 예에서, 표면 피쳐(예컨대, 절취부 또는 홈 등과 같은 마이크로 피쳐(400))는, 배럴(20)에의 압입 이후에 배리어(242)에 있어서 주름 형성부의 존재를 줄이기 위해 매크로 피쳐(300)(예컨대, 매크로 리브 또는 매크로 홈)에 배치될 수 있다. 예를 들어, 배리어(242)는 제1 직경으로 본체(240)에 부착될 수 있고, 압축시 배리어(242)에, 그리고 매크로 리브 및/또는 매크로 홈에서 특히, 주름이 형성될 수 있다. 배리어(242)로부터 마이크로 홈 또는 절취부의 형태로 재료를 제거하는 것은, 상기한 주름 형성 결과를 줄이는 데 기여할 수 있다. 일부 예에서, 마이크로 홈 또는 절취부는 원주 방향으로 형성되지만, (예를 들어, 나선 또는 대각 마이크로 홈 또는 절취부 뿐만 아니라) 수직 마이크로 홈 또는 절취부도 또한 유익할 수 있는 것으로 또한 고려된다.

예를 들어, 도 24는 연속적인 그리고 스토퍼(40)의 전체 외측면(244)의 원주 방향 둘레의 전반적으로 선형인 경로에 대해 연장되는 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))의 실시형태를 예시한다. 도 24에 도시된 실시형태에서, 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 서로 평행하고 교차하지 않으며, 각 마이크로 홈에 의해 형성된 평면이 대체로, 스토퍼(40)의 종축(X)에 직교한다. 도 25는 스토퍼(40)의 종축(X)(도 1 및 도 2)에 대해 비스듬한 평면에 위치된 하나 이상의 마이크로 피쳐(400)(예시를 목적으로 2개가 도시됨)를 갖는 스토퍼(40)의 실시형태를 예시하지만, 그 외에는 도 24와 관련하여 기술된 마이크로 피쳐(400)와 구성 면에서 유사하다. 도 26은 스토퍼(40)의 종축(X)에 대해 복수의 서로 다른 경사 평면을 형성하는 표면 피쳐를 갖는 스토퍼(40)의 실시형태를 예시한다(예시를 목적으로 4개의 상기 마이크로 피쳐(400)가 도시됨). 도 26에 도시된 실시형태에서, 평면과 표면 피쳐는 서로 교차한다. 다른 실시형태(도시되지 않음)에서, 표면 피쳐들 중 하나 이상은, 하나 이상의 다른 표면 피쳐에 의해 형성된 평면과 교차하지 않는, 스토퍼(40)의 종축에 대해 비스듬하고 선택적으로 평행한 평면에 있다.

전술한 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐)를 스토퍼(40)의 밀봉면에 추가 및/또는 리폼함으로써, 주입기 장치를 작동시키는 데 필요한 활주력을 증가시키는 일(그리고 잠재적으로 활주력을 감소시키는 일) 없이, 밀봉을 향상시키는 이점을 가질 수 있다. 이러한 향상된 기능성은, 조립 프로세스(예를 들어, 배럴(20)에의 스토퍼(40) 삽입) 동안에 형성되는 주름을 감소시킴으로써, 및/또는 (예컨대, 융기된 마이크로 리브를 제공함으로써) 밀봉 압력을 증가시키는 것에 의해 및/또는 마이크로 홈의 리폼에 의해 활주면 면적을 감소시키는 것에 의해 밀봉 계면을 변경함으로써 달성될 수 있다.

도 27 내지 도 29는 불연속적이거나 단속적인 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 포함하는 스토퍼(40)의 실시형태를 예시한다. 예를 들어, 마이크로 피쳐(400)는 대략 0인 깊이를 포함하는 하나 이상의 섹션을 포함할 수 있다. 2개의 불연속적인 표면 피쳐가 도 27 내지 도 29에 예시의 목적으로 도시되어 있지만, 다른 실시형태는 더 많거나 더 적은 수의 불연속적인 표면 피쳐를 구비한다. 그 외에는, 표면 피쳐를 포함하는 도 27 내지 도 29에 도시된 실시형태는, 도 24 내지 도 26과 관련하여 기술된 것과 유사할 수 있다.

도 27 내지 도 29와 관련하여 전술한 다양한 파선 또는 불연속 구성 및 피쳐는 다양한 이익 및 이점을 달성할 수 있다. 불연속적인 홈 또는 리브의 추가는, 스토퍼(40)가 배럴(20)에 도입되는 삽입 프로세스 동안 형성되는 경향이 있을 수 있는 주름(예를 들어, 마이크로 주름)을 줄이는 데 유리할 수 있다. 예를 들어, 마이크로 피쳐(400)를 불연속적인 라인 또는 패턴으로 배치함으로써, 스토퍼(40), 그리고 특히 배리어(242)는, 스토퍼(40)가 배럴(20)에의 삽입을 위해 압축될 때, 주름지거나 변형되는 경향이 적을 수 있다. 예를 들어, 마이크로 피쳐(400)의 패턴은 관련된 주름이나 다른 원치 않는 변형 없이(또는 감소된 상태로) 압축을 허용하는 스트레인 릴리프 또는 유사한 피쳐를 생성할 수 있다.

도 30 및 도 31은 비선형 부분을 포함하는 복수의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 포함하는 스토퍼(40)의 실시형태를 예시한다. 다른 실시형태는 도 30 및 도 31에 도시된 것과 같은 비선형 부분을 포함하는 더 많거나 더 적은 표면 피쳐를 포함한다. 도 30 및 도 31에 도시된 실시형태의 표면 피쳐의 비선형 부분은 전반적으로 반복 패턴의 형태이지만, 다른 실시형태에서 비선형 부분은 비반복 패턴 부분을 포함하거나 이로 구성된다. 도 30 및 도 31에 도시된 실시형태에서, 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 스토퍼(40) 주위로 완전히 연장되는 비선형 부분을 포함한다(즉, 표면 피쳐는 비선형 부분으로 구성된다). 다른 실시형태에서, 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))는 선형 및 비선형 부분을 포함한다.

도 30 및 도 31과 관련하여 전술한 다양한 비선형 구성은 다양한 이익 및 이점을 달성할 수 있다. 예를 들어, 마이크로 피쳐(400)를 비선형 구성으로 배치함으로써, 스토퍼(40), 그리고 특히 배리어(242)는, 스토퍼(40)가 배럴(20)에의 삽입을 위해 압축될 때, 주름지거나 변형되는 경향이 적을 수 있다. 예를 들어, 마이크로 피쳐(400)의 물결 모양 또는 원주 방향으로 겹치는 패턴은 스트레인 릴리프, 배리어(242) 재료에서의 갭, 또는 관련된 주름이나 다른 원치 않는 변형 없이(또는 감소된 상태로) 스토퍼(40)의 압축을 허용하는 다른 효과를 창출할 수 있다.

도 32는 원주 방향으로 스토퍼(40) 둘레의, 예컨대 하나 이상의 리브(300) 둘레의 회로형의 비선형 경로에 대해 연장되는 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 포함하는 스토퍼(40)의 실시형태를 예시한다. 도 33은 격자 또는 셀 구조 패턴 형태의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 포함하는 스토퍼(40)의 실시형태를 도시한다. 다이아몬드형 셀이 도 33에 도시되어 있지만, 다른 실시형태는 다른 형상을 갖는 셀을 포함한다. 전술한 다양한 다이아몬드 형상 및 교차 패턴도 또한 다양한 이익 및 이점을 달성할 수 있다. 또, 이러한 구성으로, 스토퍼(40)가 배럴(20)에의 삽입을 위해 압축될 때, 배리어(242)는 주름지거나 변형되는 경향이 적을 수 있다.

다양한 구성이 고려되며, 스토퍼(40)의 실시형태는 예컨대 도 24 내지 도 33 중 임의의 하나 이상과 관련하여 전술한 표면 피쳐의 특징 또는 속성 중 하나 이상의 임의의 조합을 각각 포함하는 하나 이상의 표면 피쳐(예컨대, 마이크로 피쳐(400))를 포함할 수 있다.

예시적인 재료 세트

배럴(20)은 유리 재료(예컨대, 붕규산 유리), 세라믹 재료, 1종 이상의 폴리머 재료(예컨대, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 및 이들의 코폴리머), 금속제 재료, 또는 플라스틱 재료(예컨대, 환형 올레핀 폴리머(COC) 및 환형 올레핀 코폴리머(COP)) 및 이들의 조합과 같은 실질적으로 단단한 또는 경질인 재료로 형성될 수 있다. 본래 소수성이 아닌 재료로 형성된 배럴(예를 들어 유리 배럴)은 소수성이 되도록 코팅되거나 다른 방식으로 처리될 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 일부 실시형태에서, 배럴(20)은 실리콘 또는 실리콘 오일과 같은, 그러나 이에 제한되는 것은 아닌, 윤활제가 없는 것을 특징으로 하는 소수성 내부벽을 갖는다. 본원에 사용된 바와 같이, 용어 "소수성 내부벽"은 실리콘 오일이 없거나 실질적으로 없는(즉, 계량 불가능한 양 또는 극미량을 갖는) 배럴의 내부면을 지칭한다. 또한, 배럴(20)의 소수성 표면은 또한 재료의 평평한 표면에서 탈이온수의 접촉각이 90°보다 큰 것인데, 이는 소수성 표면을 나타내는 것이다. 일부 실시형태에서, 물 접촉각은 약 90° 내지 약 180° 또는 약 96° 내지 약 180°, 약 96° 내지 약 130°, 또는 약 96° 내지 약 120°이다.

일부 실시형태에서, 스토퍼(40)의 본체(240)는 고무 재료와 같은 적합한 엘라스토머로 형성된다. 적합한 고무 재료의 예로는 합성 고무, 열가소성 엘라스토머, 및 합성 고무와 열가소성 엘라스토머를 혼합하여 마련된 재료 등이 있다. 상기 재료는 부틸, 브로모부틸 또는 클로로부틸, 할로겐화 부틸 고무, 스티렌 부타디엔 고무, 부타디엔 고무, 에피클로로히드린 고무, 네오프렌 고무, 에틸렌 프로필렌 고무, 실리콘, 니트릴, 스티렌 부타디엔, 폴리클로로프렌, 에틸렌 프로필렌 디엔, 플루오로엘라스토머, 열가소성 엘라스토머(TPE), 열가소성 가황물(TPV), 상표명 VITON®으로 판매되는 물질, 및 이들의 조합 및 블렌드로부터 구성된 고무일 수 있다. 일부 실시형태에서, 본체(240)는 약 2.5 ㎫ 내지 약 5 ㎫, 또는 약 3 ㎫ 내지 약 4 ㎫의 초기 모듈러스(작은 스트레인)를 가질 수 있다. 일부 실시형태에서, 초기 모듈러스는 약 3.5 ㎫이지만, 다양한 값이 고려된다.

앞서 참조된 바와 같이, 배리어(242)의 일부분(예를 들어, 층 또는 구역)은 배리어(242)의 다른 층 또는 구역보다 에너지원에 대해 더 활성화 가능하거나 반응성이 있도록 구성될 수 있다. 예를 들어, 레이저 또는 기타 광학 에너지원의 경우, 재료 두께, 착색, 밀도/개방 공간/공기 함량, 화학/재료 조성 등을 변경함으로써, 반응성 또는 활성화 능력이 조정될 수 있다. 고주파(RF), 전기 및 전자기 에너지원의 경우, 배리어(242)는 이러한 에너지에 대해 더 반응성이 있는 금속성 물질(예컨대, 철, 백금 등)과 같은 안료 또는 기타 필러를 포함하도록 조정될 수 있다. 마이크로파 에너지원의 경우, 금속성 물질, 물 또는 기타 물질이 실시될 수 있다. 그리고, 자외선(UV) 에너지 가교제(가교하여 밀도/강성을 증가시키는 아크릴레이트) 또는 UV 에너지를 흡수하는 기타 물질이 포함될 수 있다.

스토퍼의 배리어(242)의 하나 이상의 층에 적합한 재료의 예로는 초고분자량 폴리에틸렌 및 플루오로수지의 필름이 있다. 배리어(242)는 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 필름 또는 고밀화 확장성 폴리테트라플루오로에틸렌(ePTFE) 필름과 같은 플루오로폴리머 필름을 포함할 수 있다. PTFE 또는 ePTFE를 포함하는 필름 및 필름 복합재는, 하위 엘라스토머에 존재할 수 있고 그렇지 않으면 배럴 내의 치료 액체를 오염시킬 수 있는 침출물 및 추출물에 얇고 강력한 배리어 층을 제공하는 데 기여할 수 있다.

배리어(242)의 적합한 재료의 일부 특정 예는 다음을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다: (1) 피할 방법에 의해 생산된 PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 호모폴리머 필름(예를 들면, Nippon Valqua Industries, Ltd.에서 구할 수 있는 VALFLON(상품명)); (2) 피할 방법에 의해 생산된 변성 PTFE(테트라플루오로에틸렌 모노머와 수 퍼센트의 퍼플루오로알콕시드 모노머의 코폴리머) 필름(예를 들면, Nippon Valqua Industries, Ltd.에서 구할 수 있는 NEW VALFLON(상품명)); (3) 피할 방법에 의해 생산된 초고분자량 폴리에틸렌 필름(예를 들면, Saxin Corporation에서 구할 수 있는 NEW LIGHT NL-W(상품명)).

