KR20240030980A - 공정장비용 제습 유닛 - Google Patents

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KR20240030980A
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남승백
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Abstract

본 발명의 공정장비용 제습 유닛은, 하우징; 상기 하우징에 설치되며 처리영역과 재생영역으로 구분하여 습기를 제거하는 로터 모듈; 상기 로터 모듈로 처리공기를 압송하거나 재생공기를 하우징의 외부로 배출하는 팬 모듈; 및 재생영역에 설치되는 재생히터;를 포함하되,
상기 하우징에는 가로 격벽이 설치되며, 상기 가로 격벽에 의해 상기 하우징은 상기 로터 모듈이 설치되는 로터 챔버와 상기 팬 모듈이 설치되는 모터 챔버로 구분되고, 상기 로터 모듈은 상기 로터 챔버에 길이방향에 대해 경사지게 배치된 것을 특징으로 한다.
이에 따라, 로터 모듈을 하우징 내부에 사선으로 배치하여 제습 유닛 전체의 폭과 부피를 줄여주어 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)에도 설치할 수 있는 효과를 제공한다.

Description

공정장비용 제습 유닛{Process equipment dehumidification unit}
본 발명은 공정장비용 제습 유닛에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간에도 설치할 수 있는 공정장비용 제습 유닛에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 전공정(FAB 공정)은 반도체의 고집적도를 위해 미세먼지의 제어는 물론 Gas chemical의 제어와 온도·습도의 정밀 제어를 요구하고 있다.
이를 위해 반도체 전공정에는 외부환경을 차단하여 청정도를 유지할 수 있는 클린룸(Clean Room; CR)이 적용된다.
이러한 클린룸이란 생산 공정에서 중대한 방해를 초래하는 공기 중의 부유 입자(particle)를 제거하기 위한 것으로서, 공기 중의 부유하는 입자뿐만 아니라 온도, 습도, 공기압, 정전기 제어 등이 환경적으로 제어되는 밀폐된 공간이다.
도 1 은 종래 클린룸 구조를 보여주는 도면으로서, 클린룸(1)의 천장을 이루는 시링 플로어(2; ceiling floor)에는 팬 필터 유닛(4; Fan Filter Unit)이 설치되어 있고, 바닥은 기초 구조물 바닥면(8)인 베이스로부터 들어 올려진 위치에 액세스 플로어(6)가 설치된 구조로 형성된다. 이때, 액세스 플로어(6)는 빔 구조물(9) 상부에 설치된다.
이러한 클린룸(1) 내의 기류 흐름을 살펴보면, 팬 필터 유닛(4)으로부터 클린룸(1) 내부로 공기가 송풍된 후 액세스 플로어(6)의 구멍을 통해 액세스 플로어(6)와 기초 구조물 바닥면(8)사이의 하부 공간(10)으로 배출되며, 이 공기는 클린룸 벽과 구조물 벽체 사이의 측면 공간(12)을 거쳐 시링 플로어(2) 상부의 상부 공간(14)으로 순환된 후 다시 팬 필터 유닛(4)으로 보내지는 순환 흐름을 이룬다.
한편, 클린룸(1) 내부에는 다수의 반도체 공정장비가 설치되어 있다. 예컨대 액정표시장치의 기판 처리를 위해서 박막 증착 공정, 식각 공정, 포코리소그래피 공정 및 건조 공정 세정 공정 등이 행해진다. 이를 위해 클린룸(1)의 액세스 플로어(6) 상에는 다수의 작업 챔버(5; 클린 부스, 드라이 룸)들이 마련되어 있고, 그 내부에 각종 공정장비 예컨대 OVEN 장비, 로봇 장비 등이 설치된다.
이러한 작업 챔버(5)의 상부에는 팬 필터 유닛(7)을 설치되어 작업 챔버(5) 내부의 공기 청정도가 유지될 수 있도록 구성된다.
이러한 종래의 작업 챔버의 경우 클린룸의 공기(23 deg.C/ 45% RH)를 그대로 사용하고 있다.
