KR20240028348A - 광학 적층체 - Google Patents

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KR20240028348A
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미나코 노다
다이세이 미우라
쇼 다카라다
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닛토덴코 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 광학 적층체(X)는, 광학 필름(10)과, 점착제층(20, 30)과, 기재(40)와, 박리 필름(50)을 구비한다. 광학 필름(10)은, 100㎛ 이하의 두께를 갖는다. 광학 적층체(X)는, 측면 요철 단부(E)를 갖는다. 측면 요철 단부(E)에서는, 광학 필름(10)의 두께 방향(T)과 직교하는 면 방향(D)에 있어서, 광학 필름(10) 및 박리 필름(50)의 각 단부 테두리보다, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)가 퇴피하고 있다.

Description

광학 적층체
본 발명은 광학 적층체에 관한 것이다.
디스플레이 패널은, 예를 들어 화소 패널, 터치 패널 및 표면 보호 필름 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 디스플레이 패널의 적층 구조 중에는, 소정의 광학 기능을 갖는 광학 필름이 마련된다. 광학 필름으로서는, 예를 들어 필름상의 편광판 및 위상차 필름을 들 수 있다. 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 예를 들어 광학 필름이 화소 패널 상에 마련된 광학 적층체가, 중간 제조물로서 제작된다. 당해 광학 적층체는, 화소 패널과, 점착제층과, 광학 필름과, 점착제층과, 박리 필름을 두께 방향으로 순서대로 구비한다. 또한, 디스플레이 패널의 제조 과정에서는, 예를 들어 표면 보호 필름과, 점착제층과, 광학 필름과, 점착제층과, 박리 필름을 두께 방향으로 순서대로 구비하는 광학 적층체가, 중간 제조물로서 제작된다. 이러한 광학 적층체에 대해서는, 예를 들어 하기 특허문헌 1에 기재되어 있다.
일본 특허 공개 제2020-190754호 공보
도 8은, 종래의 광학 적층체의 일례로서의 광학 적층체(Z)의 단면 모식도이다. 광학 적층체(Z)는, 기재(91)와, 점착제층(92)과, 광학 필름(93)과, 점착제층(94)과, 박리 필름(95)을 두께 방향(T)으로 순서대로 구비한다. 기재(91)는, 예를 들어 화소 패널이다. 광학 필름(93)의 두께 방향(T)의 한쪽 면은, 점착제층(92)을 개재해서 기재(91)에 접합되어 있다. 점착제층(94)은, 광학 필름(93)의 다른 쪽 면에 접착되어 있다. 박리 필름(95)은, 점착제층(94)에 박리 가능하게 접착되어 있다. 광학 적층체(Z)의 단부(E')에서는, 기재(91)의 단부 테두리(91e)와, 점착제층(92)의 단부 테두리(92e)와, 광학 필름(93)의 단부 테두리(93e)와, 점착제층(94)의 단부 테두리(94e)와, 박리 필름(95)의 단부 테두리(95e)가, 서로 평평하다.
이러한 광학 적층체(Z)가 디스플레이 패널의 제조 과정에서 사용되는 경우, 점착제층(94)으로부터 박리 필름(95)이 박리된다(박리 공정). 이 공정에서는, 먼저, 광학 적층체(Z)의 단부(E')에서, 박리 필름(95)을 점착제층(94)으로부터 젖혀 올리기 위한 힘이, 박리 개시용 부하로서 박리 필름(95)에 부여된다. 이 부하에는, 단부(E')에서 박리 필름(95)을 충분히 변형시키는데 요하는 힘과, 박리 필름(95)의 변형에 추종해서 탄성 변형하는 점착제층(94)으로부터 박리 필름(95)을 분리하기 위해 요하는 힘이 모두 포함된다. 단부(E')에서는, 이러한 부하의 부여에 의해, 박리 필름(95)의 단부가, 점착제층(94)의 단부 테두리(94e)로부터 분리되도록 변형된다. 이에 이어서, 박리 필름(95)과 점착제층(94) 사이의 분리가 진행되도록, 박리 필름(95)의 단부가 단부 테두리(94e)로부터 이격되는 방향으로 인장되어, 점착제층(94)으로부터 박리 필름(95)이 제거된다. 이후, 노출된 점착제층(94)을 개재해서, 표면 보호 필름 등의 피착체(도시 생략)와 광학 필름(93)이 접합된다.
한편, 예를 들어 스마트폰용 및 태블릿 단말기용으로, 반복 절곡 가능(폴더블)한 디스플레이 패널의 개발이 진행되고 있다. 폴더블인 디스플레이 패널에서는, 적층 구조 중의 각 요소가 얇고 플렉시블할 것이 요구된다.
그러나, 종래의 광학 적층체(Z)에서는, 광학 필름(93)이 얇을수록, 상술한 박리 공정에서의 박리 개시용 부하가, 광학 필름(93)의 단부의 유의미한 변형을 일으키기 쉽다. 광학 필름(93)의 단부의 변형은, 당해 단부에서의 크랙의 원인이 되어, 바람직하지 않다.
본 발명은, 점착제층 구비의 얇은 광학 필름으로부터, 당해 광학 필름에서의 단부 크랙을 억제하면서 박리 필름을 박리하기에 적합한 광학 적층체를 제공한다.
본 발명 [1]은, 기재와, 제1 점착제층과, 광학 필름과, 제2 점착제층과, 박리 필름을 두께 방향으로 이 순으로 구비하는 광학 적층체이며, 상기 광학 필름이 100㎛ 이하의 두께를 갖고, 상기 광학 필름의 상기 두께 방향과 직교하는 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름 및 상기 박리 필름의 각 단부 테두리보다, 상기 제2 점착제층의 단부 테두리가 퇴피하고 있는, 측면 요철 단부를 갖는 광학 적층체를 포함한다.
본 발명의 광학 적층체의 측면 요철 단부에서는, 상기한 바와 같이, 광학 필름의 면 방향에 있어서, 당해 광학 필름 및 박리 필름의 각 단부 테두리보다, 제2 점착제층의 단부 테두리가 퇴피하고 있다. 이러한 측면 요철 단부에서는, 박리 필름이, 제2 점착제층이 접착되어 있지 않은 프리한 부분을 갖는다. 그 때문에, 측면 요철 단부에서는, 제2 점착제층으로부터 박리 필름을 박리함에 있어서, 먼저, 박리 필름의 프리 부분을 젖혀 올려서 변형시키고, 그 후에, 이미 젖혀 올려 변형되어 있는 박리 필름의 단부를 인장하여, 박리 필름을 제2 점착제층의 단부 테두리로부터 분리할 수 있다. 즉, 박리 개시 과정에서, 박리 필름의 단부를 충분히 변형시키기 위한 힘(제1력)과, 박리 필름의 변형에 추종해서 탄성 변형하는 제2 점착제층의 단부 테두리로부터 박리 필름을 분리하기 위한 힘(제2력)이, 동시에 필요하지는 않다(이에 반해, 상술한 광학 적층체(Z)에서는, 제1력과 제2력이 동시에 필요하고, 따라서, 박리 개시 과정에 요하는 힘이 크다). 이러한 광학 적층체는, 박리 개시 과정에 요하는 힘을 저감하기에 적합하다. 이 힘이 작을수록, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 두께 100㎛ 이하로 얇은 광학 필름의 단부 변형이 억제되어, 동 필름의 단부에서 크랙의 발생이 억제된다. 이와 같이, 본 발명의 광학 적층체는, 점착제층 구비의 얇은 광학 필름으로부터, 당해 광학 필름에서의 단부 크랙을 억제하면서 박리 필름을 박리하기에 적합하다.
본 발명 [2]는, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 박리 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이가 20㎛ 이상인, 상기 [1]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 제2 점착제층의 단부 테두리로부터의 박리 필름의 분리 전에, 박리 필름의 단부(상기 프리 부분)를 충분히 젖혀 올려서 변형시키는데 바람직하고, 따라서, 박리 필름의 박리 개시에 요하는 힘을 저감시키는데 바람직하다.
본 발명 [3]은, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름 및 상기 기재의 각 단부 테두리보다, 상기 제1 점착제층의 단부 테두리가 퇴피하고 있는, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 제2 점착제층의 단부 테두리로부터 박리 필름을 분리하기 위한 상기 제2력이 광학 적층체에 대해서 작용할 때, 제1 점착제층의 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 제1 점착제층의 단부 테두리가 광학 필름 및 기재로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다.
본 발명 [4]는, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이보다, 상기 광학 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이가 작은, 상기 [3]에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 제2 점착제층의 단부 테두리로부터 박리 필름을 분리하기 위한 상기 제2력이 광학 적층체에 대해서 작용할 때, 제1 점착제층의 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 제1 점착제층의 단부 테두리가 광학 필름 및 기재로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다.
본 발명 [5]는, 상기 면 방향에서의 상기 제1 점착제층의 단부 테두리와 상기 제2 점착제층의 단부 테두리 사이의 거리가 1㎛ 이상인, 상기 [1] 내지 [4]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 제1 점착제층의 상술한 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 제1 점착제층의 단부 테두리가 광학 필름 및 기재로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다.
본 발명 [6]은, 상기 제2 점착제층의 두께에 대한, 상기 박리 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이의 비율이, 0.4 이상 8 이하인, 상기 [1] 내지 [5]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 제2 점착제층의 단부 테두리로부터의 박리 필름의 분리 전에, 박리 필름의 단부(상기 프리 부분)를 충분히 젖혀 올려서 변형시키는데 바람직하고, 따라서, 박리 필름의 박리 개시에 요하는 힘(총력)을 저감시키는데 바람직하다.
본 발명 [7]은, 상기 제2 점착제층으로부터의 상기 박리 필름의 박리를 개시하기 위한 박리 개시력이 800gf/25mm 이하인, 상기 [1] 내지 [6]의 어느 하나에 기재된 광학 적층체를 포함한다.
이와 같은 구성은, 제2 점착제층으로부터의 박리 필름의 박리 개시 과정에서, 광학 필름에의 부하를 저감시키는데 바람직하다.
도 1은 본 발명의 광학 적층체의 일 실시 형태의 단면 모식도이다.
도 2는 도 1에 도시하는 광학 적층체의 측면 요철 단부의 일례의 부분 확대 단면 모식도이다. 이 예에서는, 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이(d2)는, 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이(d1)보다 짧다.