나타내어진 바와 같이, 배리어(242)는 복합재 또는 적층 재료일 수 있거나, 그렇지 않으면 다성분(예를 들어, 다층) 배리어를 포함할 수 있다. 배리어(242) 내에 또는 배리어로서 사용하기 위한 다른 적합한 플루오로폴리머는 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP), 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐플루오라이드, 퍼플루오로프로필비닐에테르, 퍼플루오로알콕시 폴리머, 테트라플루오로에틸렌(TFE), Parylene AF-4, Parylene VT-4, 및 이들의 코폴리머 및 조합을 포함하지만 이에 제한되는 것은 아니다. 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, Parylene C 및 Parylene N과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는 비-플루오로폴리머가 또한 또는 대안적으로 배리어(242)를 형성하는 데 사용될 수 있다.

배리어(242)를 위한 고밀화 ePTFE 필름은 Kennedy 등의 미국 특허 제7,521,010호, Dolan 등의 미국 특허 제6,030,694호, Fuhr 등의 미국 특허 제5,792,525호, 또는 Knox 등의 미국 특허 제5,374,473호에 기술된 방식으로 마련될 수 있다. Branca의 미국 특허 제5,708,044호, Baillie의 미국 특허 제6,541,589호, Sabol 등의 미국 특허 제7,531,611호, Ford의 미국 특허 제8,637,144호, 및 Xu 등의 미국 특허 제9,139,669호에 기술된 것과 같은, PTFE의 확장 코폴리머도 또한, 특히 고밀화되면, 배리어(242)에 대해 사용될 수 있다.

하나 이상의 실시형태에서, 배리어(242)는 Sbriglia의 미국 특허 제9,926,416호에 교시된 것과 같은 초고분자량 폴리에틸렌; Sbriglia의 미국 특허 공개 번호 제2016/0032069호에 교시된 것과 같은 폴리파라크실릴렌; Sbriglia 등의 미국 특허 제9,732,184호에 교시된 것과 같은 폴리젖산; 및/또는 Sbriglia의 미국 특허 제9,441,088호에 교시된 것과 같은 VDF-co-(TFE or TrFE) 폴리머 중 하나 이상을 포함하거나 또는 이로 형성될 수 있다.

배리어(242)는 또한 피브릴에 의해 상호 연결된 노드를 특징으로 하는 마이크로 구조를 갖는 기능성 테트라플루오로에틸렌(TFE) 코폴리머 물질을 포함하는 확장 폴리머 물질을 포함할 수 있는데, 여기서 기능성 TFE 코폴리머 물질은 TFE와 PSVE(퍼플루오로설포닐 비닐 에테르)의 기능성 코폴리머를 포함하거나, 비닐리덴 플루오라이드(VDF), 비닐 아세테이트, 또는 비닐 알코올과 같은, 그러나 이에 제한되지 않는, 다른 적합한 기능성 모노머를 갖는 TFE를 포함한다. 기능성 TFE 코폴리머 물질은 예를 들어 Xu 등의 미국 특허 제9,139,669호 또는 Xu 등의 미국 특허 제8,658,707호에 기술된 방법에 따라 마련될 수 있다.

일부 실시형태에서, 배리어(242)는 Gunzel의 미국 특허 공개 제2016/0022918호에 기술된 것과 같은 배리어 층 및 결속 층(tie layer)을 갖는 복합 플루오로폴리머 또는 비-플루오로폴리머 물질로 형성될 수 있다. 본원에 사용된 바와 같이, 용어 "결속 층"은 플루오로폴리머 및/또는 비-플루오로폴리머 물질을 포함할 수 있다는 점에 주목해야 할 필요가 있다. 결속 층은 확장 폴리테트라플루오로에틸렌 또는 기타 다공성 확장 플루오로폴리머(예를 들어, Baille의 미국 특허 제6,541,589호에 교시된 것과 같은 ePTFE)를 포함하거나 이로 형성될 수 있다. 대안적으로, 결속 층은 비-플루오로폴리머 물질로 형성되거나 이를 포함할 수 있다. 결속 층 내에 또는 결속 층으로서 사용하기에 적합한 비-플루오로폴리머 물질의 비제한적 예로는 비-플루오로폴리머 멤브레인, 비-플루오로폴리머 미세다공성 멤브레인, 부직포 재료(예를 들어, 스펀본딩된, 멜트블로운 섬유 물질, 전기 방사 나노섬유), 폴리비닐리덴 디플루오라이드(PVDF), 나노섬유, 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리아릴설폰, 폴리에테르 에테르 케톤(PEEK), 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리이미드가 있다.

일부 실시형태에서, 배리어(242)는 다공성 ePTFE 층 및 열가소성 배리어 층을 포함하는 얇은 고밀화 복합재를 형성함으로써 제조될 수 있다. 이러한 양태에서, 마찰 계수가 낮은 표면을 갖는 열가소성 재료가 바람직하다. 따라서, FEP(불소화 에틸렌 프로필렌), PFA(퍼플루오로알콕시), 테트라플루오로에틸렌의 폴리머, 헥사플루오로프로필렌 및 비닐리덴 플루오라이드(THV)와 같은 플루오로폴리머-기반 열가소성 플라스틱이 적용될 수 있다. 이러한 양태에 따른 배리어는 Bacino의 WO 94/13469(Bacino)에 교시된 공정에 따라 얻어지는 FEP/ePTFE 라미네이트일 수 있다. 배리어는 연화 온도보다 높은 공정 온도에서 또는 심지어 암형 캐비티 몰드에서의 FEP 필름의 멜트보다 높은 공정 온도에서 형성될 수 있다.

일부 실시형태에서, 배리어(242)는 고밀화 ePTFE 필름과, 배리어 층 필름에 접합된 다공성 ePTFE의 박층의 복합체를 포함할 수 있다. 고밀화 ePTFE 필름은 Kennedy 등의 미국 특허 제7,521,010호에 기술된 바와 같이 얻어질 수 있다. ePTFE/고밀화 ePTFE 복합재는 Dolan 등의 미국 특허 제6,030,694호에 기술된 방식으로 결합될 수 있다. 이 실시형태에서, 복합 재료는 고밀화 ePTFE 필름의 층 및 다공성 ePTFE 층을 포함한다.

일부 실시형태에서, 배리어(242)는 적어도 3개의 층, 즉 고밀화 확장 플루오로폴리머 층, 배리어 용융 플루오로폴리머 층 및 다공성 층을 갖는 복합 재료를 포함한다. 고밀화 확장 플루오로폴리머 층은 고밀화 ePTFE를 포함하거나 이로 형성될 수 있다. 배리어 멜트 플루오로폴리머 층은 고밀화 확장 플루오로폴리머, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE), 확장 폴리테트라플루오로에틸렌(ePTFE), 고밀화 확장 폴리테트라플루오로에틸렌, 플루오르화 에틸렌 프로필렌(FEP), 폴리비닐리덴 플루오라이드, 폴리비닐플루오라이드, 퍼플루오로프로필비닐에테르, 퍼플루오로알콕시 폴리머 및 그 코폴리머 및 조합과 같은 플루오로폴리머를 포함할 수 있다. 배리어 멜트 층에 이용될 수 있는 비-플루오로폴리머의 비제한적 예로는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌이 있다. 다공성 층은 ePTFE 또는 다른 다공성 확장 플루오로폴리머를 포함하거나 이로 형성될 수 있다. 고밀화 확장 플루오로폴리머 층, 배리어 멜트 플루오로폴리머 층 및 다공성 층(180)을 갖는 라미네이트 층은 고밀화 확장 플루오로폴리머를 다공성 층 상에 코팅하거나 또는 다른 방식으로 퇴적하여 복합 재료를 생성함으로써 구성될 수 있다. 비제한적인 일 실시형태에서, 라미네이트 층(130)은 고밀화 플루오로폴리머(예를 들어, 고밀화 ePTFE), 열가소성 접착제(예를 들어, FEP), 및 다공성 플루오로폴리머(예를 들어, ePTFE)로 형성된다.

스토퍼(40)는 Ashmead 등의 미국 특허 제8,722,178호, Ashmead 등의 미국 특허 제9,597,458호, 및 Gunzel의 미국 특허 공개 제2016/0022918호에 기술된 것을 비롯하여, 본체(240)의 재료가 배리어(242)의 재료에 또는 그 반대로 침투하는 것의 다양한 정도를 포함할 수 있는 것으로 이해되어야 한다. 또한, 본 발명의 범위 및/또는 정신을 벗어나지 않으면서 스토퍼(40)를 형성하는 데 이용될 수 있는 본원에 기술된 공정의 많은 변형이 있는 것으로 이해되어야 한다.

치료 물질의 예

본 개시 내용의 주사기, 팁 캡 및 기타 실시형태는 응고 인자, 사이토카인, 후성 단백질군, 성장 인자, 호르몬, 펩타이드, 신호 전달 분자 및 이들의 변이와 같은 (이에 제한되는 것은 아닌) 약물 및 생물학적 제제를 포함하는; 또한 아미노산, 백신 및/또는 이들의 조합을 포함하는, 상이한 치료 화합물과 함께 사용될 수 있다. 치료 화합물은 항체, 안티센스, 상기 생물학적 제제 및 이들의 표적 수용체에 대하여 만들어진 RNA 간섭 및 이들의 변이를 추가적으로 포함한다. 추가적인 치료 화합물은 유전자 치료, 1차 및 배아 줄기 세포를 포함한다. 또한 치료 화합물에는 항체, 안티센스, 단백질 인산화 효소에 대한 RNA 간섭, 에스테라제, 포스파타제, 이온 채널, 프로테아제, 구조 단백질, 막 수송 단백질, 핵 호르몬 수용체 및/또는 이들의 조합이 포함된다. 추가적으로, 본 개시 내용에 사용되고 본원에서 확인된 치료 화합물 중 적어도 하나, 또한 본 출원에 열거된 2개 이상의 치료 화합물은 본 개시 내용의 범위 내에 있는 것으로 간주된다는 것을 이해하여야 한다.

응고 인자의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 피브리노겐, 프로트롬빈, 인자 Ⅰ, 인자 Ⅴ, 인자 Ⅹ, 인자 Ⅶ, 인자 Ⅷ, 인자 ⅩⅠ, 인자 ⅩⅢ, 단백질 C, 혈소판, 트롬보플라스틴 및 Ⅶa의 공동 인자가 있다.

사이토카인의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 림포카인, 인터루킨, 케모카인, 모노카인, 인터페론 및 집락 자극 인자가 있다.

후성 유전 단백질 계열들의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: ATPase 패밀리 AAA 도메인 함유 단백질 2(ATAD2A), ATPase 패밀리 - AAA 도메인 함유 2B(ATAD2B), ATPase 패밀리 AAA 도메인 함유 - 2B(ATAD2B), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 1A(BAZ1A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 1B(BAZ1B), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2A(BAZ2A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2A(BAZ2A), 징크 핑거 도메인에 인접한 브로모도메인 - 2B(BAZ2B), 브로모도메인-함유 단백질 1(BRD1), 브로모도메인 함유 단백질 2 - 1차 브로모도메인(BRD2), 브로모도메인 함유 단백질 2 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRD2), 브로모도메인 함유 단백질 2 동형 1 - 브로모도메인 2(BRD2(2)), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 브로모도메인 1(BRD3(1)), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 1차 브로모도메인(BRD3), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRD3), 브로모도메인 함유 단백질 3 - 브로모도메인 2(BRD3(2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 - 1차 브로모도메인(BRD4), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 롱 - 브로모도메인 1 및 2(BRD4(1-2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 롱 - 브로모도메인 2(BRD4(2)), 브로모도메인 함유 단백질 4 동형 쇼트(BRD4(full-length-short-iso.)), 브로모도메인 함유 단백질 7(BRD7), 브로모도메인 함유 8 - 브로모도메인 1(BRD8(1)), 브로모도메인 함유 8 - 브로모도메인 2(BRD8(2)), 브로모도메인 함유 단백질 9 동형 1(BRD9), 브로모도메인 함유 고환 특이 - 1차 브로모도메인(BRDT), 브로모도메인 함유 고환 특이 - 1차 및 2차 브로모도메인(BRDT), 브로모도메인 고환 특이 단백질 동형 b - 브로모도메인 2(BRDT(2)), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 1(BRPF1), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 3(BRPF3), 브로모도메인 및 PHD 핑거 함유 - 3(BRPF3), 브로모도메인 및 WD 반복 함유 3 - 2차 브로모도메인(BRWD3(2)), 고양이 눈 증후군 임계 영역 단백질 2(CECR2), CREB 결합 단백질(CREBBP), E1A 결합 단백질 p300(EP300), EP300(EP300), 뉴클레오좀-리모델링 인자 서브유닛 BPTF 동형 1 (FALZ), 뉴클레오좀-리모델링 인자 서브유닛 BPT (FALZ), 진정염색질 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스 2 (EHMT2), 히스톤 아세틸트랜스퍼레이스 - KAT2A (GCN5L2), 진정염색질 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스 1(EHMT1), 히스톤-리신 N-메틸트랜스퍼레이스 MLL(MLL), 폴리브로모 1 - 1차 브로모도메인(PB1(1)), 폴리브로모 1 - 2차 브로모도메인(PB1(2)), 폴리브로모 1 - 브로모도메인 2(PBRM1(2)), 폴리브로모 1 - 브로모도메인 5(PBRM1(5)), 히스톤 아세틸트랜스퍼레이스 KAT2B(PCAF), PH-상호작용 단백질 - 1차 브로모도메인(PHIP(1)), PH-상호작용 단백질 - 2차 브로모도메인(PHIP(2)), 단백질 키나아제 C-결합 단백질 1(PRKCBP1), 단백질 아르기닌 N-메틸트랜스퍼레이스 3(PRMT3), SWI/SNF 관련 - 기질 연관 - 염색질의 액틴 의존 조절자 - 서브패밀리 a - 멤버 2(SMARCA2), SWI/SNF 관련 - 기질 연관 - 염색질의 액틴 의존 조절자 - 서브패밀리 a - 멤버 4(SMARCA4), 핵체 단백질 - SP110(SP110), 핵체 단백질 - SP140(SP140), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1(TAF1(1-2)), TAF1 RNA 폴리머레이스 II - TATA 박스 결합 단백질(TBP)-관련 인자 - 250kDa - 브로모도메인 2(TAF1(2)), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1 유사 - 1차 브로모도메인(TAF1L(1)), 전사 개시 인자 TFIID 서브유닛 1-유사 - 2차 브로모도메인(TAF1L(2)), 트리파르타이트 모티프 함유 24(TRIM24(Bromo.)), 트리파르타이트 모티프 함유 24(TRIM24(PHD -Bromo)), E3 유비퀴틴-단백질 리가아제 TRIM33(TRIM33), 트리파르타이트 모티프 함유 33(TRIM33(PHD -Bromo.)), WD 반복 9 - 1차 브로모도메인(WDR9(1)), 및 WD 반복 9 - 2차 브로모도메인(WDR9(WDR9)(2)가 있다.