이 경우 작업 챔버 내부의 습도조건이 다른 경우가 발생하며 별도의 제습 유닛을 설치하는 방안을 고려한다. 예를 들어, 45% RH의 습도조건을 10% RH(웨이퍼(wafer)의 산화가 발생하지 않는 습도 조건) 이하로 유지하기 위해 공간이 협소한 작업 챔버 내부에 제습 유닛을 설치하여 클린룸의 공기로부터 습기를 제거하고 습기가 제거된 공기를 작업 챔버 내부로 공급하는 방안을 생각해볼 수 있다.
그러나, 반도체 전공정이 설치된 클린룸은 공간이 매우 협소하여 장비의 설치 및 유지 보수 등에 어려움이 많으며, 이유는 반도체 전공정이 설치된 클린룸이라는 한정적인 공간에 장비의 설치와 증설이 빈번하고 레이아웃의 변동도 자주 있기 때문이다. 즉 제습 유닛의 추가 설치는 매우 어려운 작업이고 불가한 경우가 대부분이다. 특히 로터 타입 제습 유닛의 경우 로터의 크기와 부피로 인해 설치 요건이 더욱 까다롭다.
따라서, 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간에도 설치할 수 있도록 개선된 형태의 공정장비용 제습 유닛의 개발이 요구되고 있는 실정이다.
등록특허공보 제1744953호호(2017.06.01. 등록)
본 발명은 전술한 종래의 제반 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로, 본 발명의 목적은 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간에도 설치할 수 있도록 부피를 크게 줄인 공정장비용 제습 유닛을 제공하는 데 있다.
본 발명의 다른 목적은 습도 조절과 함께 파티클의 유입을 차단할 수 있는 공정장비용 제습 유닛을 제공하는 데 있다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 공정장비용 제습 유닛은, 하우징; 상기 하우징에 설치되며 처리영역과 재생영역으로 구분하여 습기를 제거하는 로터 모듈; 상기 로터 모듈로 처리공기를 압송하거나 재생공기를 하우징의 외부로 배출하는 팬 모듈; 및 재생영역에 설치되는 재생히터;를 포함하되,
상기 하우징에는 가로 격벽이 설치되며, 상기 가로 격벽에 의해 상기 하우징은 상기 로터 모듈이 설치되는 로터 챔버와 상기 팬 모듈이 설치되는 모터 챔버로 구분되고, 상기 로터 모듈은 상기 로터 챔버에 길이방향에 대해 경사지게 배치된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 로터 모듈에 설치되며 재생영역을 구분하는 재생 덕트가 더 구비된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 재생 덕트는 하우징과 로터 모듈의 일면 사이에 설치된 제1재생 덕트와, 상기 제1재생 덕트와 대면하는 위치인 상기 로터 모듈의 타면에 설치되는 제2재생 덕트로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제1재생 덕트는, 상기 로터 모듈의 경사면과 하우징 사이에 배치된 한 쌍의 측면 경사판과, 상기 측면 경사판을 연결하며 상기 하우징과 로터 모듈의 사이에 배치된 배면판으로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제2재생 덕트는, 상기 로터 모듈의 경사면에 배치된 한 쌍의 측면 경사판과, 한 쌍의 상기 측면 경사판의 중 상기 로터 모듈과 대면하지 않는 부분을 연결하는 저면판으로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 가로 격벽에는 상기 제2재생 덕트와 모터 챔버를 연통하는 배출구와, 상기 모터 챔버와 로터 챔버의 처리영역을 연통하는 유입구가 형성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 모터 챔버에는 세로 격벽이 설치되며, 상기 세로 격벽에 의해 상기 모터 챔버는 처리 모터 챔버와 재생 모터 챔버로 구분된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 팬 모듈은, 상기 처리 모터 챔버에 설치되는 처리팬과, 상기 재생 모터 챔버에 설치되는 재생팬과, 상기 처리팬과 재생팬을 구동시키는 모터로 구성된 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 로터 모듈에서 습도가 낮아진 처리공기를 공정장비로 전달하며 파티클을 제거하는 팬 필터 유닛이 더 구비된 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛에 따르면. 로터 모듈을 하우징 내부에 사선으로 배치하여 제습 유닛 전체의 폭과 부피를 줄여주어 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)에도 설치할 수 있는 효과를 제공한다.