도 3은 도 1에 도시하는 광학 적층체의 측면 요철 단부의 다른 예의 부분 확대 단면 모식도이다. 이 예에서는, 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이(d2)는, 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이(d1)보다 길다.
도 4는 도 1에 도시하는 광학 적층체의 측면 요철 단부의 다른 예의 부분 확대 단면 모식도이다. 이 예에서는, 제1 점착제층의 단부 테두리는, 광학 필름의 단부 테두리로부터 면 방향으로 퇴피하고 있지 않다.
도 5는 본 발명의 광학 적층체의 사용 방법의 일례를 나타낸다. 도 5a는, 박리 필름을 박리하는 박리 공정을 나타내고, 도 5b는, 제2 점착제층을 개재하여 광학 필름과 피착체를 접합하는 접합 공정을 나타낸다.
도 6은 실시예 및 비교예에서의 외형 가공 공정에서 사용한 회전 날에 있어서의 날 각도를 설명하기 위한 모식도이다.
도 7은 점착제층 상의 박리 필름을 점착제층으로부터 박리하는 박리 시험에 의해 얻어지는 그래프의 일례를 나타낸다.
도 8은 종래의 광학 적층체의 단면 모식도이다.
본 발명의 광학 적층체의 일 실시 형태로서의 광학 적층체(X)는, 도 1에 도시하는 바와 같이, 광학 필름(10)과, 점착제층(20)(제1 점착제층)과, 점착제층(30)(제2 점착제층)과, 기재(40)와, 박리 필름(50)을 구비한다. 광학 적층체(X)는, 소정의 두께의 시트 형상을 갖고, 두께 방향(T)과 직교하는 방향(면 방향(D))으로 넓어진다. 광학 적층체(X)는, 구체적으로는, 기재(40)와, 점착제층(20)과, 광학 필름(10)과, 점착제층(30)과, 박리 필름(50)을, 두께 방향(T)으로 순서대로 구비한다.
광학 필름(10)은, 기능성 광학 필름이다. 기능성 광학 필름으로서는, 예를 들어 필름상의 편광판(편광 필름) 및 위상차 필름을 들 수 있다. 광학 필름(10)은, 본 실시 형태에서는, 폴더블 디스플레이 패널의 적층 구조 중에 내장되는 필름이다. 폴더블 디스플레이 패널은, 예를 들어 화소 패널 및 터치 패널 등을 포함하는 적층 구조를 갖는다. 광학 필름(10)은, 두께 방향 한쪽 면으로서의 제1면(11)과, 당해 제1면(11)과는 반대측의 제2면(12)을 갖는다. 광학 필름(10)은, 100㎛ 이하의 두께를 갖는다. 점착제층(20)은, 제1면(11)에 접착되어 있다. 기재(40)는, 점착제층(20)을 개재해서 제1면(11)에 접합되어 있다. 기재(40)로서는, 폴더블 디스플레이용의, 화소 패널 및 플라스틱 필름을 들 수 있다. 점착제층(30)은, 제2면(12)에 접착되고, 또한, 광학 필름(10)과는 반대측에 점착면(31)을 갖는다. 박리 필름(50)은, 점착면(31) 상에 박리 가능하게 배치되어 있다. 박리 필름(50)은 가요성을 갖는다. 또한, 광학 적층체(X)에 있어서, 평면으로 보았을 때의 외곽 형상을 규정하는 단부 테두리로서, 광학 필름(10)은 단부 테두리(13)를 갖고, 점착제층(20)은 단부 테두리(22)를 갖고, 점착제층(30)은 단부 테두리(32)를 갖고, 기재(40)는 단부 테두리(42)를 갖고, 박리 필름(50)은 단부 테두리(52)를 갖는다. 이러한 광학 적층체(X)는, 폴더블 디스플레이 패널의 적층 구조 중에 내장되는 적층체이다.
광학 적층체(X)는, 동 필름의 외주 단부의 전부 또는 일부에, 측면 요철 단부(E)를 갖는다. 측면 요철 단부(E)에서는, 면 방향(D)에 있어서, 광학 필름(10) 및 박리 필름(50)의 단부 테두리(13, 52)보다, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)는 퇴피하고 있다. 도 2 내지 도 4는 각각, 광학 적층체(X)의 측면 요철 단부(E)의 일례의 부분 확대 단면 모식도이다. 도 2 및 도 3에 도시하는 측면 요철 단부(E)에서는, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)는, 광학 필름(10)의 단부 테두리(13)보다 면 방향(D)으로 퇴피하고 있다. 도 4에 도시하는 측면 요철 단부(E)에서는, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)는, 광학 필름(10)의 단부 테두리(13)와 평평하다.
이러한 측면 요철 단부(E)에서는, 박리 필름(50)이, 점착제층(30)이 접착되어 있지 않은 프리 부분(50a)을 갖는다. 그 때문에, 측면 요철 단부(E)에서는, 점착제층(30)으로부터 박리 필름(50)을 박리함에 있어서, 먼저, 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을 젖혀 올려서 변형시키고, 그 후에, 이미 젖혀 올려 변형되어 있는 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을 인장하여, 박리 필름(50)을 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터 분리할 수 있다. 즉, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 박리 필름(50)의 단부를 충분히 변형시키기 위한 힘(제1력)과, 박리 필름(50)의 변형에 추종해서 탄성 변형하는 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터 박리 필름(50)을 분리하기 위한 힘(제2력)이, 동시에 필요하지는 않다. 이러한 광학 적층체(X)는, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에 요하는 힘을 저감하기에 적합하다. 이 힘이 작을수록, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 두께 100㎛ 이하로 얇은 광학 필름(10)의 단부 변형이 억제되고, 동 필름의 단부에 있어서 크랙의 발생이 억제된다.
이상과 같이, 광학 적층체(X)는, 점착제층 구비의 얇은 광학 필름(10)으로부터, 광학 필름(10)에서의 단부 크랙을 억제하면서 박리 필름(50)을 박리하기에 적합하다.
면 방향(D)에서의, 박리 필름(50)의 단부 테두리(52)로부터의 점착제층(30)의 단부 테두리(32)의 퇴피 길이는, 바람직하게는 20㎛ 이상, 보다 바람직하게는 40㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 60㎛ 이상이다. 이와 같은 구성은, 박리 필름(50)의 상술한 박리 개시 과정에서, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터의 박리 필름(50)의 분리 전에, 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을 충분히 젖혀 올려서 변형시키는데 바람직하고, 따라서, 박리 필름(50)의 박리 개시에 요하는 힘(총력)을 저감시키는데 바람직하다. 동 퇴피 길이는, 바람직하게는 500㎛ 이하, 보다 바람직하게는 400㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 300㎛ 이하이다. 동 퇴피 길이의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 측면 요철 단부(E)를 형성하기 위해서 회전 날을 사용하여 실시되는 후술하는 절단 공정에서의 절단 조건의 조정을 들 수 있다. 당해 절단 조건으로서는, 예를 들어 회전 날의 날끝의 테이퍼 각도, 회전 날의 회전수, 후술하는 광학 필름 적층체의 표면에 대한 회전 날의 입사 방향, 및 광학 필름 적층체를 절삭하는 회전 날의 변위 속도를 들 수 있다. 동 퇴피 길이의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 점착제층(30)의 두께 조정 및 탄성률의 조정도 들 수 있다.
점착제층(30)의 두께에 대한 상술한 퇴피 길이의 비율은, 바람직하게는 0.5 이상, 보다 바람직하게는 0.8 이상, 더욱 바람직하게는 1 이상이다. 동 비율은, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 6 이하이다. 이들 구성은, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터의 박리 필름(50)의 분리 전에, 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을 충분히 젖혀 올려서 변형시키는데 바람직하고, 따라서, 박리 필름(50)의 박리 개시에 요하는 힘을 저감시키는데 바람직하다.
측면 요철 단부(E)에서는, 도 2 및 도 3에 도시한 바와 같이, 광학 필름(10)의 단부 테두리(13) 및 기재(40)의 단부 테두리(42)보다, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)가 면 방향(D)으로 퇴피하고 있는 것이 바람직하다. 이와 같은 구성은, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터 박리 필름(50)을 분리하기 위한 상기 제2력이 광학 적층체(X)에 대해서 작용할 때, 점착제층(20)의 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)가 광학 필름(10) 및 기재(40)로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다.
면 방향(D)에서의, 광학 필름(10)의 단부 테두리(13)로부터의 점착제층(20)의 단부 테두리(22)의 퇴피 길이(퇴피 길이 d1)는, 바람직하게는 20㎛ 이상, 보다 바람직하게는 40㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 60㎛ 이상이다. 이와 같은 구성은, 광학 적층체(X)에 대한 상기 제2력의 작용 시에, 점착제층(20)의 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)가 광학 필름(10) 및 기재(40)로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다. 퇴피 길이 d1은, 바람직하게는 500㎛ 이하, 보다 바람직하게는 400㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 300㎛ 이하이다. 퇴피 길이 d1의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 측면 요철 단부(E)를 형성하기 위해서 회전 날을 사용하여 실시되는 후술하는 절단 공정에서의 절단 조건의 조정을 들 수 있다. 당해 절단 조건으로서는, 예를 들어 회전 날의 날끝의 테이퍼 각도, 회전 날의 회전수, 후술하는 광학 필름 적층체의 표면에 대한 회전 날의 입사 방향, 및 광학 필름 적층체를 절삭하는 회전 날의 변위 속도를 들 수 있다. 퇴피 길이 d1의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 점착제층(20)의 두께 조정 및 탄성률의 조정도 들 수 있다.
측면 요철 단부(E)에서는, 광학 필름(10)의 단부 테두리(13)로부터의 점착제층(30)의 단부 테두리(32)의 퇴피 길이 d2는, 바람직하게는 도 2에 도시하는 바와 같이 퇴피 길이 d1보다 작다. 즉, 퇴피 길이 d1은, 바람직하게는 퇴피 길이 d2보다 크다. 또한, 퇴피 길이 d2에 대한 퇴피 길이 d1의 비율(d1/d2)은, 바람직하게는 1.1 이상, 보다 바람직하게는 1.2 이상이다. 이들 구성은, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 점착제층(20)의 상술한 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)가 광학 필름(10) 및 기재(40)로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다. 비율(d1/d2)은, 예를 들어 5 이하이다.