성장 인자의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 신경 성장 인자(NGF), 혈관 내피 성장 인자(VEGF), 혈소판 유래 성장 인자(PDGF), C-fos 유도 성장 인자(FIGF), 혈소판 활성화 인자(PAF), 형질전환 성장 인자 베타(TGF-β), 골 형태 형성 단백질(BMP), 액티빈, 인히빈, 섬유아세포 성장 인자(FGF), 과립구 집락 자극 인자(G-CSF), 과립구-대식세포 집락 자극 인자 (GM-CSF), 신경 아교 세포주 유래 신경영양 인자(GDNF), 성장 분화 인자-9(GDF9), 표피 성장 인자(EGF), 형질전환 성장 인자-α(TGF-α), 성장 인자(KGF), 이동 자극 인자(MSF), 간세포 성장 인자 유사 단백질(HGFLP), 간세포 성장 인자(HGF), 간종양 유래 성장 인자(HDGF) 및 인슐린 유사 성장 인자가 있다.

호르몬의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 아미노산 유래(멜라토닌, 티록신 등), 갑상선 자극 호르몬 분비 호르몬, 바소프레신, 인슐린, 성장 호르몬, 당단백질 호르몬, 황체 형성 호르몬, 난포 자극 호르몬, 갑상선 자극 호르몬, 에이코사노이드, 아라키돈산, 리폭신, 프로스타글란딘, 스테로이드, 에스트로겐, 테스토스테론, 코티솔, 및 프로게스토겐이 있다.

단백질 및 펩티드 및 신호 전달 분자의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 운동실조 모세혈관확장증 변이, 종양 단백질 p53, 체크포인트 키나제 2, 유방암 감수성 단백질, 이중 가닥 파손 복구 단백질, DNA 복구 단백질 RAD50, 니브린, p53 결합 단백질, DNA 손상 체크포인트 단백질 매개체, H2A 히스톤 패밀리 멤버 X, 마이크로세팔린, C-말단 결합 단백질 1, 염색체 단백질 1A의 구조적 유지, 세포 분열 주기 25 상동체 A(CDC25A), 포크헤드 박스 O3(포크헤드 박스 O3), B 세포 억제제의 카파 광 폴리펩티드 유전자 강화제의 핵 인자, 알파 (NFKBIA), 핵 인자(적혈구 유래 2) 유사 2(NFE2L2), 나트륨 이뇨 펩타이드 수용체 A(NPR1), 종양 괴사 인자 수용체 슈퍼패밀리, 멤버 11a(TNFRSF11A), v-rel 세망내피증 바이러스 종양유전자 상동체 A(조류) (RELA), 스테롤 조절 요소 결합 전사 인자 2(SREBF2), CREB 조절 전사 공동활성화제 1(CRTC1), CREB 조절 전사 공동활성화제 2(CRTC2), X-박스 결합 단백질 1(XBP1) 및 카테닌 베타 1(카데린-관련 단백질 또는 CTNNB1)이 있다.

G 단백질 결합 수용체(GPCR)의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 아데노신 수용체 패밀리, 아드레날린 수용체 패밀리, 안지오텐신 II 수용체, 아펠린 수용체, 바소프레신 수용체 패밀리, 뇌 특이적 혈관신생 억제제 패밀리, 브래디키닌 수용체 패밀리, 봄베신 수용체 패밀리, 보체 성분 3a 수용체 1, 보체 성분 5a 수용체 1, 칼시토닌 수용체 패밀리, 칼시토닌 수용체 유사 패밀리, 칼슘 감지 수용체, 콜레시스토키닌 A 수용체(CCK1), 콜레시스토키닌 B 수용체(CCK2), 케모카인(C-C 모티브) 수용체 패밀리, 스핑고신 1-포스페이트 수용체 패밀리, 숙신산 수용체, 콜린성 수용체 패밀리. 케모카인 유사 수용체 패밀리, 칸나비노이드 수용체 패밀리, 코르티코트로핀 방출 호르몬 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 D2 수용체, 케모카인 C-X3-C 수용체 패밀리, 케모카인(C-X-C 모티브) 수용체 패밀리, 버킷(Burkitt) 림프종 수용체, 케모카인(C-X-C 모티브) 수용체 패밀리, 시스테이닐 류코트리엔 수용체 2(CYSLT2), 케모카인 수용체(FY), 도파민 수용체 패밀리, G 단백질 결합 수용체 183(GPR183), 리소포스파티드산 수용체 패밀리, 엔도텔린 수용체 패밀리, 응고 인자 II(트롬빈) 수용체 패밀리, 유리 지방산 수용체 패밀리, 포르밀펩티드 수용체 패밀리, 난포 자극 호르몬 수용체(FSHR), 감마-아미노부티르산(GABA) B 수용체, 갈라닌 수용체 패밀리, 글루카곤 수용체, 성장 호르몬 방출 호르몬 수용체(GHRH), 그렐린 수용체(ghrelin), 성장 호르몬 분비 촉진 수용체 1b (GHSR1b), 위 억제 폴리펩티드 수용체(GIP), 글루카곤 유사 펩티드 수용체 패밀리, 성선 자극 호르몬 방출 호르몬 수용체(GnRH), 피로글루타미레이트 Rf아미드 펩티드 수용체 (QRFPR), G 단백질 결합 담즙산 수용체 1 (GPBA), 히드록시카르복실산 수용체 패밀리, 리소포스파티드산 수용체 4 (LPA4), 리소포스파티드산 수용체 5 (GPR92), G 단백질 결합 수용체 79 위유전자 (GPR79), 하이드록시카르복실산 수용체 1(HCA1), G-단백질 결합 수용체(C5L2, FFA4, FFA4, FFA4, GPER, GPR1, GPR101, GPR107, GPR119, GPR12, GPR123, GPR132, GPR135, GPR139, GPR141, GPR142, GPR143, GPR146, GPR148, GPR149, GPR15, GPR150, GPR151, GPR152, GPR157, GPR161, GPR162, GPR17, GPR171, GPR173, GPR176, GPR18, GPR182, GPR20, GPR22, GPR25, GPR26, GPR27, GPR3, GPR31, GPR32, GPR35, GPR37L1, GPR39, GPR4, GPR45, GPR50, GPR52, GPR55, GPR6, GPR61, GPR65, GPR75, GPR78, GPR83, GPR84, GPR85, GPR88, GPR97, TM7SF1), 대사성 글루탐산 수용체, 가스트린 방출 펩티드 수용체(BB2), 오렉신 수용체 패밀리, 히스타민 수용체 패밀리, 5-하이드록시트립타민 수용체 패밀리, KISS1 유래 펩티드 수용체, 류신이 풍부한 반복 함유 G 단백질 결합 수용체 패밀리, 호리오고나도트로핀 수용체(LH), 류코트리엔 B4 수용체(BLT1), 아데닐산 사이클라제 활성화 폴리펩티드 1 수용체 1(mPAC1), 모틸린 수용체, 멜라노코르틴 수용체 패밀리, 멜라닌 농축 호르몬 수용체 1(MCH1), 뉴로펩티드 Y1 수용체(Y1), 뉴로펩티드 Y2 수용체(NPY2R), 오피오이드 수용체 패밀리, 옥시토신 수용체(OT), P2Y 퓨린수용체 12(mP2Y12), P2Y 퓨린수용체 6(P2Y6), 췌장 폴리펩티드 수용체 패밀리, 혈소판 활성화 인자 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 E 수용체 패밀리, 프로스타노이드 IP1 수용체(IP1), MAS 관련 GPR, 멤버 패밀리, 로돕신(Rhodopsin), 릴랙신 패밀리 펩티드 수용체 패밀리, 소마토스타틴 수용체 패밀리, 타키키닌 수용체 패밀리, 멜라토닌 수용체 패밀리, 우로텐신 수용체 패밀리, 혈관활성 장 펩티드 수용체 1(mVPAC1), 뉴로메딘 B 수용체(BB1), 뉴로메딘 U 수용체 1(NMU1), 뉴로펩티드 B/W 수용체 패밀리, 뉴로펩티드 FF 수용체 1(NPFF1), 뉴로펩티드 S 수용체 1(NPS 수용체), 뉴로펩티드 Y 수용체 패밀리, 뉴로텐신 수용체 1(NTS1), 옵신 5(OPN5), 오피오이드 수용체 유사 수용체(NOP), 옥소에이코사노이드(OXE) 수용체 1(OXE), 옥소글루타레이트(알파-케토글루타레이트) 수용체 1(OXGR1), 퓨린성 수용체 패밀리, 피리미딘성 수용체 패밀리, 프로락틴 방출 호르몬 수용체(PRRP), 프로키네티신 수용체 패밀리, 혈소판 활성화 수용체(PAF), 프로스타글란딘 F 수용체 패밀리, 프로스타글란딘 12(프로스타사이클린) 수용체 패밀리, 부갑상선 호르몬 수용체 패밀리, 무스카린 아세틸콜린 수용체(rM4 등), 프로스타노이드 DP2 수용체(rGPR44), 프로키네티신 수용체 패밀리, 릴랙신 패밀리 펩티드 수용체 패밀리, 세크레틴 수용체(secretin), 프리즐드 클래스 수용체(평활화), 미량 아민 관련 수용체 패밀리, 타키키닌 패밀리, 트롬복산 A2 수용체(TP), 갑상선 자극 호르몬 방출 호르몬 수용체(TRH1), 및 갑상선 자극 호르몬 수용체(TSH)가 있다.

핵 호르몬 수용체의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 안드로겐 수용체(AR), 에스트로겐 관련 수용체 알파(ESRRA), 에스트로겐 수용체 1(ESR1), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 4(NR1H4), 핵 수용체 서브패밀리 3 - 그룹 C - 멤버 1(글루코코르티코이드 수용체)(NR3C1), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 3(간 X 수용체 α)(NR1H3), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 2(간 X 수용체 β)(NR1H2), 핵 수용체 서브패밀리 1 - 그룹 H - 멤버 2(간 X 수용체 β)(NR1H2), 핵 수용체 서브패밀리 3 - 그룹 C - 멤버 2(미네랄코르티코이드 수용체)(NR3C2), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 알파(PPRA), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 감마(PPARG), 퍼옥시좀 증식체 활성화 수용체 델타(PPARD), 프로게스테론 수용체 α(PGR), 프로게스테론 수용체 β(PGR), 레티노산 수용체 - 알파(RARA), 레티노산 수용체 - 베타(RARB), 레티노이드 X 수용체 - 알파(RXRA), 레티노이드 X 수용체 - 감마(RXRG), 갑상선 호르몬 수용체 - 알파(THRA), 갑상선 호르몬 수용체 - 베타 (THRB), 레티노산 관련 희귀 수용체, 간 X 수용체, 파르네소이드 X 수용체, 비타민 D 수용체, 프레그난 X 수용체, 구성 안드로스탄 수용체, 간세포 핵 인자 4, 에스트로겐 수용체, 에스트로겐 관련 수용체, 글루코코르티온 수용체, 신경 성장 인자-유도-B, 생식 세포 핵 인자가 있다.

막 수송 단백질의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: ATP 결합 카세트(ABC) 슈퍼패밀리, 용질 운반체(SLC) 슈퍼패밀리, 다약제 내성 단백질 1(P-당단백질), 유기 음이온 수송체 1, 및 EAAT3, EAAC1, EAAT1, GLUT1, GLUT2, GLUT9, GLUT10, rBAT, AE1, NBC1, KNBC, CHED2, BTR1, NABC1, CDPD, SGLT1, SGLT2, NIS, CHT1, NET, DAT, GLYT2, CRTR, BOAT1, SIT1, XT3, y+LAT1, BAT1, NHERF1, NHE6, ASBT, DMT1, DCT1, NRAMP2, NKCC2, NCC, KCC3, NACT, MCT1, MCT8, MCT12, SLD, VGLUT3, THTR1, THTR2, PIT2, GLVR2, OCTN2, URAT1, NCKX1, NCKX5, CIC, PiC, ANTI, ORNT1, AGC1, ARALAR, 시트린, STLN2, aralar2, TPC, MUP1, MCPHA, CACT, GC1, PHC, DTD, CLD, DRA, PDS, 프레스틴, TAT1, FATP4, ENT3, ZnT2, ZnT10, AT1, NPT2A, NPT2B, HHRH, CST, CDG2F, UGAT, UGTL, UGALT, UGT1, UGT2, FUCT1, CDG2C, NST, PAT2, G6PT1, SPX4, ZIP4, LIV4, ZIP13, LZT-Hs9, FPN1, MTP1, IREG1, RHAG, AIM1, PCFT, FLVCR1, FLVCR2, RFT1, RFT2, RFT3, OATP1B1, OATP1B3, 및 OATP2A1와 같은 단백질가 있다.