또한, 제습 유닛에 팬 필터 유닛을 추가하여 습도 조절과 함께 파티클의 유입을 차단할 수 있다.
본 개시의 기술적 사상에 따른 효과들은 이상에서 언급한 효과들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 효과들은 아래의 기재로부터 통상의 기술자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
도 1은 종래의 클린룸 구조를 도시한 개략도이다.
도 2는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 도시한 사시도이다.
도 3은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 하우징 커버를 분해 도시한 사시도이다.
도 4는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 팬 모듈을 분해 도시한 사시도이다.
도 5 내지 도 6은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 하우징을 제외한 구성을 도시한 사시도이다.
도 7은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 팬 챔버와 로터 챔버를 나누는 종격벽과 팬 챔버를 나누는 횡격벽을 분해 도시한 사시도이다.
도 8은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 도시한 측면도이다.
도 9는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 FAB 공정의 공정장비가 설치된 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)에 적용한 상태를 도시한 예시도이다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 게시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 게시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
다른 정의가 없다면, 본 명세서에서 사용되는 모든 용어(기술 및 과학적 용어를 포함)는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 공통적으로 이해될 수 있는 의미로 사용될 수 있을 것이다. 또 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 용어들은 명백하게 특별히 정의되어 있지 않는 한 이상적으로 또는 과도하게 해석되지 않는다.
또한, 본 명세서에서 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함될 수 있다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다.
도 2는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 도시한 사시도이고, 도 3은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 하우징 커버를 분해 도시한 사시도이며, 도 4는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 팬 모듈을 분해 도시한 사시도이고, 도 5 내지 도 6은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 하우징을 제외한 구성을 도시한 사시도이며, 도 7은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛의 팬 챔버와 로터 챔버를 나누는 종격벽과 팬 챔버를 나누는 횡격벽을 분해 도시한 사시도이고, 도 8은 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 도시한 측면도이며, 도 9는 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛을 FAB 공정의 공정장비가 설치된 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)에 적용한 상태를 도시한 예시도이다.
도 2 내지 도 9에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 공정장비용 제습 유닛(A)은, 외관을 형성하며 내부로 본 발명의 구성 요소가 실장되는 하우징(100)과, 상기 하우징(100)에 설치되며 처리영역(200a)과 재생영역(200b)으로 구분되어 습기를 제거하는 로터 모듈(200)과, 상기 로터 모듈(200)로 처리공기를 압송하거나 재생공기를 상기 하우징(100)의 외부로 배출하는 팬 모듈(300) 및 재생영역(100b)에 설치되는 재생히터(500)로 구성된다.
먼저, 도 2 내지 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 하우징(100)은 골격을 형성하는 프레임(110)과, 상기 프레임(110)의 개방된 6면을 마감하는 플레이트(120)로 구성된다.
또한, 도 3에 도시한 바와 같이, 상기 플레이트(120)는 정면 플레이트(121), 배면 플레이트(122), 좌측면 플레이트(123), 우측면 플레이트(124), 평면 플레이트(125), 저면 플레이트(126)로 구성된다.
그리고, 정면 플레이트(121)에는 처리공기가 유입되는 처리공기 입구(121a)와 재생공기가 배출되는 재생공기 출구(121b)가 각각 형성된다. 상기 처리공기 입구(121a)는 클린룸에 연결되며, 재생공기 출구(121b)는 클린룸의 외부와 연결된다.
한편, 상기 평면 플레이트(125)에는 재생공기가 유입되는 재생공기 입구(125a)와 습기가 제거된 처리공기가 배출되는 처리공기 출구(125b)가 각각 형성된다.