면 방향(D)의 단부 테두리(22, 32)간의 거리(즉, 퇴피 길이 d1과 퇴피 길이 d2의 차)는, 바람직하게는 1㎛ 이상, 보다 바람직하게는 5㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 10㎛ 이상이다. 이와 같은 구성은, 박리 필름(50)의 상술한 박리 개시 과정에서, 점착제층(20)의 상술한 변형을 억제하는데 바람직하고, 따라서, 점착제층(20)의 단부 테두리(22)가 광학 필름(10) 및 기재(40)로부터 이격되는 것을 억제하는데 바람직하다. 또한, 면 방향(D)의 단부 테두리(22, 32)간의 거리는, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 250㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 220㎛ 이하이다. 이와 같은 구성은, 광학 필름(10)의 단부 손상을 억제하는데 바람직하고, 또한, 광학 필름(10)과 점착제층(20, 30) 사이의 접착 면적의 저하에 의한 광학 필름(10)의 단부의 내구성 저하를 억제하는데 바람직하다.
점착제층(30)의 점착면(31)으로부터의 박리 필름(50)의 박리를 개시하기 위한 박리 개시력 F1은, 바람직하게는 800gf/25mm 이하, 보다 바람직하게는 700gf/25mm 이하, 더욱 바람직하게는 600gf/25mm 이하이다. 이와 같은 구성은, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)가 광학 필름(10)으로부터 이격되는 것을 억제함과 함께, 광학 필름(10)에의 부하를 저감시키는데 바람직하다. 또한, 박리 개시력 F1은, 바람직하게는 10gf/25mm 이상, 보다 바람직하게는 20gf/25mm 이상, 더욱 바람직하게는 30gf/25mm 이상이다. 이와 같은 구성은, 광학 적층체(X)의 예를 들어 수송 중 및 핸들링 시에 있어서, 점착제층(30)으로부터의 박리 필름(50)의 들뜸(부분적 박리)을 억제하는데 바람직하다.
박리 개시력이란, 본 실시 형태에서는, 점착제층에 박리 가능하게 접착되어 있는 박리 필름을 당해 점착제층으로부터 박리할 때의 박리 개시 과정에서 요하는 힘이다. 박리 개시 과정에서는, 점착제층으로부터 이격되는 방향으로 박리 필름이 변형되도록, 당해 박리 필름에 힘이 작용된다. 이에 의해, 당해 박리 필름에 접착되어 있는 점착제층의 단부 테두리 및 그 근방이, 박리 필름의 변형에 추종하도록, 일단 탄성 변형한다. 그리고 이와 같이 탄성 변형한 점착제층 단부로부터 박리 필름이 분리될 정도로 큰 힘으로 박리 필름이 인장되었을 경우에, 점착제층의 단부 테두리 및 그 근방과 박리 필름 사이에 개열이 생겨서, 박리가 개시된다. 즉, 박리 개시력이란, 박리 개시 과정에서, 탄성 변형한 점착제층 단부로부터 박리 필름을 분리해서 점착제층으로부터의 박리 필름의 박리를 개시시키는데 요하는 힘이다. 이러한 박리 개시력은, 후술하는 실시예에 관해서 후술하는 방법에 의해 측정할 수 있다. 이러한 박리 개시력의 조정 방법으로서는, 예를 들어, 박리 필름의 두께 조정, 및 박리 필름의 점착제층측 표면에서의 박리 처리제의 종류의 선택을 들 수 있다.
박리 필름(50)의 점착제층(30)으로부터의 박리 개시 후에 당해 박리 필름(50)을 점착제층(30)의 점착면(31)으로부터 박리하기 위한 박리력 F2는, 바람직하게는 0.1gf/25mm 이상, 보다 바람직하게는 0.3gf/25mm 이상, 더욱 바람직하게는 0.5gf/25mm 이상이다. 박리력 F2는, 바람직하게는 5gf/25mm 이하, 보다 바람직하게는 4gf/25mm 이하, 더욱 바람직하게는 3gf/25mm 이하이다.
광학 필름(10)이 필름상의 편광판(편광 필름)일 경우, 당해 편광 필름은, 예를 들어 편광자와, 당해 편광자의 편면 또는 양면에 접합된 투명 보호 필름을 구비하는 편광 필름을 들 수 있다. 편광자로서는, 예를 들어 2색성 물질을 흡착시킨 1축 연신의 친수성 고분자 필름, 및 폴리엔 배향 필름을 들 수 있다. 친수성 고분자 필름으로서는, 예를 들어 폴리비닐알코올 필름, 부분 포르말화폴리비닐알코올 필름, 및 에틸렌·아세트산비닐 공중합체 부분 비누화 필름을 들 수 있다. 2색성 물질로서는, 예를 들어 요오드 및 2색성 염료를 들 수 있다. 폴리엔 배향 필름으로서는, 예를 들어 폴리비닐알코올의 탈수 처리물, 및 폴리염화비닐의 탈염산 처리물을 들 수 있다.
편광자로서는, 두께 10㎛ 이하의 박형 편광자를 사용해도 된다. 박형 편광자로서는, 예를 들어 일본 특허 공개 소51-069644호 공보, 일본 특허 공개 제2000-338329호 공보, WO2010/100917호, 일본 특허 제4691205호 및 일본 특허 제4751481호에 기재되어 있는 편광자를 들 수 있다.
편광판에서의 투명 보호 필름으로서는, 투명성, 기계 강도, 열 안정성, 수분 차단성 및 광학 등방성이 우수한 필름이 바람직하다. 그러한 투명 보호 필름의 재료로서는, 예를 들어 셀룰로오스 수지, 환상 폴리올레핀 수지, 아크릴 수지, 페닐말레이미드 수지 및 폴리카르보네이트 수지를 들 수 있다.
편광판의 두께는, 플렉시블성의 관점에서, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 80㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 70㎛ 이하이다.
점착제층(20)은, 제1 점착제 조성물로 형성된 감압 접착제층이다. 점착제층(20)은, 투명성(가시광 투과성)을 갖는다. 제1 점착제 조성물은, 적어도 베이스 폴리머를 함유한다.
베이스 폴리머는, 점착제층(20)에 있어서 점착성을 발현시키는 점착 성분이다. 베이스 폴리머로서는, 예를 들어 아크릴 폴리머, 실리콘 폴리머, 폴리에스테르 폴리머, 폴리우레탄 폴리머, 폴리아미드 폴리머, 폴리비닐에테르 폴리머, 아세트산비닐/염화비닐 코폴리머, 변성 폴리올레핀 폴리머, 에폭시 폴리머, 불소 폴리머 및 고무 폴리머를 들 수 있다. 베이스 폴리머는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 점착제층(20)에서의 양호한 투명성 및 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머로서는, 바람직하게는 아크릴 폴리머가 사용된다.
아크릴 폴리머는, (메트)아크릴산알킬에스테르를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이다. 「(메트)아크릴산」은, 아크릴산및/또는 메타크릴산을 의미한다.
(메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 알킬기의 탄소수가 1 내지 20인 (메트)아크릴산알킬에스테르가 적합하게 사용된다. (메트)아크릴산알킬에스테르는, 직쇄상 또는 분지상의 알킬기를 가져도 되고, 지환식 알킬기 등 환상의 알킬기를 가져도 된다.
직쇄상 또는 분지상의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산부틸, (메트)아크릴산이소부틸, (메트)아크릴산s-부틸, (메트)아크릴산t-부틸, (메트)아크릴산펜틸, (메트)아크릴산이소펜틸, (메트)아크릴산네오펜틸, (메트)아크릴산헥실, (메트)아크릴산헵틸, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산옥틸, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산노닐, (메트)아크릴산이소노닐, (메트)아크릴산데실, (메트)아크릴산이소데실, (메트)아크릴산운데실, (메트)아크릴산도데실(즉, 라우릴아크릴레이트), (메트)아크릴산이소트리데실, (메트)아크릴산테트라데실, (메트)아크릴산이소테트라데실, (메트)아크릴산펜타데실, (메트)아크릴산세틸, (메트)아크릴산헵타데실, (메트)아크릴산옥타데실, (메트)아크릴산이소옥타데실 및 (메트)아크릴산노나데실을 들 수 있다.
지환식 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산시클로알킬에스테르, 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르, 및 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 들 수 있다. (메트)아크릴산시클로알킬에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산시클로펜틸, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산시클로헵틸 및 (메트)아크릴산시클로옥틸을 들 수 있다. 2환식의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산이소보르닐을 들 수 있다. 3환 이상의 지방족 탄화수소환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르로서는, 예를 들어 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐옥시에틸(메트)아크릴레이트, 트리시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 1-아다만틸(메트)아크릴레이트, 2-메틸-2-아다만틸(메트)아크릴레이트, 및 2-에틸-2-아다만틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
(메트)아크릴산알킬에스테르로서는, 바람직하게는 탄소수 3 내지 15의 알킬기를 갖는 아크릴산알킬에스테르가 사용되고, 보다 바람직하게는, 아크릴산n-부틸, 아크릴산2-에틸헥실 및 아크릴산도데실로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나가 사용된다.
모노머 성분에서의 (메트)아크릴산알킬에스테르의 비율은, 점착제층(20)에 있어서 점착성 등의 기본 특성을 적절하게 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 50질량% 이상, 보다 바람직하게는 60질량% 이상, 더욱 바람직하게는 70질량% 이상이다. 동 비율은, 예를 들어 99질량% 이하이다.
모노머 성분은, (메트)아크릴산알킬에스테르와 공중합 가능한 공중합성 모노머를 포함해도 된다. 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 극성기를 갖는 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머로서는, 예를 들어 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머, 히드록시기 함유 모노머 및 카르복시기 함유 모노머를 들 수 있다. 극성기 함유 모노머는, 아크릴 폴리머에의 가교점의 도입, 아크릴 폴리머의 응집력의 확보 등, 아크릴 폴리머의 개질에 도움이 된다.
질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 예를 들어 N-비닐-2-피롤리돈, N-메틸비닐피롤리돈, N-비닐피리딘, N-비닐피페리돈, N-비닐피리미딘, N-비닐피페라진, N-비닐피라진, N-비닐피롤, N-비닐이미다졸, N-비닐옥사졸, N-(메트)아크릴로일-2-피롤리돈, N-(메트)아크릴로일피페리딘, N-(메트)아크릴로일피롤리딘, N-비닐모르폴린, N-비닐-3-모르폴리논, N-비닐-2-카프로락탐, N-비닐-1,3-옥사진-2-온, N-비닐-3,5-모르폴린디온, N-비닐피라졸, N-비닐이소옥사졸, N-비닐티아졸 및 N-비닐이소티아졸을 들 수 있다. 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머로서는, 바람직하게는 N-비닐-2-피롤리돈이 사용된다.