구조 단백질의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 튜불린, 열충격 단백질, 미세소관 안정화 단백질, 종양단백질 18, 스타트민, 키네신-8 및 키네신-14 패밀리, Kip3 및 Kif18A가 있다.

프로테아제의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: ADAM(디스인테그린 및 메탈로프로테아제) 패밀리가 있다.

단백질 키나제의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: AP2 관련 키나아제, 호모 사피엔스 ABL 원발암유전자 1 - 비-수용체 티로신-단백질 키나아제 패밀리, c-abl 종양유전자 1 수용체 티로신 키나아제 패밀리, v-abl 아벨슨 뮤린 백혈병 바이러스 종양유전자 동족체 2, 액티빈 A 수용체 패밀리, 샤페론 - bc1 복합 동족체(S. pombe)의 ABC1 활성(ADCK3), aarF 도메인 함유 키나아제 4(ADCK4), v-akt 뮤린 흉선종 바이러스 종양유전자 동족체 패밀리, 역형성 림프종 수용체 티로신 키나아제 패밀리, 단백질 키나아제 A 패밀리, 단백질 키나아제 B 패밀리, 앵키린 반복 및 키나아제 도메인 함유 1(ANKK1), NUAK 패밀리 - SNF1 유사 키나아제, 마이토젠 활성화 단백질 키나아제 키나아제 키나아제 패밀리 오로라 키나아제 A(AURKA), 오로라 키나아제 B(AURKB), 오로라 키나아제 C(AURKC), AXL 수용체 티로신 키나아제 (AXL), BMP2 유도성 키나아제(BIKE), B 림프성 티로신 키나아제(BLK), 골 형태형성 단백질 수용체 패밀리, BMX 비-수용체 티로신 키나아제(BMX), v-raf 뮤린 육종 바이러스 종양유전자 동족체 B1(BRAF), 단백질 티로신 키나아제 6(BRK), BR 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 브루톤 무감마글로불린혈증 티로신 키나아제(BTK), 칼슘/칼모듈린 의존성 단백질 키나아제 패밀리, 사이클린 의존성 키나아제 패밀리, 사이클린 의존성 키나아제 유사 패밀리, CHK1 체크포인트 동족체(S. pombe)(CHEK1), CHK2 체크포인트 동족체(S. pombe)(CHEK2), 인슐린 수용체, 동형 A(INSR), 인슐린 수용체, 동형 B(INSR), rho-상호작용 세린/트레오닌 키나아제(CIT), v-kit Hardy-Zuckerman 4 고양이 육종 바이러스 종양유전자 동족체(KIT), CDC-유사 키나아제 패밀리 - 간세포 성장 인자 수용체(MET), 원발암 유전자 티로신-단백질 키나아제 수용체, 집락 자극 인자 패밀리 수용체, c-src 티로신 키나아제(CSK) ), 카제인 키나아제 패밀리, 거핵구 관련 티로신 키나아제(CTK), 사멸 관련 단백질 키나아제 패밀리, 이중 코르틴 유사 키나아제 패밀리, 디스코이딘 도메인 수용체 티로신 키나아제, 근 긴장성 이영양증-단백질 키나아제(DMPK), 이중 특이성 티로신-(Y )-인산화 조절된 키나아제 패밀리, 표피 성장 인자 수용체 패밀리, 진핵 전이 개시 인자 2-알파 키나아제 1(EIF2AK1), EPH 수용체 패밀리, 에프린 타입 A 수용체 패밀리, 에프린 타입 B 수용체 패밀리, v-erb-b2 적아구성 백혈병 바이러스 종양유전자 동족체 패밀리, 마이토젠-활성화된 단백질 키나아제 패밀리, 소포체에서 핵 신호 전달 1(ERN1), PTK2 단백질 티로신 키나아제 2(FAK), fer(fps/fes 관련) 티로신 키나아제(FER). 고양이 육종 종양유전자(FES), 섬유아세포 성장 인자 수용체 패밀리, Gardner-Rasheed 고양이 육종 바이러스(v-fgr) 종양유전자 동족체(FGR), fms 관련 티로신 키나아제 패밀리, Fms 관련 티로신 키나아제 패밀리, fyn 관련 키나아제(FRK), SRC와 관련된 FYN 종양 유전자, 사이클린 G 관련 키나아제(GAK), 진핵 전이 개시 인자 2 알파 키나아제, 성장 호르몬 수용체, G 단백질 결합 수용체 키나아제 1(GRK1), G 단백질 결합 수용체 키나아제 패밀리, 글리코겐 신타아제 키나아제 패밀리, 생식 세포 연관 2 (haspin) (HASPIN), 조혈 세포 키나아제(HCK), 호메오도메인 상호작용 단백질 키나아제 패밀리, 마이토젠- 활성화된 단백질 키나아제 키나아제 키나아제 패밀리, 호르몬으로 상향 조절된 Neu 관련 키나아제(HUNK), 장 세포(MAK-유사) 키나아제(ICK), 인슐린 유사 성장 인자 1 수용체(IGF1R), 보존 나선 루프 나선 유비쿼터스 키나아제(IKK) -알파), B 세포의 카파 광 폴리펩티드 유전자 인핸서의 억제제 - 키나아제 베타 패밀리, 인슐린 수용체(INSR), 인슐린 수용체 관련 수용체(INSRR), 인터루킨-1 수용체 관련 키나아제 패밀리, IL2 유도성 T 세포 키나아제(ITK), Janus 키나아제 패밀리, 키나아제 삽입 도메인 수용체, v-kit Hardy-Zuckerman 4 고양이 육종 바이러스 종양유전자 동족체, 림프구 특이적 단백질 티로신 키나아제(LCK), LIM 도메인 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌 키나아제 패밀리 류신 풍부 반복 키나아제 패밀리, v-yes-1 야마구치 육종 바이러스 관련 종양유전자 동족체(LYN), 남성 생식 세포 관련 키나아제(MAK); MAP/미세소관 친화성 조절 키나아제 패밀리, 예컨대 미세소관 관련 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 모체 배아 류신 지퍼 키나아제, c-mer 원발암 유전자 티로신 키나아제 (MERTK), met 원발암유전자(간세포 성장 인자 수용체), MAP 키나아제 상호 작용 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 미오신 경쇄 키나아제 패밀리, 혼합 계통 키나아제 도메인 유사 단백질 동형, CDC42 결합 단백질 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌 키나아제 패밀리, 대식세포 자극 1 수용체(c-met 관련 티로신 키나아제)(MST1R), 라파마이신(세린/트레오닌 키나아제)의 기계적 표적(MTOR), 근골격 수용체 티로신 키나아제(MUSK), 미오신 경쇄 키나아제 패밀리, NIMA(never in mitosis gene a) 관련 키나아제 패밀리, 세린/트레오닌-단백질 키나아제 NIM1(NIM1), 네모 유사 키나아제(NLK), 산화 스트레스 반응성 1(OSR1), p21 단백질(Cdc42/Rac) 활성화 키나아제 패밀리, PAS 도메인 함유 세린/트레오닌 키나아제, 혈소판 유래 성장 인자 수용체 패밀리, 3-포스포이노시티드 의존성 단백질 키나아제-1(PDPK1), 칼슘 의존성 단백질 키나아제 1, 포스포릴라제 키나아제 감마 패밀리, 포스파티딜이노시톨 4,5-비스포스페이트 3-키나아제, 포스포이노시티드-3 -키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨 4-키나아제 패밀리, 포스포이노시티드 키나아제, FYVE 핑거 함유, Pim-1 발암유전자(PIM1), pim-2 발암유전자(PIM2), pim-3 발암유전자(PIM3), 포스파티딜이노시톨-4-포스페이트 5-키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨-5-포스페이트 4-키나아제 패밀리 단백질 키나아제, 멤브레인 관련 티로신/트레오닌 1 (PKMYT1), 단백질 키나아제 N 패밀리, 폴로 유사 키나아제 패밀리, 단백질 키나아제 C 패밀리, 단백질 키나아제 D 패밀리, cGMP-의존성 단백질 키나아제 패밀리, 진핵 전이 개시 인자 2-알파 키나아제 2 (PRKR), X-결합 단백질 키나아제 (PRKX), 프로락틴 수용체 (PRLR), PRP4 pre-mRNA 처리 인자 4 동족체 B (이스트) (PRP4), PTK2B 단백질 티로신 키나아제 2 베타 (PTK2B), SIK 패밀리 키나아제 3 (QSK), v-raf-1 뮤린 백혈병 바이러스 종양유전자 동족체 1(RAF1), 신경영양성 티로신 키나아제 수용체 타입 패밀리, 수용체(TNFRSF)-상호작용 세린-트레오닌 키나아제 패밀리, 이중 세린/트레오닌 및 티로신 단백질 키나아제(RIPK5), Rho -연관된 코일형 코일 함유 단백질 키나아제 패밀리, c-ros 종양유전자 1, 수용체 티로신 키나아제(ROS1), 리보솜 단백질 S6 키나아제 패밀리, SH3-결합 도메인 키나아제 1(SBK1), 혈청/글루코코르티코이드 조절 키나아제 패밀리, 잠정적으로 특성화되지 않은 세린/트레오닌-단백질 키나아제(Sugen 키나아제 110)(SgK110), 염유도성 키나아제 패밀리, SNF 관련 키나아제 (SNRK), src 관련 키아아제, SFRS 단백질 키나아제 패밀리, 지라(Spleen) 티로신 키나아제 (SYK), 예컨대 TAO 키나아제 패밀리, TANK-결합 키나아제 1 (TBK1), 예컨대 tec 단백질 티로신 키나아제(TEC), 테스티스-특이 키나아제 1(TESK1), 변형 성장 인자, 베타 수용체 패밀리, 면역글로불린 유사 및 EGF 유사 도메인 1이 있는 티로신 키나아제(TIE1), TEK 티로신 키나아제, 내피(TIE2), 안지오포이에틴-1 수용체(Tie2), tousled 유사 키나아제 패밀리, TRAF2 및 NCK 상호 작용 키나아제(TN IK), 비-수용체 티로신 키나아제 패밀리, TNNI3 상호 작용 키나아제(TNNI3K), 일시적 수용체 전위 양이온 채널, 테스티스-특이 세린 키나아제 패밀리, TTK 단백질 키나아제(TTK), TXK 티로신 키나아제 (TXK), 티로신 키나아제 2(TYK2), TYRO3 단백질 티로신 키나아제 (TYRO3), unc-51-유사 키나아제 패밀리, 포스파티딜이노시톨 3-키나아제, 백신 관련 키나아제 2 (VRK2), WEE1 동족체 패밀리, WNK 리신 부족 단백질 키나아제 패밀리, v-yes-1 야마구치 육종 바이러스 종양유전자 동족체 1 (YES) 키나아제 AZK(ZAK), 멸균 알파 모티프 및 류신 지퍼 함유 키나아제 AZK(ZAK), 및 제타-사슬(TCR) 관련 단백질 키나아제 70(ZAP70)가 있다.

세포 치료제는, 외분비 상피 세포 및 호르몬 분비 세포 등과 같은 내배엽; 각질화 상피 세포, 습윤 중층 장벽 상피 세포, 감각 변환기 세포, 자율 뉴런 세포, 감각 기관 및 말초 뉴런 지지 세포, 중추 신경계 뉴런 및 신경교 세포, 수정체 세포와 같은 외배엽; 대사 및 저장 세포, 장벽 기능 세포(폐, 장, 외분비선 및 비뇨생식로), 세포외 기질 세포, 수축성 세포, 혈액 및 면역계 세포, 생식 세포, 간호사 세포, 간질 세포와 같은 중배엽 및 이들의 조합으로부터 주로 유래하는 세포를 이용한다. 추가적으로, 본 발명의 범위에는 유전적으로, 화학적으로 또는 물리적으로 변경 또는 다른 방식으로 변성된 세포가 있다.