다만, 상기 재생공기 입구(125a)는 재생공기를 재생영역으로 공급할 수 있는 위치라면 다른 위치(6면 플레이트 중 하나)로 변경 가능하다. 더욱이, 상기 처리공기 출구(125b)도 공정장비로 처리공기를 보낼 수 있다면 다른 위치(6면 플레이트 중 하나)로 변경 가능하다.
또한, 도 4와 같이 상기 하우징(100)에는 가로 격벽(130)이 설치되며, 상기 가로 격벽(130)에 의해 상기 하우징(100)은 상기 로터 모듈(200)이 설치되는 로터 챔버(140)와 상기 팬 모듈(300)이 설치되는 모터 챔버(150)로 구분된다.
그리고, 도 4와 같이 상기 로터 모듈(200)은 로터 케이스(210)와, 상기 로터 케이스(210)의 내부에서 회전하도록 설치되는 원형의 로터(220) 및 상기 로터(220)를 구동시키는 로터 모터(230)로 구성된다.
한편, 상기 로터(220)는 처리공기 중 수분을 흡수할 수 있는 제습 물질인 silica gel 또는 zoeolite가 포함된다. 이에 따라, 처리공기가 상기 로터(220)를 지나며 습도가 낮아진다.
또한, 도4 또는 도 8과 같이 상기 로터 모듈(200)은 상기 로터 챔버(140)의 길이방향에 대해 경사지게 사선으로 배치된다.
이에 따라, 상기 로터 모듈(200)을 하우징(100)의 내부에 사선으로 배치하여 본 발명의 제습 유닛(A)의 부피를 크게 줄여주게 된다. 로터 타입 특성상 길이방향 배치가 일반적이며, 로터 타입 폭을 줄여줄 수 있는 최선의 방법이 사선(경사)으로 배치하는 것이다.
이때, 상기 로터 모듈(200)은 로터 챔버(140)를 대각선으로 구분하는 격벽의 역할도 동시에 수행한다. 즉 처리공기가 로터 챔버(140)로 유입 후 로터(220)를 반드시 지나며 제습이 이루어지도록 구성된다.
다만, 상기 로터 모듈(200)을 사선으로 배치함에 따라 재생공기와 처리공기의 유로를 분리하는 구성이 반드시 필요하다. 특히 로터 모듈(200)의 경사면(평면, 저면)과 하우징(100)의 사이를 연결하여 유로를 분리한다. 또한, 부피를 줄이기 위해 하우징(100)의 내측에서 유로를 형성하고 분리하여야 한다.
구체적으로, 상기 로터 모듈(200)에 설치되며 재생영역(200b)과 처리영역(200a)을 구분하는 재생 덕트(400)가 더 구비된다.
이러한 상기 재생덕트(400)에 의해 재생공기와 처리공기의 유로를 정확하게 분리하여 구분한다.
그리고, 도 5 내지 도 7과 같이 상기 재생 덕트(400)는 하우징(100)과 로터 모듈(200)의 상면 사이에 설치된 제1재생 덕트(410)와, 상기 제1재생 덕트(410)와 대면하는 위치인 상기 로터 모듈(200)의 하면에 설치되는 제2재생 덕트(420)로 구성된다. 이때, 제1재생 덕트(410)에 상기 재생 히터(500)가 설치된다.
즉, 상기 제1재생 덕트(410)로 재생공기가 유입된 후 로터 모듈(200)을 통과 후 제2 재생 덕트(420)를 통해 이동한다.
한편, 상기 제1재생 덕트(410)는, 상기 로터 모듈(200)의 경사면(상면)과 하우징(100) 사이에 배치된 한 쌍의 측면 경사판(411)과, 상기 측면 경사판(411)을 연결하며 상기 하우징(100)과 로터 모듈(200)의 사이에 배치된 배면판(412)으로 구성된다.
이때, 도 8에 도시한 바와 같이, 상기 측면 경사판(411)의 상단은 하우징의 내면과 수평하게 형성되어 밀착되며, 상기 측면 경사판(411)의 하단은 상단과 예각을 이루며 로터 모듈(200)의 경사면(상면)과 수평하게 형성되며 밀착된다.