모노머 성분에서의, 질소 원자 함유 환을 갖는 모노머의 비율은, 점착제층(20)에서의 응집력의 확보, 및 점착제층(20)에서의 대 피착체 밀착력 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.3질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.55질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(20)에서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관계됨) 조정의 관점에서, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
히드록시기 함유 모노머로서는, 예를 들어 (메트)아크릴산2-히드록시에틸, (메트)아크릴산2-히드록시프로필, (메트)아크릴산2-히드록시부틸, (메트)아크릴산3-히드록시프로필, (메트)아크릴산4-히드록시부틸, (메트)아크릴산6-히드록시헥실, (메트)아크릴산8-히드록시옥틸, (메트)아크릴산10-히드록시데실, (메트)아크릴산12-히드록시라우릴 및(4-히드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 히드록시기 함유 모노머로서는, 바람직하게는 (메트)아크릴산4-히드록시부틸이 사용되고, 보다 바람직하게는 아크릴산4-히드록시부틸이 사용된다.
모노머 성분에서의 히드록시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머에의 가교 구조의 도입, 및 점착제층(20)에서의 응집력 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.8질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 극성(점착제층(20)에서의 각종 첨가제 성분과 아크릴 폴리머의 상용성에 관계됨) 조정의 관점에서, 바람직하게는 20질량% 이하, 보다 바람직하게는 10질량% 이하이다.
카르복시기 함유 모노머로서는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸아크릴레이트, 카르복시펜틸아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 및 이소크로톤산을 들 수 있다.
모노머 성분에서의 카르복시기 함유 모노머의 비율은, 아크릴 폴리머에의 가교 구조의 도입, 점착제층(20)에서의 응집력의 확보, 및 점착제층(20)에서의 대 피착체 밀착력 확보의 관점에서, 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.5질량% 이상, 더욱 바람직하게는 0.8질량% 이상이다. 동 비율은, 아크릴 폴리머의 유리 전이 온도의 조정, 및 산에 의한 피착체의 부식 리스크의 회피 관점에서, 바람직하게는 30질량% 이하, 보다 바람직하게는 20질량% 이하이다.
폴더블 디스플레이 패널에서의 전극 등 금속 요소가 산 성분에 의해 부식되는 것을 방지하기 위해서는, 점착제층(20)은, 산의 함유량이 작은 것이 바람직하다. 또한, 점착제층(20)이 편광판의 접착에 사용되는 경우, 산 성분에 의한 폴리비닐알코올 편광자의 폴리엔화를 억제하기 위해서, 점착제층(20)은, 산의 함유량이 작은 것이 바람직하다. 이러한 산 프리의 점착제층(20)에서의 유기산 모노머(예를 들어, (메트)아크릴산 및 카르복실기 함유 모노머)의 함유량은, 바람직하게는 100ppm 이하, 보다 바람직하게는 70ppm 이하, 더욱 바람직하게는 50ppm 이하이다. 점착제층(20)의 유기산 모노머 함유량은, 점착제층(20)을 순수 중에 침지해서 100℃에서 45분 가온함으로써 수중에 추출된 산 모노머를, 이온 크로마토그래프로 정량함으로써 구할 수 있다.
산 프리의 관점에서는, 점착제층(20) 중의 베이스 폴리머가 모노머 성분으로서 유기산 모노머를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 산 프리의 관점에서는, 모노머 성분에서의 유기산 모노머의 비율은, 바람직하게는 0.5질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량% 이하, 더욱 바람직하게는 0.05질량%이며, 이상적으로는 0질량%이다.
모노머 성분은, 다른 공중합성 모노머를 포함하고 있어도 된다. 다른 공중합성 모노머로서는, 예를 들어 산 무수물 모노머, 술폰산기 함유 모노머, 인산기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, 시아노기 함유 모노머, 알콕시기 함유 모노머 및 방향족 비닐 화합물을 들 수 있다. 이들 다른 공중합성 모노머는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다.
베이스 폴리머는, 본 실시 형태에서는 가교 구조를 갖는다. 베이스 폴리머에의 가교 구조의 도입 방법으로서는, 가교제와 반응 가능한 관능기를 갖는 베이스 폴리머와 가교제를 제1 점착제 조성물에 배합하여, 베이스 폴리머와 가교제를 점착제층(20) 중에서 반응시키는 방법(제1 방법), 및 베이스 폴리머를 형성하는 모노머 성분에 다관능 모노머를 포함하여, 당해 모노머 성분의 중합에 의해, 폴리머쇄에 분지 구조(가교 구조)가 도입된 베이스 폴리머를 형성하는 방법(제2 방법)을 들 수 있다. 이들 방법은 병용되어도 된다.
상기 제1 방법에서 사용되는 가교제로서는, 예를 들어 베이스 폴리머에 포함되는 관능기(히드록시기 및 카르복시기 등)와 반응하는 화합물을 들 수 있다. 그러한 가교제로서는, 예를 들어 이소시아네이트 가교제, 과산화물 가교제, 에폭시 가교제, 옥사졸린 가교제, 아지리딘 가교제, 카르보디이미드 가교제 및 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있다. 가교제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2종류 이상이 병용되어도 된다. 가교제로서는, 베이스 폴리머에서의 히드록시기 및 카르복시기와의 반응성이 높아서 가교 구조의 도입이 용이한 점에서, 바람직하게는 이소시아네이트 가교제, 과산화물 가교제 및 에폭시 가교제가 사용된다.
이소시아네이트 가교제로서는, 예를 들어 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 및 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트를 들 수 있다. 또한, 이소시아네이트 가교제로서는, 이들 이소시아네이트의 유도체도 들 수 있다. 당해 이소시아네이트 유도체로서는, 예를 들어 이소시아누레이트 변성체 및 폴리올 변성체를 들 수 있다. 이소시아네이트 가교제의 시판품으로서는, 예를 들어 코로네이트 L(톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HL(헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 도소제), 코로네이트 HX(헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체, 도소제) 및 타케네이트 D110N(크실릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체, 미쓰이 가가쿠제)을 들 수 있다.
과산화물 가교제로서는, 디벤조일퍼옥시드, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트 및 t-부틸퍼옥시피발레이트를 들 수 있다.
에폭시 가교제로서는, 비스페놀 A, 에피클로로히드린형 에폭시 수지, 에틸렌글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 디글리시딜아닐린, 디아민글리시딜아민, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실릴렌디아민 및 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산을 들 수 있다.
이소시아네이트 가교제(특히, 2관능의 이소시아네이트 가교제) 및 과산화물 가교제는, 점착제층(20)의 적당한 유연성(따라서 굴곡성) 확보의 관점에서 바람직하다. 이소시아네이트 가교제(특히, 3관능의 이소시아네이트 가교제)는, 점착제층(20)의 내구성 확보의 관점에서 바람직하다. 베이스 폴리머에 있어서, 2관능 이소시아네이트 가교제 및 과산화물 가교제는, 보다 유연한 이차원 가교를 형성하는 것에 반해, 3관능 이소시아네이트 가교제는, 보다 견고한 삼차원 가교를 형성한다. 점착제층(20)의 내구성과 유연성의 양립의 관점에서는, 3관능 이소시아네이트 가교제와, 과산화물 가교제 및/또는 2관능 이소시아네이트 가교제의 병용이 바람직하다.
가교제의 배합량은, 점착제층(20)의 응집력을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 예를 들어 0.01질량부 이상이며, 바람직하게는 0.05질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.07질량부 이상이다. 점착제층(20)에 있어서 양호한 점착성을 확보하는 관점에서, 베이스 폴리머 100질량부에 대한 가교제의 배합량은, 예를 들어 10질량부 이하이며, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이하이다.
상기 제2 방법에서는, 모노머 성분(가교 구조를 도입하기 위한 다관능 모노머와 다른 모노머를 포함함)은, 한번에 중합시켜도 되고, 다단계로 중합시켜도 된다. 다단계 중합의 방법에서는, 먼저, 베이스 폴리머를 형성하기 위한 단관능 모노머를 중합시키고(예비 중합), 이에 의해 부분 중합물(저중합도의 중합물과 미반응의 모노머의 혼합물)을 함유하는 프리폴리머 조성물을 조제한다. 이어서, 프리폴리머 조성물에 다관능 모노머를 첨가한 후, 부분 중합물과 다관능 모노머를 중합시킨다(본 중합).
다관능 모노머로서는, 예를 들어 에틸렌성 불포화 이중 결합을 1분자 중에 2개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 다관능 모노머로서는, 활성 에너지선 중합(광중합)에 의해 가교 구조를 도입 가능한 관점에서, 다관능 아크릴레이트가 바람직하다.
다관능 (메트)아크릴레이트로서는, 2관능 (메트)아크릴레이트, 3관능 (메트)아크릴레이트, 및 4관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
2관능 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 글리세린디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 스테아르산 변성 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 디시클로펜테닐디아크릴레이트, 디(메트)아크릴로일이소시아누레이트 및 알킬렌옥사이드 변성 비스페놀디(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
3관능 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트 및 트리스(아크릴로일옥시에틸)이소시아누레이트를 들 수 있다.
4관능 이상의 다관능 (메트)아크릴레이트로서는, 예를 들어 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타(메트)아크릴레이트, 알킬 변성 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트를 들 수 있다.
다관능 모노머의 분자량은, 바람직하게는 1500 이하, 보다 바람직하게는 1000 이하이다. 또한, 다관능 모노머의 관능기 당량(g/eq)은, 바람직하게는 50 이상, 보다 바람직하게는 70 이상, 더욱 바람직하게는 80 이상이다. 동 관능기 당량은, 바람직하게는 500 이하, 보다 바람직하게는 300 이하, 더욱 바람직하게는 200 이하이다. 이들 구성은, 베이스 폴리머에 있어서 가교 구조의 도입에 의해 점탄성(예를 들어, 저장 탄성률 G' 및 손실 정접 tanδ)을 적절하게 조정하는 관점에서 바람직하다.
아크릴 폴리머는, 상술한 모노머 성분을 중합시킴으로써 형성할 수 있다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 활성 에너지선 중합(예를 들어 UV 중합), 괴상 중합 및 유화 중합을 들 수 있다. 점착제층(20)의 투명성, 내수성 및 비용의 관점에서, 용액 중합 및 UV 중합이 바람직하다. 용액 중합의 용매로서는, 예를 들어 아세트산에틸 및 톨루엔이 사용된다. 또한, 중합의 개시제로서는, 예를 들어 열중합 개시제 및 광중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제의 사용량은, 모노머 성분 100질량부에 대해서, 예를 들어 0.05질량부 이상이며, 또한, 예를 들어 1질량부 이하이다.