외분비 상피 세포의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 침샘 점액 세포, 침샘 1번, 혀의 폰 에브너 선 세포, 유선 세포, 누선 세포, 귀의 귀지선 세포, 에크린 땀샘 암 세포, 에크린 땀샘 투명 세포, 아포크린 땀샘 세포, 눈꺼풀의 몰샘 세포, 피지선 세포, 코의 보우만선 세포, 십이지장내 브루너선 세포, 정낭 세포, 전립선 세포, 구요도선 세포, 바르톨린선 세포, 리트르샘 세포, 자궁 내막 세포, 호흡기 및 소화관의 분리된 배상 세포, 위 라이닝 점액 세포, 위선 효소원 세포, 위선 벽 세포, 췌장 포상 세포, 소장의 파네트 세포, 폐의 타입 II 폐포세포, 폐의 클라라 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 호르몬 분비 세포: 뇌하수체 전엽 세포, 뇌하수체 중간 세포, 대세포 신경분비 세포, 소화관 및 호흡기 세포, 갑상선 세포, 부갑상선 세포, 부신 세포, 테스토스테론을 분비하는 고환의 라이디히 세포, 에스트로겐을 분비하는 난포의 내부 포막 세포, 프로게스테론을 분비하는 파열된 난포의 황체 세포, 사구체 인접 세포, 신장의 치밀반점 세포, 신장의 극주위 세포, 신장의 혈관사이 세포, 췌장 소도; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 각질화 상피 세포: 표피 각질 세포, 표피 기저 세포, 손톱과 발톱의 각질 세포, 손발톱 바닥 기저 세포, 수질 털줄기 세포, 피질 털출기 세포, 각피 털줄기 세포, 각피 모근 초상 세포, 헉슬리층의 모근 초상 세포, 헨레층의 모근 초상 세포, 외부 모근 초상 세포 및 모발 기질 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 습윤 중층 장벽 상피 세포: 각막, 혀, 구강, 식도, 항문관, 원위 요도 및 질의 중층 편평 상피의 표면 상피 세포와 상피의 기저 세포, 및 비뇨기 상피 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 감각 변환기 세포: 코르티 기관의 청각 내유모 세포, 코르티 기관의 청각 외유모 세포, 후각 상피의 기저 세포, 냉감성 1차 감각 뉴런, 열 민감성 1차 감각 뉴런, 표피의 메르켈 세포, 후각 수용체 뉴런, 통증 민감성 1차 감각 뉴런, 눈 망막의 광수용체 세포, 고유수용성 1차 감각 뉴런, 촉각 민감성 1차 감각 뉴런, 제1형 경동맥 체세포, 제2형 경동맥 체세포, 귀 전정계의 제1형 유모 세포, 귀 전정계의 제2형 유모 세포, 및 제1형 미뢰 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 자율 신경 세포: 콜린성 신경 세포, 아드레날린성 신경 세포 및 펩티드성 신경 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 감각 기관 및 말초 뉴런 지원 세포: 코르티 기관의 내부 주상 세포, 코르티 기관의 외부 주상 세포, 코르티 기관의 내부 지골 세포, 코르티 기관의 외부 지골 세포, 코르티 기관의 경계 세포, 코르티 기관의 헨센 세포, 전정 기관 지지 세포, 미뢰 지지 세포, 후각 상피 지지 세포, 슈반 세포, 위성 아교 세포, 및 장 아교 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 중추 신경계 뉴런 및 신경아교 세포: 성상교세포, 뉴런 세포, 희소돌기아교세포 및 스핀들 뉴런; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 수정체 세포: 전방 수정체 상피 세포 및 크리스탈린 함유 수정체 섬유 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 대사 및 저장 세포: 지방세포 및 간 지방세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 장벽 기능 세포: 신장 벽세포, 신장 사구체 다리세포, 신장 근위 세뇨관 브러시 경계 세포, 헨레 고리의 세구역 세포, 신장 원위 세뇨관 세포, 신장 집합관 세포, 주세포, 개재 세포, 타입 I 폐세포, 췌관 세포, 비-줄무늬관 세포, 주세포, 개재세포, 관 세포, 장 브러시 경계 세포, 외분비선 줄무늬 관 세포, 담낭 상피 세포, 고환날세관 비섬모 세포, 부고환 주 세포 및 부고환 기저 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 세포외 기질 세포: 에나멜 아세포 상피 세포(Ameloblast epithelial cell), 귀의 전정계의 반달면 상피 세포, 코르티 기관 치간 상피 세포, 소성 결합 조직 섬유아세포, 각막 섬유아세포, 힘줄 섬유아세포, 골수 망상 조직 섬유아세포, 기타 비상피 섬유아세포, 혈관주위세포, 추간판의 수핵 세포, 시멘트아세포/시멘트세포, 상아질모세포/상아아세포, 유리질연골 연골세포, 섬유연골 연골세포, 탄성연골 연골세포, 골아세포/골세포, 골조상세포, 눈의 유리체의 유리체세포, 귀의 외림프 공간의 성상 세포, 간 성상 세포, 및 췌장 스텔레 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 수축성 세포: 골격근 세포, 위성 세포, 심근 세포, 평활근 세포, 홍채의 근상피 세포, 및 외분비선의 근상피 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 혈액 및 면역계 세포: 적혈구, 거핵구, 단핵구, 결합조직 대식세포, 상피 랑게르한스 세포, 파골세포, 수지상 세포, 미세아교 세포, 호중성 과립구, 호산성 과립구, 호염기성 과립구, 하이브리도마 세포, 비만 세포, 헬퍼 T 세포, 억제 T 세포, 세포독성 T 세포, 자연 살해 T 세포, B 세포, 자연 살해 세포, 망상적혈구, 혈액 및 면역계에 대한 줄기 세포, 및 수임 전구체; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 생식 세포: 난원세포/난모세포, 정자세포, 정모세포, 정조 세포 및 정자; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 간호 세포: 난포 세포, 및 세르톨리 세포, 흉선 상피 세포; 이하를 포함하지만 이에 제한되지 않는 간질 세포: 간질 신장 세포 및 상기한 것의 임의의 조합이 있다.

기타 알려진 생물학적 제제의 비제한적인 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 아보시나기스(Abbosynagis), 아베그린(Abegrin), 악템라(Actemra), AFP-시드(Cide), 안토바(Antova), 아제라(Arzerra), 오렉시스(Aurexis), 아바스틴(Avastin), 벤리스타(Benlysta), 벡사르(Bexxar), 블론트레스(Blontress), 보사트리아(Bosatria), 캄파스(Campath), CEA-시드, CEA-스캔, 심지아(Cimzia), 사이람자(Cyramza), 엑토맙(Ektomab), 얼비툭스(Erbitux), 피브리신트(FibriScint), 가즈이바(Gazyva), 허셉틴(Herceptin), hPAM4-시드, 휴마스펙트(HumaSPECT), 휴맥스(HuMax)-CD4, 휴맥스-EGFr, 휴미라(Humira), HuZAF, 하이브리-시커(Hybri-ceaker), 일라리스(Ilaris), 인디마시스(Indimacis)-125, 캐드사일라(Kadcyla), 렘트라다(Lemtrada), 류카레스트(LeukArrest), 류코스캔(LeukoScan), 루센티스(Lucentis), 림포뮨(Lymphomun), 림포스캔(LymphoScan), 림포스타트(LymphoStat-B), 맙테라(MabThera), 마이코그랩(Mycograb), 마일로타그(Mylotarg), 마이오신트(Myoscint), 뉴트로스펙(NeutroSpec), 누맥스(Numax), 누비온(Nuvion), 옴니타르그(Omnitarg), 옵디보(Opdivo), 오르토클론(Orthoclone) OKT3, 오바렉스(OvaRex), 파노렉스(Panorex), 프롤리아(Prolia), 프로스타신트(Prostascint), 랍티바(Raptiva), 레미케이드(Remicade), 레모밥(Removab), 렌카렉스(Rencarex), 레오프로(ReoPro), 렉소뮨(Rexomun), 리툭산(Rituxan), 로악템라(RoActemra), 신티문(Scintimun), 심포니(Simponi), 시뮬렉트(Simulect), 솔리리스(Soliris), 스텔라라(Stelara), 시나기스(Synagis), 택트레스(Tactress), 테라심(Theracim), 테라긴(Theragyn), 테라록(Theraloc), 티사브리(Tysabri), 벡티빅스(Vectibix), 벨루마(Verluma), 졸레르(Xolair), 예르보이(Yervoy), 제나팍스(Zenapax) 및 제바린(Zevalin) 및 이들의 조합이 있다.

알려진 단일클론 항체의 비제한적인 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 3F8, 8H9, 아바고보맙(Abagovomab), 압식시맙(Abciximab), 아비투주맙(Abituzumab), 아브릴루맙(Abrilumab), 악톡수맙(Actoxumab), 아달리무맙(Adalimumab), 아데카투무맙(Adecatumumab), 아두카누맙(Aducanumab), 아파세비쿠맙(Afasevikumab), 아펠리모맙(Afelimomab), 아푸투주맙(Afutuzumab), 알라시주맙 페골(Alacizumab pegol), ALD518, ALD403, 알렘투주맙(Alemtuzumab), 아릴로쿠맙(Alirocumab), 알투모밥 펜테토산(Altumomab pentetate), 아마투시맙(Amatuximab), AMG334, 아난투모밥 마페나톡스(Anatumomab mafenatox), 아네투맙 라브탄신(Anetumab ravtansine), 아니프롤루맙(Anifrolumab), 안루킨주맙(Anrukinzumab), 아폴리주맙(Apolizumab), 아르시투모맙(Arcitumomab), 아스린바쿠맙(Ascrinvacumab), 아셀리주맙(Aselizumab), 아테졸리주맙(Atezolizumab), 아티누맙(Atinumab, 아틀리주맙(Atlizumab), 아토롤리무맙(Atorolimumab), 아벨루맙(Avelumab), 바피누주맙(Bapineuzumab), 바실릭시맙(Basiliximab), 바비툭시맙(Bavituximab), 벡투모맙(Bectumomab), 베겔로맙(Begelomab), 벨리무맙(Belimumab), 베네랄리주맙(Benralizumab), 베르틸리무맙(Bertilimumab), 베시레소맙(Besilesomab), 베바시주맙(Bevacizumab), 벤즐로톡수맙(Bezlotoxumab), 비시로맙(Biciromab), 비마그루맙(Bimagrumab), 비베키주맙(Bimekizumab), 비바투주맙 메르탄신(Bivatuzumab mertansine), 블레셀루맙(Bleselumab), 블리나투모맙(Blinatumomab), 블론투베트맙(Blontuvetmab), 블로소주맙(Blosozumab), 보코시주맙(Bococizumab), 브라지쿠맙(Brazikumab), 브렌툭시맙 베도틴(Brentuximab vedotin), 브리아키누맙(Briakinumab), 브로달루맙(Brodalumab), 브롤루시주맙(Brolucizumab), 브론틱투주맙(brontictuzumab), 부로스맙(Burosumab), 카비랄리주맙(Cabiralizumab), 카나키누맙(Canakinumab), 칸투주맙 메르탄신(cantuzumab mertansine), 칸투주맙 라브탄신(cantuzumab ravtansine), 카플라시주맙(Caplacizumab), 카프로맙 펜데티드(Capromab pendetide), 카를루맙(Carlumab), 카로툭시맙(Carotuximab), 카투막소맙(Catumaxomab), cBR96-독소루비신 면역컨쥬게이트(cBR96-doxorubicin immunoconjugate), 세델리주맙(Cedelizumab), 세르구투주맙 아무날루킨(Cergutuzumab amunaleukin), 세르톨리주맙 페골(Certolizumab pegol), 세툭시맙(Cetuximab), 시타투주맙 보가톡스(Citatuzumab bogatox), 시수투무맙(Cixutumumab), 클라자키주맙(Clazakizumab), 클레놀릭시맙(Clenoliximab), 클리바투주맙 테트라세탄(Clivatuzumab tetraxetan), 코드리투주맙(Codrituzumab), 콜툭시맙 라브탄신(coltuximab ravtansine), 코나투무맙(conatumumab), 콘시주맙(concizumab), CR6261, 크레네주맙(Crenezumab), 크로테두맙(Crotedumab), 다세투주맙(Dacetuzumab), 다클리주맙(Daclizumab), 달로투주맙(Dalotuzumab), 다피롤리주맙 페골(Dapirolizumab 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루필주맙(Ruplizumab), 사시투주맙 고비테칸(Sacituzumab govitecan), 사말리주맙(Samalizumab), 사펠리주맙(Sapelizumab), 사릴루맙(Sarilumab), 사투모맙 펜데티드(Satumomab pendetide), 세쿠키누맙(Secukinumab), 세리반투맙(Seribantumab), 세톡사시맙(Setoxaximab), 세비루맙(Sevirumab), SGN-CD19A, SGN-CD33A, 시브로투주맙(Sibrotuzumab), 시팔리무맙(Sifalimumab), 실툭시맙(Siltuximab), 심투주맙(Simtuzumab), 시플리주맙(Siplizumab), 시루쿠맙(Sirukumab), 소피투주맙 베도틴(Sofituzumab vedotin), 솔라네주맙(Solanezumab), 솔리토맙(Solitomab), 소네프시주맙(Sonepcizumab), 손투주맙(Sontuzumab), 스타물루맙(Stamulumab), 술레소맙(Sulesomab), 수비주맙(Suvizumab), 타발루맙(Tabalumab), 타카투주맙 테트락세탄(Tacatuzumab tetraxetan), 타도시주맙(Tadocizumab), 탈리주맙(Talizumab), 탐투베트맙(Tamtuvetmab), 타네주맙(Tanezumab), 타플리투모맙 파프톡스(Taplitumomab paptox), 타렉스투맙(Tarextumab), 페피바주맙(Tefibazumab), 텔리모맙 아리톡스(Telimomab aritox), 테나투모맙(Tenatumomab), 테넬릭시맙(Teneliximab), 테플리주맙(Teplizumab), 테프로투무맙(Teprotumumab), 테시돌루맙(Tesidolumab), 테툴로맙(Tetulomab), 테제펠루맙(Tezepelumab), TGN1412, 티실리무맙(Ticilimumab), 티가투주맙(Tigatuzumab), 틸드라키주맙(Tildrakizumab), 티몰루맙(Timolumab), 티소투맙 베도틴(Tisotumab vedotin), TNX-650, 토실리주맙(Tocilizumab), 토랄리주맙(Toralizumab), 토사톡수맙(Tosatoxumab), 토시투모맙(Tositumomab), 토베투맙(Tovetumab), 트랄로키누맙(Tralokinumab), 트라스투주맙(Trastuzumab), 트라스투주맙 엠탄신(Trastuzumab emtansine), TRBS07, 트레칼리주맙(Tregalizumab), 트레멜리무맙(Tremelimumab), 트레보그루맙(Trevogrumab), 투쿠투주맙 셀몰레우킨(Tucotuzumab celmoleukin), 투비루맙(Tuvirumab), 우블리툭시맙(Ublituximab), 울로쿠플루맙(Ulocuplumab), 우렐루맙(Urelumab), 우르톡사주맙(Urtoxazumab), 우스테키누맙(Ustekinumab), 우토밀루맙(Utomilumab), 바다스툭시맙 탈리린(Vadastuximab talirine), 반도르투주맙 베도틴(Vandortuzumab vedotin), 반틱투맙(Vantictumab), 바누시주맙(Vanucizumab), 바팔릭시맙(Vapaliximab), 바릴루맙(Varlilumab), 바텔리주맙(Vatelizumab), 베돌리주맙(Vedolizumab), 벨투주맙(Veltuzumab), 베팔리모맙(Vepalimomab), 베센쿠맙(Vesencumab), 비실리주맙(Visilizumab), 보발리리주맙(Vobarilizumab), 볼로식시맙(Volociximab), 보르세투주맙 마포도틴(Vorsetuzumab mafodotin), 보투무맙(Votumumab), 젠투주맙(Xentuzumab), 잘루투무맙(Zalutumumab), 자놀리무맙(Zanolimumab), 자툭시맙(Zatuximab), 지랄리무맙(Ziralimumab), 및 졸리모맙 아리톡스(Zolimomab aritox) 및 이들의 조합이 있다.