또한, 상기 제2재생 덕트(420)는, 상기 로터 모듈(200)의 경사면(하면)에 배치된 한 쌍의 측면 경사판(421)과, 한 쌍의 상기 측면 경사판(421)의 상기 로터 모듈과 대면하지 않는 하단을 연결하는 저면판(422)로 구성된다.
이때, 도 8에 도시한 바와 같이, 상기 측면 경사판(421)의 하단은 하우징(100)의 내면과 수평하며 이격되게 형성되며, 측면 경사만의 상단은 하단과 예각을 이루며 로터 모듈(200)의 경사면(하면)과 수평하게 형성되어 밀착된다.
그리고, 도 7과 같이 상기 가로 격벽(130)에는 상기 제2재생 덕트(420)와 모터 챔버(150)를 연통하는 배출구(131)와, 상기 모터 챔버(150)와 로터 챔버(140)의 처리영역을 연통하는 유입구(132)가 형성된다.
한편, 도 4의 도시와 같이 상기 모터 챔버(150)에는 세로 격벽(160)이 설치되며, 상기 세로 격벽(160)에 의해 상기 모터 챔버(150)는 처리 모터 챔버(151)와 재생 모터 챔버(152)로 구분된다.
또한, 도 4와 같이 상기 팬 모듈(300)은, 상기 처리 모터 챔버(151)에 설치되는 처리팬(310)과, 상기 재생 모터 챔버(152)에 설치되는 재생팬(320)과, 상기 처리팬(310)과 재생팬(320)을 구동시키는 모터(330)로 구성된다.
여기서, 상기 처리팬(310)은 처리공기를 로터 챔버(110)로 압송하도록 동작하며, 상기 재생팬(320)은 재생공기를 제습 유닛의 외부로 배출하도록 동작한다.
그리고, 상기 팬 모듈(300)은 하나의 모터(330)로 처리팬(310)과 재생팬(320)을 구동하도록 구성된다. 즉, 기존대비 모터를 1개만 사용하여 본 발명의 제습 유닛의 부피를 줄여준다.
이를 위해, 상기 모터(330)는 양축 모터(듀얼 샤프트 모터, 듀얼 모터)로 구성되며, 양축에 각각 상기 처리팬(310)과 재생팬(320)이 연결된다.
이때, 상기 처리팬(310)과 재생팬(320)은 모터에 의해 동일 방향으로 회전하나 팬의 토출 방향을 달리하도록 구성하거나 모터에 기어드 박스를 추가하여 처리팬(310)은 정방향 재생팬(320)은 역방향으로 회전하도록 구성할 수 있다.
마지막으로, 도 9의 도시와 같이 본 발명의 제습 유닛(A)에는 팬 필터 유닛(600)이 더 구비된다.
즉, 상기 제습 유닛에서 습도가 낮아진 처리공기를 팬 필터 유닛(600)이 공정장비로 전달하며 파티클을 제거한다.
반도체 전공정(FAB 공정)의 클린룸은 수평(장비 설치 바닥면) 방향이 특히 협소하며, 협소한 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)의 공정장비에 국부적인 제습을 위해서는 도 9와 같이 공간과 장비를 직립형태로 구성하여 해결하였다.
이를 위해 본 발명은 로터 모듈(200)을 사선 방향으로 배치하여 제습 유닛의 폭 방향 부피를 크게 줄여주었다.
이 경우, 상기 팬 필터 유닛(600)이 처리팬(310)의 역할을 겸하고 있으므로 처리팬(310)의 구성은 삭제된다.
본 발명에 따르면, 로터 모듈(200)을 하우징(100)의 내부에 사선으로 배치하여 제습 유닛 전체의 폭과 부피를 줄여주어 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)에도 설치할 수 있다.
또한, 제습 유닛에 팬 필터 유닛(600)을 추가하여 습도 조절과 함께 파티클의 유입을 차단할 수 있다.
본 발명에 따른 제습 유닛의 동작을 간단하게 설명한다.
먼저, 처리공기 입구(121a)를 통해 클린룸의 처리공기가 유입된다. 처리공기는 처리팬(310)에 의해 유입구(131)를 통해 로터 챔버(140)로 전달된다.