열중합 개시제로서는, 예를 들어 아조 중합 개시제 및 과산화물 중합 개시제를 들 수 있다. 아조 중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2-메틸부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온산)디메틸, 4,4'-아조비스-4-시아노발레르산, 아조비스이소발레로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘)이황산염, 및 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘)디히드로클로라이드를 들 수 있다. 과산화물 중합 개시제로서는, 예를 들어 디벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼말레에이트 및 과산화 라우로일을 들 수 있다.
광중합 개시제로서는, 예를 들어 벤조인에테르 광중합 개시제, 아세토페논 광중합 개시제, α-케톨 광중합 개시제, 방향족 술포닐클로라이드 광중합 개시제, 광 활성 옥심 광중합 개시제, 벤조인 광중합 개시제, 벤질 광중합 개시제, 벤조페논 광중합 개시제, 케탈 광중합 개시제, 티오크산톤 광중합 개시제 및 아실포스핀옥사이드 광중합 개시제를 들 수 있다.
중합에 있어서는, 분자량 조정 등을 목적으로, 연쇄 이동제 및/또는 중합 금지제(중합 지연제)를 사용해도 된다. 연쇄 이동제로서는, α-티오글리세롤, 라우릴머캅탄, 글리시딜머캅탄, 머캅토아세트산, 2-머캅토에탄올, 티오글리콜산, 티오글리콜산2-에틸헥실, 2,3-디머캅토-1-프로판올 및 α-메틸스티렌 2량체를 들 수 있다.
중합 개시제의 종류 및/또는 양의 조정에 의해, 베이스 폴리머의 분자량을 조정할 수 있다. 예를 들어, 라디칼 중합에서는, 중합 개시제의 양이 많을수록, 반응계의 라디칼 농도가 높기 때문에, 반응 개시점의 밀도가 높고, 형성되는 베이스 폴리머의 분자량이 작아지는 경향이 있다. 이에 반해, 중합 개시제의 양이 적을수록, 반응 개시점의 밀도가 낮기 때문에 폴리머쇄가 신장되기 쉬워, 형성되는 베이스 폴리머 분자량이 커지는 경향이 있다.
아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 점착제층(20)에서의 응집력 확보의 관점에서, 바람직하게는 10만 이상, 보다 바람직하게는 30만 이상, 더욱 바람직하게는 50만 이상이다. 동 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500만 이하, 보다 바람직하게는 300만 이하, 더욱 바람직하게는 200만 이하이다. 아크릴 폴리머의 중량 평균 분자량은, 겔·투과·크로마토그래프(GPC)에 의해 측정해서 폴리스티렌 환산에 의해 산출된다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는, 바람직하게는 0℃ 이하, 보다 바람직하게는 -10℃ 이하, 더욱 바람직하게는 -20℃ 이하이다. 동 유리 전이 온도는, 예를 들어 -80℃ 이상이다.
베이스 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)에 대해서는, 하기 Fox의 식에 기초해서 구해지는 유리 전이 온도(이론값)를 사용할 수 있다. Fox의 식은, 폴리머의 유리 전이 온도 Tg와, 당해 폴리머를 구성하는 모노머의 호모 폴리머의 유리 전이 온도 Tgi의 관계식이다. 하기 Fox의 식에서, Tg는 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타내고, Wi는 당해 폴리머를 구성하는 모노머 i의 중량 분율을 나타내고, Tgi는, 모노머 i로 형성되는 호모 폴리머의 유리 전이 온도(℃)를 나타낸다. 호모 폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는 문헌값을 사용할 수 있다. 예를 들어, 「Polymer Handbook」(제4판, John Wiley & Sons, Inc., 1999년) 및 「신고분자 문고 7 도료용 합성 수지 입문」(기타오카 교죠 저, 고분자 간행회, 1995년)에는, 각종 호모 폴리머의 유리 전이 온도가 예시되어 있다. 한편, 모노머의 호모 폴리머의 유리 전이 온도에 대해서는, 일본 특허 공개 제2007-51271호 공보에 구체적으로 기재되어 있는 방법에 의해 구하는 것도 가능하다.
Fox의 식 1/(273+Tg)=Σ[Wi/(273+Tgi)]
제1 점착제 조성물은, 베이스 폴리머에 더하여, 1종류 또는 2종류 이상의 올리고머를 포함하고 있어도 된다. 베이스 폴리머로서 아크릴 폴리머가 사용되는 경우, 바람직하게는 올리고머로서 아크릴 올리고머가 사용된다. 아크릴 올리고머는, (메트)아크릴산알킬에스테르를 50질량% 이상의 비율로 포함하는 모노머 성분의 공중합체이며, 중량 평균 분자량이 예를 들어 1000 이상 30000 이하이다.
아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 바람직하게는 60℃ 이상, 보다 바람직하게는 80℃ 이상, 더욱 바람직하게는 100℃ 이상, 특히 바람직하게는 110℃ 이상이다. 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 예를 들어 200℃ 이하이고, 바람직하게는 180℃ 이하, 보다 바람직하게는 160℃ 이하이다. 가교 구조가 도입된 저Tg의 아크릴 폴리머(베이스 폴리머)와 고Tg의 아크릴 올리고머의 병용에 의해, 점착제층(20)의 접착력, 특히 고온에서의 접착력을 높일 수 있다. 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도는, 상기 Fox의 식에 의해 산출된다.
유리 전이 온도가 60℃ 이상의 아크릴 올리고머는, 바람직하게는 쇄상 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(쇄상 알킬(메트)아크릴레이트)와, 지환식 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르(지환식 알킬(메트)아크릴레이트)를 포함하는 모노머 성분의 중합체이다. 이들 (메트)아크릴산알킬에스테르의 구체예로서는, 예를 들어 아크릴 폴리머의 모노머 성분으로서 상기한 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있다.
쇄상 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 유리 전이 온도가 높고, 베이스 폴리머와의 상용성이 우수하다는 점에서, 메타크릴산메틸이 바람직하다. 지환식 알킬(메트)아크릴레이트로서는, 아크릴산디시클로펜타닐, 메타크릴산디시클로펜타닐, 아크릴산시클로헥실 및 메타크릴산시클로헥실이 바람직하다. 즉, 아크릴 올리고머는, 아크릴산디시클로펜타닐, 메타크릴산디시클로펜타닐, 아크릴산시클로헥실 및 메타크릴산시클로헥실로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상과, 메타크릴산메틸을 포함하는 모노머 성분의 중합체인 것이 바람직하다.
아크릴 올리고머의 모노머 성분에서의 지환식 알킬(메트)아크릴레이트의 비율은, 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 20중량% 이상, 더욱 바람직하게는 30중량% 이상이다. 동 비율은, 바람직하게는 90중량% 이하, 보다 바람직하게는 80중량% 이하, 더욱 바람직하게는 70중량% 이하이다. 아크릴 올리고머의 모노머 성분에서의 쇄상 알킬(메트)아크릴레이트의 비율은, 바람직하게는 90중량% 이하, 보다 바람직하게는 80중량% 이하, 더욱 바람직하게는 70중량% 이하이다. 동 비율은, 바람직하게는 10중량% 이상, 보다 바람직하게는 20중량% 이상, 더욱 바람직하게는 30중량% 이상이다.
아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 1000 이상, 보다 바람직하게는 1500 이상, 더욱 바람직하게는 2000 이상이다. 동 분자량은, 바람직하게는 30000 이하, 보다 바람직하게는 10000 이하, 더욱 바람직하게는 8000 이하이다. 이러한 아크릴 올리고머의 분자량 범위는, 점착제층(20)의 접착력 및 접착 유지력을 확보하는데 바람직하다.
아크릴 올리고머는, 당해 아크릴 올리고머의 모노머 성분을 중합함으로써 얻어진다. 중합 방법으로서는, 예를 들어, 용액 중합, 활성 에너지선 중합(예를 들어 UV 중합), 괴상 중합 및 유화 중합을 들 수 있다. 아크릴 올리고머의 중합에 있어서는, 중합 개시제를 사용해도 되고, 분자량의 조정을 목적으로 연쇄 이동제를 사용해도 된다.
점착제층(20)에서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 점착제층(20)의 접착력을 충분히 높이기 위해서는, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.5질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.8질량부 이상, 더욱 바람직하게는 1질량부 이상이다. 한편, 점착제층(20)의 투명성 확보의 관점에서는, 점착제층(20)에서의 아크릴 올리고머의 함유량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 4질량부 이하, 더욱 바람직하게는 3질량부 이하이다. 점착제층(20)에서는, 아크릴 올리고머의 함유량이 지나치게 클 경우, 당해 아크릴 올리고머의 상용성 저하에 기인하여, 헤이즈가 상승하고 투명성이 저하되는 경향이 있다.
제1 점착제 조성물은, 실란 커플링제를 함유해도 된다. 제1 점착제 조성물에서의 실란 커플링제의 함유량은, 베이스 폴리머 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1질량부 이상, 보다 바람직하게는 0.2질량부 이상이다. 동 함유량은, 바람직하게는 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 3질량부 이하이다.
제1 점착제 조성물은, 필요에 따라서 다른 성분을 함유해도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들어 점착 부여제, 가소제, 연화제, 열화 방지제, 충전제, 착색제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 계면 활성제 및 대전 방지제를 들 수 있다.
점착제층(20)의 두께는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상이다. 점착제층(20)의 두께는, 핸들링성의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 50㎛ 이하이다.
점착제층(20)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 보다 바람직하게는 1% 이하이다. 점착제층(20)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈 미터를 사용해서 측정할 수 있다. 헤이즈 미터로서는, 예를 들어 닛폰 덴쇼쿠 고교사제의 「NDH2000」, 및 무라카미 시키사이 기쥬츠 겐큐죠사제의 「HM-150형」을 들 수 있다.
점착제층(20)의 전광선 투과율은, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더욱 바람직하게는 85% 이상이다. 점착제층(20)의 전광선 투과율은, 예를 들어 100% 이하이다. 점착제층(20)의 전광선 투과율은, JIS K7375(2008년)에 준거하여 측정할 수 있다.