바이러스성 질병을 위해 개발된 백신의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: A형 간염 백신, B형 간염 백신, E형 간염 백신, HPV 백신, 인플루엔자 백신, 일본뇌염 백신, MMR 백신, MMRV 백신, 소아마비 백신, 광견병 백신, 로타바이러스 백신, 수두 백신, 대상포진 백신, 천연두 백신, 황열병 백신, 아데노바이러스 백신, 콕사키 B 바이러스 백신, 사이토메갈로바이러스 백신, 인간용 뎅기열 백신, 인간용 동부 말 뇌염 바이러스 백신, 에볼라 백신, 엔테로바이러스 71 백신, 엡스타인-바 백신, C형 간염 백신, HIV 백신, 인간용 HTLV-1 T-림프성 백혈병 백신, 마르부르크 바이러스 질병 백신, 노로바이러스 백신, 인간용 호흡기 세포융합 바이러스 백신, 중증 급성 호흡기 증후군(SARS) 백신, 인간용 웨스트 나일 바이러스 백신가 있고; 세균성 질병을 위해 개발된 백신의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 탄저병 백신, DPT 백신, Q열 백신, Hib 백신, 결핵(BCG) 백신, 수막구균 백신, 장티푸스 백신, 폐렴구균 결합백신, 폐렴구균 다당 백신, 콜레라 백신, 우식증 백신, 에를리히증 백신, 나병 백신, 라임병 백신, 포도상구균 아우레우스 백신, 화농연쇄구균 백신, 매독 백신, 야토병 백신, 페스트균 백신이 있고; 기생충 질환을 위해 개발된 백신의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 말라리아 백신, 주혈흡충증 백신, 샤가스병 백신, 구충 백신, 인간용 회선사상충증 하천 실명증 백신(Onchocerciasis river blindness vaccine for humans), 트리파노소마증 백신, 내장 리슈만편모충증 백신이고 있고; 비감염성 질병을 위해 개발된 백신의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 알츠하이머병 아밀로이드 단백질 백신, 유방암 백신, 난소암 백신, 전립선암 백신, 및 탈리모겐 라허파렙벡(T-VEC)이 있고; 또한 이에 제한되는 것은 아니지만 이하의 상품명: ACAM2000, ActHIB, Adacel, Afluria, AFLURIA QUADRIVALENT, Agriflu, BCG Vaccine, BEXSERO, Biothrax, Boostrix, Cervarix, Comvax, DAPTACEL, DECAVAC, Engerix-B, FLUAD, Fluarix, Fluarix Quadrivalent, Flublok, Flucelvax, Flucelvax Quadrivalent, FluLaval, FluMist, FluMist Quadrivalent, Fluvirin, Fluzone Quadrivalent, Fluzone, Fluzone High-Dose and Fluzone Intradermal, Gardasil, Gardasil 9, Havrix, Hiberix, Imovax, Infanrix, IPOL, Ixiaro, JE-Vax, KINRIX, Menactra, MenHibrix, Menomune-A/C/Y/W-135, Menveo, M-M-R II, M-M-Vax, Pediarix, PedvaxHIB, Pentacel, Pneumovax 23, Poliovax, Prevnar, Prevnar 13, ProQuad, Quadracel, Quadrivalent, RabAvert, Recombivax HB, ROTARIX, RotaTeq, TENIVAC, TICE BCG, Tripedia, TRUMENBA, Twinrix, TYPHIM Vi, VAQTA, Varivax, Vaxchora, Vivotif, YF-Vax, Zostavax 및 이들의 조합을 갖는 백신이 있다.