이후, 처리공기는 로터 모듈(200)의 처리영역(200a)을 통과하며 습도가 낮아진다. 습도가 낮아진 처리공기는 처리공기 출구(125b)를 통해 반도체 전공정(FAB 공정)의 공정장비 또는 한정적인 공간(작업 챔버, 클린 부스, 드라이 룸)으로 전달된다.
다음, 재생공기는 재생공기 입구(125a)로 유입된다.
이후, 재생공기는 재생히터(500)를 통과하며 고온의 건조한 재생공기로 변화하고, 고온의 건조한 재생공기는 제1재생 덕트(410)를 통해 로터 모듈(200)의 재생영역(200b)을 통과한다.
이때, 고온의 건조한 재생공기가 재생영역(200b)을 통과하며 로터(220)의 수분을 흡수한 후 제2재생 덕트(420)와 재생팬(320)으로 통해 클린룸의 외부로 배출된다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 기술적 범위는 전술한 실시 예에 한정되지 않고 특허청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 이때, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 고려해야 할 것이다.
A - 제습 유닛
100 - 하우징 110 - 프레임
120 - 플레이트
200 - 로터 모듈 300 - 팬 모듈
400 - 재생 덕트 500 - 재생히터
600 - 팬 필터 유닛

Claims (9)

  1. 하우징;
    상기 하우징에 설치되며 처리영역과 재생영역으로 구분하여 습기를 제거하는 로터 모듈;
    상기 로터 모듈로 처리공기를 압송하거나 재생공기를 하우징의 외부로 배출하는 팬 모듈; 및
    재생영역에 설치되는 재생히터;를 포함하되,
    상기 하우징에는 가로 격벽이 설치되며, 상기 가로 격벽에 의해 상기 하우징은 상기 로터 모듈이 설치되는 로터 챔버와 상기 팬 모듈이 설치되는 모터 챔버로 구분되고,
    상기 로터 모듈은 상기 로터 챔버에 길이방향에 대해 경사지게 배치된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 로터 모듈에 설치되며 재생영역을 구분하는 재생 덕트가 더 구비된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 재생 덕트는 하우징과 로터 모듈의 일면 사이에 설치된 제1재생 덕트와, 상기 제1재생 덕트와 대면하는 위치인 상기 로터 모듈의 타면에 설치되는 제2재생 덕트로 구성된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 제1재생 덕트는,
    상기 로터 모듈의 경사면과 하우징 사이에 배치된 한 쌍의 측면 경사판과, 상기 측면 경사판을 연결하며 상기 하우징과 로터 모듈의 사이에 배치된 배면판으로 구성된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 제2재생 덕트는,
    상기 로터 모듈의 경사면에 배치된 한 쌍의 측면 경사판과, 한 쌍의 상기 측면 경사판의 중 상기 로터 모듈과 대면하지 않는 부분을 연결하는 저면판으로 구성된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  6. 제 3항에 있어서,
    상기 가로 격벽에는 상기 제2재생 덕트와 모터 챔버를 연통하는 배출구와, 상기 모터 챔버와 로터 챔버의 처리영역을 연통하는 유입구가 형성된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 모터 챔버에는 세로 격벽이 설치되며, 상기 세로 격벽에 의해 상기 모터 챔버는 처리 모터 챔버와 재생 모터 챔버로 구분된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 팬 모듈은,
    상기 처리 모터 챔버에 설치되는 처리팬과, 상기 재생 모터 챔버에 설치되는 재생팬과, 상기 처리팬과 재생팬을 구동시키는 모터로 구성된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
  9. 제 1항에 있어서,
    상기 로터 모듈에서 습도가 낮아진 처리공기를 공정장비로 전달하며 파티클을 제거하는 팬 필터 유닛이 더 구비된 것을 특징으로 하는 공정장비용 제습 유닛.
KR1020230058251A 2022-08-30 2023-05-04 공정장비용 제습 유닛 KR20240030980A (ko)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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