점착제층(30)은, 제2 점착제 조성물로 형성된 감압 접착제층이다. 점착제층(30)은 투명성을 갖는다. 제2 점착제 조성물은, 적어도 베이스 폴리머를 함유한다. 제2 점착제 조성물에 함유되는 베이스 폴리머로서는, 예를 들어 제1 점착제 조성물에 관해서 상기한 베이스 폴리머를 들 수 있다. 제1 점착제 조성물 중의 베이스 폴리머와, 제2 점착제 조성물 중의 베이스 폴리머는, 동일해도 되고, 달라도 된다. 제2 점착제 조성물은, 베이스 폴리머 이외의 성분을 함유해도 된다. 제2 점착제 조성물에 함유되는 동 성분으로서는, 예를 들어 제1 점착제 조성물에 관해서 상기한, 베이스 폴리머 이외의 성분을 들 수 있다. 제1 점착제 조성물의 조성과 제2 점착제 조성물의 조성은, 동일해도 되고, 달라도 된다.
점착제층(30)의 두께 H는, 점착제층(20)의 두께와 동일해도 되고, 달라도 된다. 점착제층(30)의 두께 H는, 피착체에 대한 충분한 점착성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 10㎛ 이상, 보다 바람직하게는 15㎛ 이상이다. 점착제층(30)의 두께는, 핸들링성의 관점에서, 바람직하게는 300㎛ 이하, 보다 바람직하게는 200㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 100㎛ 이하, 특히 바람직하게는 50㎛ 이하이다. 또한, 점착제층(20)의 두께에 대한 점착제층(30)의 두께 H의 비율은, 예를 들어 0.2 이상이며, 또한, 예를 들어 5 이하이다.
점착제층(30)의 헤이즈는, 바람직하게는 3% 이하, 보다 바람직하게는 2% 이하, 더욱 바람직하게는 1% 이하이다. 점착제층(30)의 헤이즈는, JIS K7136(2000년)에 준거하여, 헤이즈 미터를 사용해서 측정할 수 있다.
점착제층(30)의 전광선 투과율은, 바람직하게는 60% 이상, 보다 바람직하게는 80% 이상, 더욱 바람직하게는 85% 이상이다. 점착제층(30)의 전광선 투과율은, 예를 들어 100% 이하이다. 점착제층(30)의 전광선 투과율은, JIS K7375(2008년)에 준거하여 측정할 수 있다.
기재(40)로서는, 본 실시 형태에서는, 폴더블 디스플레이용 화소 패널을 들 수 있다. 화소 패널로서는, 유기 EL 패널 및 액정 패널을 들 수 있다. 기재(40)가 화소 패널일 경우, 당해 기재(40)의 두께는, 예를 들어 10㎛ 이상이며, 또한, 예를 들어 150㎛ 이하이다. 기재(40)로서는, 예를 들어 가요성을 갖는 플라스틱 필름이어도 된다. 당해 플라스틱 필름으로서는, 예를 들어 박리 필름(50)에 관해서 후술하는 플라스틱 필름을 들 수 있다.
박리 필름(50)으로서는, 예를 들어 가요성을 갖는 플라스틱 필름을 들 수 있다. 당해 플라스틱 필름으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름 및 폴리에스테르 필름을 들 수 있다. 박리 필름(50)의 두께는, 바람직하게는 5㎛ 이상, 보다 바람직하게는 10㎛ 이상이며, 또한, 바람직하게는 200㎛ 이하, 보다 바람직하게는 150㎛ 이하이다. 박리 필름(50)의 표면은, 바람직하게는 박리 처리되어 있다. 박리 처리로서는, 예를 들어 실리콘 박리 처리 및 불소 박리 처리를 들 수 있다. 박리 처리의 유무, 종류의 선택 및 조건의 조정에 의해, 점착제층(30)으로부터의 박리 필름(50)의 박리에 관한 상술한 박리 개시력 F1 및 박리력 F2를 조정할 수 있다.
광학 적층체(X)는, 예를 들어 다음과 같이 해서 제조할 수 있다.
먼저, 광학 필름(10)과, 제1 박리 필름 구비 점착제층(20)과, 제2 박리 필름 구비의 점착제층(30)을 준비한다(준비 공정).
제1 박리 필름 구비 점착제층(20)은, 제1 박리 필름 상에 제1 점착제 조성물(바니시)을 도포해서 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 제1 점착제 조성물의 도포 방법으로서는, 예를 들어, 롤 코트, 키스 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러시, 스프레이 코트, 딥 롤 코트, 바 코트, 나이프 코트, 에어나이프 코트, 커튼 코트, 립 코트 및 다이 코트를 들 수 있다(제2 점착제 조성물의 후술하는 도포 방법에 대해서도 마찬가지임). 제1 박리 필름 상의 점착제층(20) 상에 또 다른 박리 필름을 적층해도 된다. 이 박리 필름은, 광학 필름(10)과 점착제층(20)의 접합 전에 박리된다.
제2 박리 필름 구비 점착제층(30)은, 제2 박리 필름 상에 제2 점착제 조성물(바니시)을 도포해서 도막을 형성한 후, 당해 도막을 건조시킴으로써 형성할 수 있다. 제2 박리 필름 상의 점착제층(30) 상에 또 다른 박리 필름을 적층해도 된다. 이 박리 필름은, 광학 필름(10)과 점착제층(30)의 접합 전에 박리된다.
이어서, 광학 필름(10)의 제1면(11)과, 제1 박리 필름 구비 점착제층(20)의 점착제층(20)측을 접합한다(제1 접합 공정). 이어서, 광학 필름(10)의 제2면(12)과, 제2 박리 필름 구비 점착제층(30)의 점착제층(30)측을 접합한다(제2 접합 공정). 이에 의해, 외주 단부가 미가공의 광학 적층체(X)로서의 적층체가 얻어진다. 바람직하게는, 이들 접합 전에, 광학 필름(10)의 제1면(11) 및 제2면(12)과, 제1 박리 필름 구비 점착제층(20)의 노출면과, 제2 박리 필름 구비 점착제층(30)의 노출면은, 플라스마 처리된다.
이어서, 적층체를 두께 방향으로 사이에 끼우는 지그에 의해 보유 지지하고, 지그에 의해 적층체에 대해서 두께 방향으로 부여되는 가압력을, 각 점착제층(20, 30)이 탄성 변형해서 적층체의 측단부면으로부터 소정 정도로 비어져 나오게 조정한다(가압 보유 지지 공정). 가압력의 조정에 의해, 점착제층(20, 30)의 탄성 변형 정도를 조정할 수 있고, 따라서, 적층체 측단부면으로부터 비어져 나오는 길이를 조정할 수 있다.
이어서, 점착제층(20, 30)이 적층체 측단부면으로부터 비어져 나오게 탄성 변형되어 있는 상태에서, 적층체 측단부면으로부터 소정 길이 내측을, 당해 적층체의 외주 단부의 전부 또는 일부가 새롭게 형성되도록, 회전 날에 의해 두께 방향으로 절단한다(절단 공정). 상기 소정 길이는, 예를 들어 0.1mm 이상이며, 또한, 예를 들어 1mm 이하이다. 그 후, 지그에 의한 적층체의 가압 상태를 해방한다. 이에 의해, 점착제층(20, 30)이 탄성 복귀하여, 점착제층(20, 30)의 단부 테두리(22, 32)가, 광학 필름(10), 기재(40) 및 박리 필름(50)의 단부 테두리(13, 42, 52)보다, 면 방향(D)에 있어서 내측으로 퇴피한다. 이와 같이 하여 측면 요철 단부(E)가 형성된다.
이러한 절단 공정에서는, 적층체에 대해서 두께 방향으로 부여되는 상술한 가압력을 조정함으로써, 적층체의 측단부면으로부터 점착제층(20, 30)이 비어져 나오는 길이를 조정할 수 있어, 가압 상태 해방 후의 단부 테두리(22, 32)의 퇴피 길이 d1, d2를 조정할 수 있다. 또한, 퇴피 길이 d1의 조정 방법으로서는, 상술한 바와 같이, 점착제층(20)의 두께 조정 및 탄성률의 조정도 들 수 있다. 퇴피 길이 d2의 조정 방법으로서는, 상술한 바와 같이, 점착제층(30)의 두께 조정 및 탄성률의 조정도 들 수 있다. 또한, 면 방향(D)에서의 단부 테두리(22, 32)간의 거리(즉, 퇴피 길이 d1과 퇴피 길이 d2의 차)의 조정 방법으로서는, 상술한 바와 같이, 측면 요철 단부(E)를 형성하기 위해서 회전 날을 사용하여 실시되는 후술하는 절단 공정에서의 절단 조건의 조정을 들 수 있다. 당해 절단 조건으로서는, 예를 들어 회전 날의 날끝의 테이퍼 각도, 회전 날의 회전수, 후술하는 광학 필름 적층체의 표면에 대한 회전 날의 입사 방향, 및 광학 필름 적층체를 절삭하는 회전 날의 변위 속도를 들 수 있다.
이어서, 광학 필름 적층체의 점착제층(20)으로부터 제1 박리 필름을 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 점착제층(20)에 기재(40)를 접합한다(제3 접합 공정).
이상과 같이 하여, 상술한 광학 적층체(X)(광학 적층체)를 제조할 수 있다.
광학 적층체(X)는, 다음의 것 이외에는 이상의 제조 방법과 마찬가지로 하여 제조해도 된다. 준비 공정에서, 제1 박리 필름 구비 점착제층(20) 대신에 기재(40) 구비 점착제층(20)을 준비하고, 제1 접합 공정에서, 광학 필름(10)의 제1면(11)과, 기재(40) 구비 점착제층(20)의 점착제층(20)측을 접합하고, 제3 접합 공정을 실시하지 않는다. 이러한 방법에 의해서도, 광학 적층체(X)를 제조할 수 있다.
도 5a 및 도 5b는, 광학 적층체(X)의 사용 방법의 일례를 나타낸다.
본 방법에서는, 먼저, 도 5a에 도시하는 바와 같이, 광학 적층체(X)의 점착제층(30)으로부터 박리 필름(50)을 박리한다. 예를 들어, 광학 적층체(X)의 기재(40)측을 워크 테이블 상에 고정한 상태에서, 측면 요철 단부(E)에서의 박리 필름(50)의 단부에 힘을 작용시켜, 점착제층(30)으로부터 박리 필름(50)을 박리한다. 이에 의해, 점착제층(30)의 점착면(31)이 노출된다.