주사 가능한 약물의 예로는, 이에 제한되는 것은 아니지만: 아블라바르(Ablavar) (가도포스베세트 삼나트륨주사제), 알바렐릭스 데포, 아보보툴리늄톡신 A 주사제, ABT-263, ABT-869, ABX-EFG, 악세레트로핀(소마트로핀 주사제), 아세타도트(아세틸시스테인 주사제), 아세타졸아미드 주사제 (아세타졸아미드 주사제), 아세틸시스테인 주사제(아세타도트), 악템라(토실리주맙 주사세), 악트렐(주사용 코르티코렐린 오빈트리플루테이트), 악툼뮨(Actummune), 악티바제, 주사용 아시클로버(조비락스 주사제), 아다셀, 아달리무맙, 아데노스칸(아데노신 주사제), 아데노신 주사제(아데노스칸), 아드레나클릭, 아드레뷰 (정맥내용 이오벤구안 1123 주사제), 아플루리아, Ak-플루오르(플루오레세인 주사제), 알듀라자임(라로니다제), 알글루세라제 주사제(세레다제), 알케란 주사세(멜팔란 HCl 주사제), 주사용 알로퓨리놀 나트륨(알로프림), 알로프림(주사용 알로퓨리놀 나트륨), 알프로스타딜, 알슈마(슈마트립탄 주사제), ALTU-238, 아미노산 주사제, 아미노신, 아피드라, 아프레밀라스트, 주사용 알프로스타딜 이중 챔버 시스템(카베르젝트 임펄스), AMG 009, AMG 076, AMG 102, AMG 108, AMG 114, AMG 162, AMG 220, AMG 221, AMG 222, AMG 223, AMG 317, AMG 379, AMG 386, AMG 403, AMG 477, AMG 479, AMG 517, AMG 531, AMG 557, AMG 623, AMG 655, AMG 706, AMG 714, AMG 745, AMG 785, AMG 811, AMG 827, AMG 837, AMG 853, AMG 951, 아미오다론 HCl 주사제(아미오다론 HCl 주사제), 아모바르비탈 나트륨 주사제(아미탈 나트륨), 아미탈 나트륨(아모바르비탈 나트륨 주사제), 아나킨라, 안티-A베타, 안티-베타7, 안티-베타20, 안티-CD4, 안티-CD20, 안티-CD40, 안티-IFN알파, 안티 -IL13, 안티-OX40L, 안티-oxLDS, 안티-NGF, 안티-NRP1, 아릭스트라, 암파다제(히알루로니다제 주사제), 암모뉼(페닐아세트산나트륨 및 벤조산나트륨 주사제), 아나프록스, 안제메트 주사제(돌라세트론 메실레이트 주사제), 아피드라(인슐린 글루리신[rDNA근원] 주사제), 아포맙, 아라네스프(다르베포에틴 알파), 아르가트로반(아르가트로반 주사제), 아르기닌 염산염 주사제(R-진(Gene) 10), 아리스토코트, 아리스토스판, 삼산화비소 주사제(트리세녹스), 아르티칸 HCl 및 에피네프린 주사제(셉토카인), 아르제라(오파투무맙 주사제), 아스클레라(폴리도칸올 주사제), 아탈루렌, 아탈루렌-DMD, 아테놀롤 주사제(테노르민 정맥내 주사제), 아트라큐리움 베실레이트 주사제(아트라큐리움 베실레이트 주사제), 아바스틴, 아작탐 주사제(아즈트레오남 주사제), 아지트로마이신(지트로막스 주사제), 아즈트레오남 주사제(아작탐 주사제), 박클로펜 주사제(리오레살 척수강내), 정균수(주사용 정균수), 박클로펜주사제(리오레살 척수강내), 발 인 오일(Bal in Oil) 앰플(디메르카르프롤 주사제), BayHepB, BayTet,베나드릴, 벤다무스틴 염산염 주사제(트린다), 벤즈트로핀 메실산염 주사제(코겐틴), 베타메타손 주사용 현탁액(셀레스톤 솔루스판), 벡사르, 바이실린 C-R 900/300(페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인 주사제), 블레녹산(블레오마이신 황산염 주사제), 블레오마이신 황산염 주사제(블레녹산), 보니바 주사제(이반드로네이트 나트륨 주사제), 보톡스 코스메틱(주사용 오나보툴리늄톡신A), BR3-FC, 브라벨(유로폴리트로핀 주사제), 브레틸리움(브레틸리움 토실레이트 주사제), 브레비탈 나트륨(주사용 메토헥시탈 나트륨), 브레틴, 브리오바셉트, BTT-1023, 부피바카인 HCl, 바이에타, Ca-DTPA(펜테테이트 칼슘 삼나트륨 주사제), 카바지탁셀 주사제(제브타나), 카페인 알칼로이드(카페인 및 벤조산나트륨 주사제), 칼시젝스 주사제(칼시트롤), 칼시트롤(칼시젝스 주사제), 염화칼슘(염화칼슘 주사제 10%), 칼슘 이나트륨 베세네이트(에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제), 캄파스(알템투주맙), 캄프토사르 주사제(이리노테칸 염산염), 카나키누맙 주사제(일라리스), 카파스타트 황산염(주사용 카프레오마이신), 주사용 카프레오마이신(카파스타트 황산염), 카르디오라이트(주사용 테크네튬 Tc99 세스타미비용 프렙 키트), 카르티셀, 카트플로, 주사용 세파졸린 및 덱스트로스(세파졸린 주사제), 세페핌 염산염, 세포탁심, 세프트리악손, 세레자임, 카르니토르 주사제, 카베르젝트, 셀레스톤 솔루스판, 셀시오르, 세레빅스(포스페니토인 나트륨 주사제), 세레다제(알글루세라제 주사제), 세레텍(테크네튬 Tc99m 엑사메타짐 주사제), 세르톨리주맙, CF-101, 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트(클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제), 클로람페니콜 나트륨 숙시네이트 주사제(클로람페니콜 나트륨 숙시네이트), 콜레스타겔(콜레세벨람 HCL), 코리오고나도트로핀 알파 주사제(오비드렐), 심지아, 시스플라틴(시스플라틴 주사제), 클로라르(클로파라빈 주사제), 클로미핀시트레이트, 클로니딘 주사제(듀라클론), 코겐틴(벤즈트로핀 메실레이트 주사제), 콜리스티메테이트 주사제(콜리-마이신 M), 콜리-마이신 M(콜리스티메테이트 주사제), 콤파스, 코니밥탄 HCl 주사제(바프리솔), 주사용 접합 에스트로겐(프레마린 주사제), 코팍손, 주사용 코티코렐린 오바인 트리플루테이트(악트렐), 코버트(이부틸라이드 푸마레이트 주사제), 쿠비신(답토마이신 주사제), CF-101, 사이아노키트(주사용 하이드록소코발라민), 사이타라빈 리포좀 주사세(데포사이트), 사이아노코발라민, 사이토벤(간시클로버), D.H.E. 45, 다세투주맙, 다코겐(데시타빈 주사제), 달테파린, 단트리움 정맥내용(주사용 단트롤렌 나트륨), 주사용 단트롤렌 나트륨(단트리움 정맥내용), 답토마이신 주사제(쿠비신), 다르베포이에틴 알파, DDAVP 주사제(데스모프레신 아세테이트 주사제), 데카박스, 데시타빈 주사제(다코겐), 무수 알코올(무수 알코올 주사제), 데노수맙 주사제(프롤리아), 델라테스트릴, 델레스트로겐, 델테파린 나트륨, 데파콘(발프로에이트 나트륨 주사제), 데포 메드롤(메틸프레드니솔론 아세테이트 주사용 현탁액), 데포사이트(사이타라빈 리포솜 주사제), 데포두르(황산몰핀 XR 리포솜 주사제), 데스모프레신 아세테이트 주사제(DDAVP 주사제), 데포-에스트라디올, 데포-프로베라 104 mg/ml, 데포-프로베라 150 mg/ml, 데포-테스토스테론, 주사용 덱스라족산, 정맥내 주사 전용(토텍트), 덱스트로스/전해질, 덱스트로스 및 염화나트륨 주사제(0.9% 염화나트륨 중의 덱스트로스 5%), 덱스트로스, 디아제팜 주사제(디아제팜 주사제), 디곡신 주사제(라녹신 주사제), 디라우디드-HP(하이드로몰폰 염산염 주사제), 디머카프롤 주사제(발 인 오일 앰플), 디펜하이드라민 주사제(베나드릴 주사제), 디피리다몰 주사제(디피리다몰 주사제), DMOAD, 주사용 도세탁셀(탁소텔), 돌라세트론 메실레이트 주사제(안제메트 주사제), 도리박스(주사용 도리페넴), 주사용 도리페넴(도리박스), 독세르칼시페롤 주사제(헥토롤 주사제), 독실(독소루비신 HCl 리포좀 주사제), 독소루비신 HCl 리포좀 주사제(독실), 둘라클론(클로니딘 주사제), 두라몰프(몰핀 주사제), 디스포트(아보보툴리눔톡신 A 주사제), 에칼란타이드 주사제(칼비토르), EC-나프로신(나프록센), 에데테이트 칼슘 이나트륨 주사제(칼슘 이나트륨 베세네이트), 에덱스(주사용 알프로스타딜), 엔제릭스, 에드로포늄 주사제(엔론), 엘리글루스타트 타르테이트, 엘록사틴(옥살리플라틴 주사제), 에멘드 주사제(포사프레피탄트 디메글루민 주사제), 에날라프릴라트 주사제(에날라프릴라트 주사제), 엔론(에드로포늄 주사제), 에녹사파린 나트륨 주사제(로베녹스), 에오비스트(가독세테이트 이나트륨 주사제), 엔브렐(에타네르셉트), 에녹사파린, 에피셀, 에피네페린, 에피펜, 에피펜 Jr., 에프라투주맙, 에르비툭스, 에르타페넴 주사제(인반즈), 에리트로포이에텐, 필수 아미노산 주사제(네프라민), 에스트라디올 시피오네이트, 에스트라디올 발레레이트, 에타네르셉트, 엑세나타이드 주사제(바이에타), 에볼트라, 파브라자임(아달시다제 베타), 파모티딘 주사제, FDG(플루데옥시글루코스 F 18 주사제), 페라헴(페루목시톨 주사제), 페리덱스 정맥내용(페루목시드 주사용 용액), 페르티넥스, 페루목시드 주사용 용액(페리덱스 정맥내용), 페루목시톨 주사제(페라헴), 플라길 주사제(메트로니다졸 주사제), 플루아릭스, 플루다라(플루다라빈 인산염), 플루데옥시글루코스 F18 주사제(FDG), 플루오레세인 주사제(Ak- Fluor), 폴리스팀(Follistim) AQ 카트리지(폴리트로핀(Follitropin) 베타 주사제), 폴리트로핀 알파 주사제(Gonal-f RFF), 폴리트로핀 베타 주사제(폴리스팀 AQ 카트리지), 폴로틴(Folotyn)(정맥 주사용 프랄라트렉세이트(Pralatrexate) 용액), 폰다파리눅스(Fondaparinux), 포르테오(Forteo)(테리파라타이드(Teriparatide)(rDNA 유래) 주사제) ), 포스타마티닙, 포사프레피탄트 디메글루민 주사제(에멘드 주사제), 포스카넷 나트륨 주사제(포스카비르), 포스카비르(포스카넷 나트륨 주사제), 포스페니토인 나트륨 주사제(세레빅스), 포스프로포폴 디소듐 주사제(루세드라), 프라그민, 푸제온(엔푸비르타이드), GA101, 가도베네이트 디메글루민 주사제(멀티핸스), 가도포스베세트 삼나트륨 주사제(아블라바), 가도테리돌 주사제 용액(프로한스), 가도베르세타마이드 주사제(옵티마크), 가독세테이트 디소듐 주사제(에오비스트), 가니렐릭스(가니렐릭스 아세트산 주사제), 가다실, GC1008, GDFD, 주사용 젬투주맙 오조가미신 (마일로타그), 제노트로핀, 겐타마이신 주사제, GENZ-112638, 골리무맙 주사제(심포니 주사제), 고날-f RFF(폴리트로핀 알파 주사제), 그라니세트론염산염(키트릴 주사제), 겐타마이신 황산염, 글라티라머 아세트산, 글루카겐, 글루카곤, HAE1, 할돌 (할로페리돌 주사제), 하브릭스, 헥토롤 주사제(독세르칼시페롤 주사제), 헤지호그 경로 억제제(Hedgehog Pathway Inhibitor), 헤파린, 허셉틴, hG-CSF, 휴마로그, 인간 성장 호르몬, 휴마트로프, 휴맥스, 휴메곤, 휴미라, 휴물린, 이반드로네이트 나트륨 주사제(보니바 주사제), 이부프로펜 라이신 주사제(네오프로펜), 이부틸리드 푸마르산염 주사제(Corvert), 이다마이신 PFS(이다루비신 염산염 주사제), 이다루비신 염산염 주사제(이다마이신 PFS), 일라리스(카나키누맙 주사제), 주사용 이미페넴 및 실라스타틴(프리맥스신 I.V.), 이미트렉스, 주사용 인코보툴리눔톡신 A(제오민), 인크렐렉스(메카세르민[rDNA 유래] 주사제), 인도신 IV(인도메타신 주사제), 인도메타신 주사제(인도신 IV), 인판릭스, 이노헵, 인슐린, 인슐린 아스파트[rDNA 유래]주사제(노보로그), 인슐린 글라진 rDNA 유래] 주사제(란투스), 인슐린 글루리신[rDNA 유래] 주사제(아피드라), 인터페론 알파-2b, 주사용 재조합형(인트론 A), 인트론 A(인터페론 알파-2b, 주사용 재조합형), 인반즈(에르타페넴 주사제), 인베가 서스테나(팔리페리돈 팔미테이트 서방성 주사 현탁액), 인비라제(사퀴나비르 메실레이트), 로벤구안1123 정맥용 주사제(AdreView), 이오프로마이드 주사제(울트라비스트), 이오베르솔 주사제(옵티레이 주사제), 아이플렉스(메카세르민 린파베이트[rDNA 유래] 주사제), 이프리바스크, 이리노테칸 염산염(캄프토사르 주사제), 철자당 주사제(베노퍼), 이스토닥스(주사용 로미뎁신), 이트라코나졸 주사제(스포라녹스 주사제), 제브타나(카바지탁셀 주사제), 조넥사, 칼비토르(에칼란타이드 주사제), KCL in D5NS (5% 포도당 및 염화나트륨 주자제의 염화칼륨), KCL in D5W, KCL in NS, 케나로그 10 주사제(트리암시놀론 아세토나이드 주사용 현탁액), 케피반스(팔리퍼민), 케프라 주사제(레베티라세탐), 케라티노사이트, KFG, 키나제 억제제, 키네레트 (아나킨라), 킨리틱(유로키나제 주사제), 킨릭스, 클로노핀(클로나제팜), 키트릴 주사제(그라니세트론 염산염), 라코사미드정 및 주사제(빔팟), 젖산링거, 라녹신 주사제(디곡신 주사제), 주사용 란소프라졸(프리바시드 I.V.), 란투스, 류코보린 칼슘(류코보린 칼슘 주사제), 렌테(L), 렙틴, 레베미르, 류카인 사르그라모스팀, 류프롤리드 아세테이트, 레보티록신, 레베티라세탐(케프라 주사제), 로베녹스, 레보카르니틴 주사제(카니터 주사제), 렉시스칸(레가데노손 주사제), 리오레살척수강내 (바클로펜 주사제), 리라글루타이드[rDNA] 주사제(빅토자), 로베녹스(에녹사파린 나트륨 주사제), 루센티스(라니비주맙 주사제), 루미자임, 루프론(류프롤리드 아세테이트 주사제), 루세드라(포스프로포폴 디나트륨 주사제), 마시, 황산마그네슘(황산마그네슘 주사제), 만니톨 주사제(만니톨 IV), 마르카인(부피바카인 염산염 및 에피네프린 주사제), 막시핌(주사용 세페핌 염산염), 테크네티움 주사제(테크네티움 Tc99m 메드로네이트 주사제)의 MDP 다회투여키트, 메카세르민[rDNA 유래]주사제(인크렐렉스), 메카세르민 린파베이트[rDNA 유래] 주사제(아이플렉스), 멜팔란 Hcl 주사제(알케란 주사제), 메토트렉세이트, 메낙트라, 메노퍼(Menopur)(메노트로핀 주사제), 주사용 메노트로핀(레프로넥스), 주사용 메토헥시탈 소듐(브레바이탈 소듐), 메틸도페이트 염산염 주사제, 액제 (메틸도페이트 Hcl), 메틸렌 블루(메틸렌 블루 주사제), 메틸프레드니솔론 아세테이트 주사 현탁액(데포 메드롤), MetMab, 메토클로프라미드 주사제(레글란 주사제), 메트로딘(주사용 유로폴리트로핀), 메트로니다졸 주사제(플라길 주사제), 미아칼신, 미다졸람(미다졸람 주사제), 밈파라(시나칼렛), 미노신 주사제(미노사이클린 주사제), 미노사이클린 주사제(미노신 주사제), 미포메르센, 주사용 미토산트론 농축액(노반트론), 모르핀 주사제(듀라모르프), 모르핀 황산염 XR 리포좀 주사제(데포두르), 모르후에이트나트륨( 모르후에이트나트륨 주사제), 모테사닙, 모조빌(플레릭사포 주사제), 멀티핸스(가도베네이트 디메글루민 주사제), 다중 전해질 및 포도당 주사제, 다중 전해질 주사제, 마일로타르그(주사용 젬투주맙 오조가마이신), 미오자임(알글루코시다제 알파), 나프실린 주사제(나프실린 소듐), 나프실린소듐(나프실린주), 날트렉손엑스알주(비비트롤), 나프로신(나프록센), 네오프로펜(이부프로펜라이신주), 난드롤데카노에이트, 네오스티그민메틸황산염(네오스티그민메틸황산염주), NEO-GAA, NeoTect(테크네티움Tc 99m 디프레오타이드주), 네프라민(필수아미노산주사제), 뉴라스타(페그필그라스팀), 뉴포젠(필그라스팀), 노볼린, 노보로그, 네오레코르몬, 뉴트렉신(트리메트렉세이트글루쿠로네이트주), NPH(N), 넥스테론(아미오다론염산주사제), 노르디트로핀(소마트로핀주사제), 일반 식염수(염화나트륨 주사제), 노바트론(주사용 미톡산트론 농축액), Novolin 70/30 Innolet(70% NPH, 인간 인슐린 이소판 현탁액 및 30% 일반, 인간 인슐린 주사제), 노로로그(인슐린 아스파트[rDNA 유래] 주사제), Nplate(로미플로스팀), 뉴르로핀(주사용 소마트로핀(rDNA 유래)), 뉴트로핀 AQ, 뉴트로핀 Depot(주사용 소마트로핀(rDNA 유래)), 옥트레오타이드 아세테이트 주사제(산도스타틴 LAR), 오크레리주맙, 오파투무맙 주사제(아르제라), 올란자핀 서방성 주사 현탁액(자이프렉사 렐프레브), 옴니타르그, 옴니트로프(소마트로핀[rDNA 유래]주), 온단세트론 염산염 주사제(조프란 주사제), 옵티마크(가도베르세타미드 주사제), 옵티레이 주사제(이오버솔 주사제), 오렌시아, Aviva 내 오스미트롤 주사제(Aviva 플라스틱 용기 250 내 만니톨 주사에), 비아플렉스 내 오스미트롤 주사제(비아플렉스 플라스틱 용기 250 내 만니톨 주사제), 오스테오프로테그린, 오비드렐(초리오고나도트로핀 알파 주사제), 옥사실린(주사용 옥사실린), 옥살리플라틴 주사제(엘록사틴), 옥시토신 주사제(피토신), 팔리페리돈 팔미테이트 서방성 주사 현탁액(인베가 서스테나), 파미드로네이트 디소듐 주사제(팜 이드로네이트 디나트륨 주사제), 파니투무맙 정맥 주사제(벡티빅스), 파파베린 염산염 주사제(파파베린 주사제), 파파베린 주사제(파파베린 염산염 주사제), 부갑상선호르몬, 파리칼시톨 주사제 플립탑 바이알(젬플러 주사제), PARP 억제제, 페디아릭스, PEGlntron, 페그인터페론, 페그필그라스팀, 페니실린 G 벤자틴 및 페니실린 G 프로카인, 펜테테이트 칼슘 삼나트륨 주사제(Ca-DTPA), 펜테테이트 아연 삼나트륨 주사제(Zn-DTPA), 펩시드 주사제(파모티딘 주사제), 페르고날, 페르투주맙, 펜톨라민 메실레이트(주사용 펜톨라민 메실레이트), 피소스티그민 살리실레이트(피소스티그민 살리실레이트(주사제)), 피소스티그민 살리실레이트(주사제)(피소스티그민 살리실레이트), 피페라실린 및 타조박탐 주사제(조신), 피토신(옥시토신 주사제), Plasma-Lyte 148(다중 전해질 주사제), Plasma-Lyte 56 및 포도당(Viaflex 플라스틱 용기 250 내 다중 전해질 및 포도당 주사제), 플라즈마라이트, 플레릭사포 주사제(모조빌), 폴리도카놀 주사제(아스클레라), 염화칼륨, 정맥 주사용 프랄라트렉세이트 용액(폴로틴), 프램린티드 아세테이트 주사제(Symlin), 프레마린 주사제(주사용 공액 에스트로겐(Conjugated Estrogens for Injection)), 주사용 테크네튬 Tc99 세스타미비용 준비 키트(Cardiolite), 프리바시드 정맥주사(주사용 란소프라졸), 프리막신 정맥주사(주사용 이미페넴 및 실라스타틴), 프로키말, 프로크리트, 프로게스테론, 프로한스(가도테리돌 주사 용액), 프롤리아(데노수맙 주사제), 프로메타진 HCl 주사제(프로메타진 염산염 주사제), 프로프라놀롤 염산염 주사제(프로프라놀롤 염산염 주사제), 퀴니딘 글루코네이트 주사제(퀴니딘 주사제), 퀴니딘 주사제(퀴니딘 글루코네이트 주사제), R-진 10(아르기닌 염산염 주사제), 라니비주맙 주사제(루센티스), 라니티딘 염산염 주사제(잔탁 주사제), 랍티바, 레클라스트(졸레드론산 주사제), 레콤비바릭스 HB, 레가데노손 주사제(렉시스칸), 레글란 주사제(메토클로프라미드 주사제), 레미케이드, 레나겔, 렌벨라(세벨라메르 카보네이트), 레프로넥스(주사용 메노트로핀), 레트로버 정맥내용(지도부딘 주사제), rhApo2L/TRAIL, 링거 및 5% 덱스트로스 주사제(덱스트로스 중의 링거), 링거 주사제(링거 주사제), 리툭산, 리툭시맙, 로세핀(세프트리악손), 로쿠로늄 브로마이드 주사제(제무론), 로페론-A(인터페론 알파-2a), 로마지콘(플루마제닐), 주사용 로미뎁신(이스토닥스), 사이젠(소마트로핀 주사제), 산도스타틴 LAR(옥트레오티드 아세테이트 주사제), 스컬로스틴 Ab, 센시파르(시나칼세트), 센소르카인(부피바카인 HCl 주사제), 셉토카인(아티카인 HCl 및 에피네프린 주사제), 세로스팀 LQ(소마트로핀(rDNA 근원) 주사제), 심포니 주사제(골리무맙 주사제), 아세트산나트륨(아세트산나트륨 주사제), 중탄산나트륨(중탄산나트륨 5% 주사제), 락트산나트륨(아비바 중의 락트산나트륨 주사제), 페닐아세트산나트륨 및 벤조산나트륨 주사제(암모눌), 주사용 소마트로핀(rDNA 근원)(뉴트로핀), 스포라녹스 주사제(이트라코나졸 주사제), 스텔라라 주사제(유스테키누맙), 스템겐, 수펜타(수펜타닐 시트레이트 주사제), 수펜타닐 시트레이트 주사제(수펜타), 수마벨, 수마트립탄 주사제(알수마), 심린, 심린 펜, 전신 헤지호그 길항제, 신비스크-원(하일란 G-F 20 단일 관절내 주사제), 타르세바, 탁소테레(주사용 도세탁셀), 테크네튬 Tc 99m, 주사용 텔라반신(비바티브), 템시롤리무스 주사제(토리셀), 테노르민 정맥내 주사제(아테놀롤 주사제), 테리파라티드(rDNA 근원) 주사제(포르테오), 테스토스테론 시피오네이트, 테스토스테론 에난테이트, 테스토스테론 프로피오네이트, 테브-트로핀(소마트로핀, rDNA 근원, 주사용) tgAAC94, 염화탈로우스, 테오필린, 티오테파(티오테파 주사제), 티모글로불린(항-티모사이트 글로불린(토끼)), 티로겐(주사용 티로트로핀 알파), 티카르실린 이나트륨 및 크라불라네이트 칼륨 갤럭시(티멘틴 주사제), 티간 주사제(주사용 트리메토벤즈아미드 염산염), 티멘틴 주사제(티카르실린 이나트륨 및 클라불라네이트 칼륨 갤럭시), TNK아제, 토브라마이신 주사제(토브라마이신 주사제), 토실리주맙 주사제(악템라), 토리셀(템시롤리무스 주사제), 토텍트(주사용 덱스라족산, 정맥내 주사 전용), 트라스투주맙-DM1, 트라바솔(아미노산(주사제)), 트레안다(벤다무스틴 염산염 주사제), 트렐스타르(주사용 현탁액용 트립토렐린 파모에이트), 트리암시놀론 아세토나이드, 트리암시놀론 디아세테이트, 트리암시놀론 헥사세토니드 주사용 현탁액(아리스토스판 주사제 20 mg), 트리에센스(트리암시놀론 아세토니드 주사용 현탁액), 주사용 트리메토벤즈아미드 염산염(티간 주사제), 트리메트렉세이트 글루쿠로네이트 주사제(뉴트렉신), 주사용 현탁액용 트립토렐린 파모에이트(트렐스타), 트윈젝트, 트리바리스(트리암시놀론 아세토니드 주사용 현탁액), 트리세녹스(삼산화비소 주사제), 트윈릭스, 팁호이드 Vi, 울트라비스트(이오프로마이드 주사제), 주사용 유로폴리트로핀(메트로딘), 유로키나아제 주사제(킨리틱), 유스테키누맙(스텔라라 주사제) 울트라렌트(U), 발륨(디아제팜), 발프로네이트 나트륨 주사제(데파콘), 발트로핀(소마트로핀 주사제), 반코마이신 염산염(반코마이신 염산염 주사제), 반코마이신 염산염 주사제(반코마이신 염산염), 바프리솔(코니밥탄 HCl 주사제) VAQTA, 바소비스트(정맥내용 가도포스베세트 삼나트륨 주사제), 벡티빅스(정맥내용 파니투무맙 주사제), 베노페르(철 수크로스 주사제), 베르네포르핀 주사제(비수다인), 비바티브(주사용 텔라반신), 빅토자(리라글루타이드[rDNA] 주사제), 빔파트(라코사미드 정제 및 주사제), 빈블라스틴 황산염(빈블라스틴 황산염 주사제), 빈카사르 PFS(빈크리스틴 황산염 주사제), 빅토자, 빈크리스틴 황산염(빈크리스틴 황산염 주사제), 비수다인(베르테포르핀 주사제), 비타민 B-12, 비비트롤(날트렉손 XR 주사제), 볼루벤(염화나트륨 주사제 중의 하이드록시에틸 전분), 젤로다, 제니칼(오를리스타트), 제오민(주사용 인코보툴리늄톡신 A), 졸레어, 잔탁 주사제(라니티딘 염산염 주사제), 젬플라 주사제(파리칼시톨 주사제 플립톱 바이알), 제무론(로쿠로늄 브로마이드 주사제), 제나팍스(다클리주맙), 제발린, 지도부딘 주사제(레트로버 정맥내용), 지트로막스 주사제(아지트로마이신), Zn-DTPA(펜테테이트 아연 삼나트륨 주사제), 조프란 주사제(온단세트론 염산염 주사제), 징고, 주사용 졸레드론산(조메타), 졸레드론산 주사제(레클라스트), 조메타(주사용 졸레드론산), 조신(피페라실린 및 타조박탐 주사제), 지프렉사 렐프레브(올란자핀 서방형 주사용 현탁액) 및 이들의 조합이 있다.