측면 요철 단부(E)에서는, 상술한 바와 같이, 면 방향(D)에 있어서, 광학 필름(10) 및 박리 필름(50)의 단부 테두리(13, 52)보다, 점착제층(30)의 단부 테두리(32)가 퇴피하고 있다. 이러한 측면 요철 단부(E)에서는, 도 2를 참조하여 상술한 바와 같이, 박리 필름(50)이, 점착제층(30)이 접착되어 있지 않은 프리 부분(50a)을 갖는다. 그 때문에, 측면 요철 단부(E)에서는, 점착제층(30)으로부터 박리 필름(50)을 박리함에 있어서, 먼저, 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을, 도 2에서 가상선으로 나타내는 바와 같이, 젖혀 올려서 변형시키고, 그 후에, 이미 젖혀 올려 변형되어 있는 프리 부분(50a)을 인장하여, 박리 필름(50)을 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터 분리할 수 있다. 즉, 박리 개시 과정에서, 박리 필름(50)의 프리 부분(50a)을 충분히 변형시키기 위한 힘(제1력)과, 박리 필름(50)의 변형에 추종해서 탄성 변형하는 점착제층(30)의 단부 테두리(32)로부터 박리 필름(50)을 분리하기 위한 힘(제2력)이, 동시에 필요하지는 않다. 이러한 광학 적층체(X)는, 박리 개시 과정에 요하는 힘을 저감하기에 적합하다. 이 힘이 작을수록, 박리 필름(50)의 박리 개시 과정에서, 두께 100㎛ 이하로 얇은 광학 필름(10)의 단부 변형이 억제되고, 동 필름의 단부에서 크랙의 발생이 억제된다.
이어서, 도 5b에 도시하는 바와 같이, 점착제층(30)을 개재해서 광학 필름(10)과 부재 M(피착체)을 접합한다. 부재 M은, 예를 들어 플렉시블 패널이 갖는 적층 구조 중의 한 요소이다. 당해 요소로서는, 예를 들어 화소 패널, 터치 패널 및 표면 보호 필름을 들 수 있다.
예를 들어 플렉시블 패널의 제조 과정에서, 광학 적층체(X)는 이상과 같이 사용된다.
실시예
본 발명에 대해서, 이하에 실시예를 나타내어 구체적으로 설명한다. 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 이하에 기재되어 있는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 구체적 수치는, 상술한 「발명을 실시하기 위한 형태」에서 기재되어 있는, 그것에 대응하는 배합량(함유량), 물성값, 파라미터 등의 상한(「이하」 또는 「미만」으로서 정의되어 있는 수치) 또는 하한(「이상」 또는 「초과한다」로 정의되어 있는 수치)으로 대체할 수 있다.
〔실시예 1〕
<제1 점착 시트의 제작>
이하와 같이 하여, 실시예 1에서의 제1 점착 시트를 제작하였다.
<아크릴 올리고머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 메타크릴산시클로헥실(CHMA) 95질량부와, 아크릴산(AA) 5질량부와, 연쇄 이동제로서의 α-메틸스티렌 다이머 10질량부와, 용매로서의 톨루엔 120질량부를 포함하는 혼합물을, 실온에서 1시간, 질소 분위기 하에서 교반하였다. 그 후, 혼합물에, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 10질량부를 첨가해서 반응 용액을 조제하고, 질소 분위기 하에서, 85℃에서 5시간 반응시켰다(아크릴 올리고머의 형성). 이에 의해, 아크릴 올리고머를 함유하는 올리고머 용액(고형분 농도 50질량%)을 얻었다. 아크릴 올리고머의 중량 평균 분자량은 4300이었다. 또한, 아크릴 올리고머의 유리 전이 온도(Tg)는 84℃이었다.
<제1 아크릴 베이스 폴리머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산2-에틸헥실(2EHA) 70질량부와, 아크릴산n-부틸(BA) 20질량부와, 라우릴아크릴레이트(LA) 8질량부와, 아크릴산4-히드록시부틸(4HBA) 1질량부와, N-비닐-2-피롤리돈(NVP) 0.6질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.1질량부와, 용매로서의 아세트산에틸을 포함하는 혼합물(고형분 농도 47질량%)을, 56℃에서 6시간, 질소 분위기 하에서 교반하였다(중합 반응). 이에 의해, 제1 아크릴 베이스 폴리머를 함유하는 제1 폴리머 용액을 얻었다. 이 폴리머 용액 중의 제1 아크릴 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은 약 200만이었다.
<제1 점착제 조성물의 조제>
제1 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액의 고형분 100질량부당, 아크릴 올리고머 1.5질량부와, 제1 가교제(품명 「나이퍼 BMT-40SV」, 디벤조일퍼옥시드, 니혼 유시제) 0.26질량부와, 제2 가교제(품명 「코로네이트 L」, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 3량체 부가물, 도소제) 0.02질량부와, 실란 커플링제(품명 「KBM403」, 신에쯔 가가쿠 고교제) 0.3질량부를 첨가해서 혼합하여, 제1 점착제 조성물을 조제하였다.
<제1 점착 시트의 형성>
편면이 실리콘 박리 처리된 박리 필름 L1의 박리 처리면 상에, 제1 점착제 조성물을 도포해서 도막을 형성하였다. 박리 필름 L1은, 편면이 실리콘 박리 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(품명 「다이어포일 MRF50」, 두께 50㎛, 미쓰비시 케미컬제)이다. 이어서, 박리 필름 L1 상의 도막에, 편면이 실리콘 박리 처리된 박리 필름 L2의 박리 처리면을 접합하였다. 박리 필름 L2는, 편면이 실리콘 박리 처리된 PET 필름(품명 「다이어포일 MRV75」, 두께 75㎛, 미쓰비시 케미컬제)이다. 이어서, 박리 필름 L1과 박리 필름 L2 사이에 끼워진 도막을, 100℃에서 1분간의 가열과 그 후 150℃에서 3분간의 가열에 의해 건조시켜서, 두께 50㎛의 투명한 제1 점착제층을 포함하는 제1 점착 시트를 형성하였다. 이상과 같이 하여, 박리 필름 L1, L2 구비의 제1 점착 시트를 제작하였다.
<제2 점착 시트의 제작>
이하와 같이 하여, 실시예 1에서의 제2 점착 시트를 제작하였다.
<제2 아크릴 베이스 폴리머의 조제>
교반기, 온도계, 환류 냉각기 및 질소 가스 도입관을 구비하는 반응 용기 내에서, 아크릴산부틸(BA) 99질량부와, 아크릴산4-히드록시부틸(4HBA) 1질량부와, 열중합 개시제로서의 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN) 0.3질량부와, 용매로서의 아세트산에틸을 포함하는 혼합물을, 60℃에서 4시간, 질소 분위기 하에서 교반하였다(중합 반응). 이에 의해, 제2 아크릴 베이스 폴리머를 함유하는 제2 폴리머 용액을 얻었다. 이 폴리머 용액 중의 제2 아크릴 베이스 폴리머의 중량 평균 분자량은 165만이었다.
<제2 점착제 조성물의 조제>
제2 폴리머 용액에, 당해 폴리머 용액의 고형분 100질량부당, 제1 가교제(품명 「나이퍼 BMT-40SV」, 디벤조일퍼옥시드, 니혼 유시제) 0.3질량부와, 제3 가교제(품명 「타케네이트 D110N」, 트리메틸올프로판크실릴렌디이소시아네이트, 미쓰이 가가쿠제) 0.1질량부와, 실란 커플링제(품명 「KBM403」, 신에쯔 가가쿠 고교제) 0.3질량부를 첨가해서 혼합하여, 제2 점착제 조성물을 조제하였다.
<제2 점착 시트의 형성>
편면이 실리콘 박리 처리된 박리 필름 L3의 박리 처리면 상에, 제2 점착제 조성물을 도포해서 도막을 형성하였다. 박리 필름 L3은, 편면이 실리콘 박리 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름(품명 「다이어포일 MRF50」, 두께 50㎛, 미쓰비시 케미컬제)이다. 이어서, 박리 필름 L3 상의 도막에, 편면이 실리콘 박리 처리된 박리 필름 L4의 박리 처리면을 접합하였다. 박리 필름 L4는, 편면이 실리콘 박리 처리된 PET 필름(품명 「다이어포일 MRV75」, 두께 75㎛, 미쓰비시 케미컬제)이다. 이어서, 박리 필름 L3과 박리 필름 L4 사이에 끼워진 도막을, 100℃에서 1분간의 가열과 그 후 150℃에서 3분간의 가열에 의해 건조시켜서, 두께 50㎛의 투명한 제2 점착제층을 포함하는 제2 점착 시트를 형성하였다. 이상과 같이 하여, 박리 필름 L3, L4 구비의 제2 점착 시트를 제작하였다.
<광학 적층체의 제작>
먼저, 양면 박리 필름 구비 제1 점착 시트로부터 박리 필름 L2를 박리하고, 이에 의해 노출된 노출면을 플라스마 처리하였다. 한편, 두께 31㎛의 편광판의 양면(제1면, 제2면)도 플라스마 처리하였다. 각 플라스마 처리에서는, 플라스마 조사 장치(품명 「AP-TO5」, 세끼스이 고교사제)를 사용하여, 전압을 160V로 하고, 주파수를 10kHz로 하고, 처리 속도를 5000mm/분으로 하였다(후술하는 플라스마 처리에서도 마찬가지임). 그리고 제1 점착 시트의 상기 노출면과, 편광판의 제1면을 접합하였다. 이 접합에서는, 25℃의 환경 하에서, 2kg의 롤러를 1왕복시키는 작업에 의해, 박리 필름 L1 구비 제1 점착 시트와 편광판을 압착시켰다.
이어서, 박리 필름 L3, L4 구비 제2 점착 시트로부터 박리 필름 L3을 박리하고, 이에 의해 노출된 노출면을 플라스마 처리하였다. 그리고 제2 점착 시트의 노출면과, 편광판의 제2면을 접합하였다. 이 접합에서는, 25℃의 환경 하에서, 2kg의 롤러를 1왕복시키는 작업에 의해, 박리 필름 L4 구비 제2 점착 시트와 편광판을 압착시켰다. 이에 의해, 박리 필름 L1(두께 50㎛) 구비 제1 점착 시트와, 편광판과, 박리 필름 L4(두께 75㎛) 구비 제2 점착 시트의 적층 구성의 적층 필름을 얻었다.