주의

본 출원의 발명을 포괄적으로 그리고 특정 실시예에 관련하여 위에서 설명하였다. 본 개시 내용의 범위로부터 벗어나는 일 없이 본 실시형태에서 다양한 수정 및 변형이 이루어질 수 있음은 당업자에게 명백할 것이다. 이에 따라, 실시형태들은 첨부된 청구범위 및 그 균등물의 범위 내에 있다면 본 발명의 수정 및 변형을 포괄하도록 의도되어 있다.

Claims (33)

1. 리브의 형성 이후에 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 밀봉면을 구비하는 스토퍼의 리브 기하학적 구조를 리폼하는 방법으로서, 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계를 포함하는 방법.
2. 제1항에 있어서, 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는 상기 리브의 제1 에지에 홈을 형성하는 것을 포함하는 것인 방법.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 단계는 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 리플로우, 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 절단, 및 상기 리브의 제1 에지에서의 재료 제거 중의 적어도 하나를 포함하는 것인 방법.
4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브의 제1 에지의 반대편에 있는 리브의 제2 에지를 리폼하는 단계를 더 포함하는 방법.
5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼는 엘라스토머 본체와, 상기 엘라스토머 본체에 결합된 다층 배리어를 포함하고, 상기 다층 배리어는 제1 층과 제2 층을 포함하는 것이며, 상기 방법은 에너지원으로 상기 스토퍼의 다층 배리어의 제1 층을 활성화하여 상기 리브의 제1 에지를 리폼하는 것을 더 포함하는 것인 방법.
6. 제5항에 있어서, 상기 제1 층은 상기 엘라스토머 본체를 향해 배향되고, 상기 제2 층은 상기 엘라스토머 본체로부터 멀어지는 방향으로 배향되는 것인 방법.
7. 제5항 또는 제6항에 있어서, 상기 리브는, 상기 다층 배리어를 상기 엘라스토머 본체에 커플링하기 전에 리폼되는 것인 방법.
8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브를 리폼하는 것은, 상기 리브의 굽힘 특성을 변경하는 것을 포함하는 것인 방법.
9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브를 리폼하는 것은, 상기 리브의 크라운을 평탄화하는 것을 포함하는 것인 방법.
10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브는 마이크로 리브인 것인 방법.
11. 제1항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브는 매크로 리브인 것인 방법.
12. 리브의 형성 이후에 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하는 스토퍼의 리브를 리폼하는 방법으로서:
    상기 리브의 제1 측면을 리폼하는 단계; 및
    상기 리브의 제1 측면의 반대편에 있는 리브의 제2 측면을 리폼하는 단계;
    를 포함하고, 상기 리브의 제1 및 제2 측면은, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브가 리폼 이전의 리브보다 더 큰 굽힘 유연성을 갖도록 리폼되는 것인 방법.
13. 제12항에 있어서, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성하고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 좁은 크라운을 형성하는 것인 방법.
14. 제12항 또는 제13항에 있어서, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성하고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 평평한 크라운을 형성하는 것인 방법.
15. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브는 매크로 리브인 것인 방법.
16. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브는 마이크로 리브인 것인 방법.
17. 제12항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스토퍼는 배럴에 수용되고, 상기 리브의 제1 및 제2 측면을 리폼하는 것은, 에너지를 배럴을 통해 스토퍼에 지향시키는 것을 포함하는 것인 방법.
18. 리브의 형성 이후에 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하는 스토퍼의 리브를 리폼하는 방법으로서:
    상기 리브의 제1 측면을 리폼하는 단계; 및
    상기 리브의 제1 측면의 반대편에 있는 리브의 제2 측면을 리폼하는 단계;
    를 포함하고, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성하고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 좁은 크라운을 형성하는 것인 방법.
19. 제18항에 있어서, 리폼 이전의 상기 리브는 초기 크라운을 형성하고, 결과적으로 얻어지는 리폼된 리브는 상기 초기 크라운보다 상대적으로 더 평평한 크라운을 형성하는 것인 방법.
20. 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 리브는 마이크로 리브인 것인 방법.
21. 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 와이퍼 요소를 형성하는 배리어가 본체에 커플링되어 있는 밀봉면을 구비하는 스토퍼를 형성하는 방법으로서, 배리어에 형성된 포켓으로부터 돌출되는 가요성 본체를 갖는 융기 돌출부를 형성하도록 배리어에 제1 보이드 및 제2 보이드를 형성하는 단계를 포함하고, 상기 융기 돌출부는, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 것인 방법.
22. 주입기 장치의 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 와이퍼 요소를 형성하는 배리어가 본체에 커플링되어 있는 밀봉면을 구비하는 스토퍼를 형성하는 방법으로서, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 융기 돌출부를 형성하도록, 배리어에 복수 개의 슬릿을 형성하는 단계를 포함하는 방법.
23. 제21항 또는 제22항에 있어서, 상기 융기 돌출부는, 상기 배럴 내에서 상기 스토퍼가 미끄럼 이동하는 동안, 상기 융기 돌출부가 편향될 때, 배럴과의 활주 저항의 감소를 야기하도록 구성되는 것인 방법.
24. 제21항 내지 제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 배리어는 플루오로폴리머, 선택적으로 PTFE 또는 ePTFE로 형성되는 것인 방법.
25. 제21항 내지 제24항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스윕각은 15도보다 큰 것인 방법.
26. 제21항 내지 제25항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스윕각은 45도보다 큰 것인 방법.
27. 제21항 내지 제26항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스윕각은 60도보다 큰 것인 방법.
28. 주입기 장치에 사용하기 위한 스토퍼로서, 상기 스토퍼는 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하고, 상기 스토퍼는:
    엘라스토머 본체; 및
    상기 엘라스토머 본체에 커플링된 배리어
    를 포함하고, 상기 배리어는 가요성 본체를 구비하는 융기 돌출부를 포함하며, 상기 가요성 본체는 가요성 본체의 제1 측면 상의 제1 보이드 및 가요성 본체의 제2 측면 상의 제2 보이드에 의해 형성된 포켓으로부터 연장되고, 상기 융기 돌출부는, 상기 스토퍼가 상기 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 것인 스토퍼.
29. 주입기 장치에 사용하기 위한 스토퍼로서, 상기 스토퍼는 배럴의 내부 보어와 맞물리도록 구성된 외측면을 구비하고, 상기 스토퍼는:
    엘라스토머 본체; 및
    상기 엘라스토머 본체에 커플링된 배리어
    를 포함하고, 상기 배리어는, 스토퍼가 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 스윕각에 걸쳐 구부러지도록 구성되는 융기 돌출부를 형성하도록, 배리어에 복수 개의 슬릿을 구비하는 것인 스토퍼.
30. 제28항 또는 제29항에 있어서, 상기 융기 돌출부는, 상기 배럴 내에서 상기 스토퍼가 미끄럼 이동하는 동안, 상기 융기 돌출부가 편향될 때, 배럴과의 활주 저항의 감소를 야기하도록 구성되는 것인 스토퍼.
31. 제28항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 배리어는 플루오로폴리머, 선택적으로 PTFE 또는 ePTFE로 형성되는 것인 스토퍼.
32. 제28항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 스윕각은 15도보다 크거나, 45보다 크거나, 또는 60도보다 큰 것인 스토퍼.
33. 제28항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 융기 돌출부는, 상기 스토퍼가 상기 배럴 내에서 제1 방향으로 미끄럼 이동될 때, 하나 이상의 융기 돌출부가 상기 스윕각을 따라 편향되어, 상기 스토퍼와 상기 배럴 사이의 활주 저항이 감소되도록 구성되는 것인 스토퍼.

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