이어서, 펀칭 가공기 및 톰슨 칼날을 사용하여, 적층 필름을 150mm×120mm의 사이즈로 펀칭하였다(펀칭 가공 공정).
이어서, 이하와 같이 하여 외형 가공을 실시하였다(외형 가공 공정). 먼저, 동일 사이즈로 펀칭된 50매의 적층 필름을 적층해서 적층체를 얻었다. 구체적으로는, 인접하는 적층 필름에서는 한쪽의 적층 필름의 박리 필름 L1(제1 박리 필름)과 다른 쪽의 적층 필름의 박리 필름 L4(제2 박리 필름)가 접하도록, 50매의 적층 필름을 적층해서 적층체를 얻었다. 이 적층체는, 표면에 제1 박리 필름이 배치되어 있는 두께 방향 한쪽 면(제1 표층면)과, 표면에 제2 박리 필름이 배치되어 있는 두께 방향 다른 쪽 면(제2 표층면)을 갖는다. 이어서, 이 적층체를 두께 방향으로 사이에 끼우는 지그에 의해 보유 지지하였다. 이어서, 지그에 의해 적층체에 대해서 두께 방향으로 부여되는 가압력을, 적층체의 단부면으로부터 각 점착제층이 소정 정도로 비어져 나오게 조정하였다. 이 상태에서, 적층체의 단부면으로부터 0.5mm 내측을, 당해 적층체의 외주 단부가 새롭게 형성되도록 두께 방향으로 절단하였다. 절단에는, 소정의 절단 가공기와, 당해 가공기에 설치된 제1 회전 날을 사용하였다. 이 회전 날은, 디스크부와, 당해 디스크부의 둘레 끝으로부터 디스크 직경 방향으로 돌출되는 복수의 돌출 날을 갖는다. 도 6a 및 도 6b에 도시하는 바와 같이, 돌출 날(70)은, 회전 날 회전 시에 있어서의 전방측의 테두리 끝에, 절단 대상물(80)의 절단을 담당하는 직선상의 나이프 에지(71)(길이 6mm)를 갖는다. 외형 가공 공정에서는, 각 돌출 날(70)이 적층체(절단 대상물(80))에 대해서 그 제2 표층면측으로부터 절입하도록 적층체에 대해서 회전 날을 회전시켜, 회전 날의 회전 속도를 4500rpm으로 하고, 적층체에 대한 회전 날의 변위 속도를 1000mm/분으로 하고, 적층체에 대해서 절단 직전에 대향하는 나이프 에지(71)의, 적층체 표면(제2 표층면)에 대한 앙각(날 각도 θ)을 +5°(도 6a)로 하였다(날 각도 θ가 도 6a에 도시하는 바와 같이 디스크 직경 방향 외측으로 열리는 경우를 정의 날 각도 θ로 하고, 날 각도 θ가 도 6b에 도시하는 바와 같이 디스크 직경 방향 내측으로 열리는 경우를 부의 날 각도 θ로 한다). 그리고 외형 가공 후에, 지그에 의한 적층체의 가압 상태를 해방하였다.
이어서, 광학 필름 적층체의 제1 점착제층으로부터 박리 필름 L1을 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 제1 점착제층에, 기재로서의 폴리이미드 필름(품명 「캡톤」, 두께 50㎛, 도레이·듀퐁사제)을 접합하였다.
이상과 같이 하여, 실시예 1의 광학 적층체를 제조하였다. 실시예 1의 광학 적층체는, 기재로서의 폴리이미드 필름(두께 50㎛)과, 제1 점착제층(두께 50㎛)과, 광학 필름으로서의 편광판(두께 31㎛)과, 제2 점착제층(두께 50㎛)과, 박리 필름 L4(두께 75㎛)를 두께 방향으로 순서대로 구비하고, 외주 단부 전체에 걸쳐서 측면 요철 단부를 갖는다. 이 측면 요철 단부에서는, 필름면 방향에 있어서, 각 필름의 단부 테두리보다 제1 및 제2 점착제층의 각 단부 테두리가 퇴피하고 있다. 또한, 이와 같이 제작된 광학 필름 적층체에서는, 필름 면내 방향에 있어서, 기재, 광학 필름 및 박리 필름의 각 단부 테두리는, 실질적으로 동일 위치에 있다. 그 때문에, 박리 필름의 단부 테두리로부터의 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d2'는, 광학 필름의 단부 테두리로부터의 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d2와 실질적으로 동등하다.
〔실시예 2 내지 4〕
이하 이외에는, 실시예 1의 광학 적층체와 마찬가지로 하여, 실시예 2 내지 4의 각 광학 적층체를 제작하였다.
실시예 2에서는, 외형 가공 시의 상술한 날 각도 θ에 대해서, 실시예 1보다 플러스측으로 절댓값이 커지게 조정하였다. 실시예 3에서는, 외형 가공 시의 상술한 날 각도 θ를, 실시예 1보다 마이너스측으로 변화하도록 조정하고, 또한, 동 가공 시의 상술한 회전 날 회전 속도를, 실시예 1보다 느려지게 조정하였다. 실시예 4에서는, 외형 가공에서, 회전 날에 대한 적층체의 배치 양태를 실시예 3과는 표리 반대로 하였다.
〔비교예 1〕
외형 가공 공정을 실시하지 않은 것 이외에는, 실시예 1의 광학 적층체와 마찬가지로 하여, 비교예 1의 광학 적층체를 제작하였다.
<퇴피 길이>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서의 각 광학 적층체에 대해서, 측면 요철 단부에서의 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d1(면 방향에서의 광학 필름 단부 테두리로부터의 거리)과, 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d2(면 방향에서의 광학 필름 단부 테두리로부터의 거리)를, 다음과 같이 해서 조사하였다.
먼저, 광학 적층체로부터 기재를 박리한 후, 당해 박리에 의해 노출된 제1 점착제층을 개재하여, 적층체(제1 점착제층/광학 필름/제2 점착제층/박리 필름)를 유리 플레이트에 첩부하였다. 이어서, 유리 플레이트 상의 적층체로부터 박리 필름을 박리하였다. 유리 플레이트 상의 적층체(제1 점착제층/광학 필름/제2 점착제층)의 외주 단부에서 선택한 소정 개소를, 광학 현미경에 의해 관찰하였다. 구체적으로는, 상기 적층체를, 유리 플레이트와는 반대측으로부터, 광학 현미경에 의해 두께 방향으로 관찰하여 촬영하였다. 그리고 촬영된 화상에 있어서, 광학 필름의 단부 테두리로부터의 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d1과, 광학 필름의 동 단부 테두리로부터의 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이 d2를 측정하였다. 측정 결과를 표 1에 나타낸다.
<박리 개시력과 박리력>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서의 각 광학 적층체에 대해서, 박리 필름의 박리에 요하는 힘(박리 개시력과 그 후의 박리력)을 조사하였다.
먼저, 광학 적층체로부터, 측정용 시험편(짧은 변 25mm×긴 변 150mm 정도)을 잘라냈다. 구체적으로는, 광학 적층체의 측면 요철 단부로부터 150mm 정도의 길이를 갖고 또한 25mm의 폭을 갖는 시험편을, 동 필름으로부터 잘라냈다.
이어서, 인장 시험기(품명 「오토그래프」, 시마즈 세이사쿠쇼제)의 고정용 테이블에 시험편을 고정하였다. 구체적으로는, 시험편으로부터 기재를 박리해서 제거한 후, 당해 박리에 의해 노출된 제1 점착제층을 개재하여, 당해 시험편(제1 점착제층/광학 필름/제2 점착제층/박리 필름)을 고정용 테이블에 첩부하였다.
이어서, 시험편의 노출면측에 위치하는 박리 필름에서의 측면 요철 단부측의 짧은 변에, 파지용 테이프를 첩부하였다. 이 파지용 테이프는 강 점착면을 갖고, 당해 강 점착면을 개재해서 파지용 테이프를 시험편의 박리 필름에 첩부하였다.
이어서, 인장 시험기에 의해, 시험편에서의 제2 점착제층 상의 박리 필름을 당해 점착제층으로부터 박리하는 박리 시험을 실시하여, 박리에 요하는 힘을 박리 강도로서 측정하였다. 본 측정에서는, 측정 온도를 25℃로 하고, 파지용 테이프를 인장함으로써 박리 필름을 박리하고, 박리 각도를 180°로 하고, 인장 속도를 300mm/분으로 하고, 박리 길이를 100mm로 하였다. 이러한 박리 시험에 의해 얻어지는 그래프의 일례를 도 7에 나타낸다. 도 7의 그래프에 있어서, 횡축은 박리 길이(mm)를 나타내고, 종축은 박리 강도(gf)를 나타내고, Fm은, 박리 강도의 최댓값을 나타낸다.
이상과 같은 박리 시험에 의해 구해진 박리 개시력 F1(gf/25mm) 및 박리력 F2(gf/25mm)를 표 1에 나타낸다. 박리 개시력 F1은, 박리 필름을 제2 점착제층으로부터 박리했을 때의, 박리 길이 20mm 이내에서의 박리 강도의 최댓값이며, 박리력 F2는, 박리 길이 20 내지 100mm(박리 강도가, 박리 개시 시의 박리 개시력 F1을 거친 후에 안정되어 있음)에서의 박리 강도의 평균값이다. 또한, 박리 개시력의 억제에 대해서, 박리 개시력 F1이 600gf/25mm 이하인 경우를 "우수"로 평가하고, 박리 개시력 F1이 600gf/25mm를 초과하고 또한 800gf/25mm 이하인 경우를 "양호"로 평가하고, 박리 개시력 F1이 800gf/25mm를 초과하는 경우를 "불량"으로 평가하였다. 그 평가 결과도 표 1에 나타낸다.
<광학 필름의 단부 크랙의 억제>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서의 각 광학 적층체에 대해서, 박리 필름을 박리할 때의, 광학 필름 단부에서의 크랙 발생의 어려움을 조사하였다. 구체적으로는, 먼저, 광학 적층체마다 평가 샘플을 제작하였다. 이어서, 평가 샘플의 박리 필름을, 수작업에 의해 박리하였다. 이어서, 광학 필름의 외주부(단부 테두리로부터 1mm의 영역)를 광학 현미경에 의해 관찰하였다. 그리고 박리 필름의 박리 후에 광학 필름의 상기 외주부에 길이 100㎛ 이상의 크랙이 발생하지 않은 경우를 "우수"로 평가하고, 길이 100㎛ 이상 200㎛ 미만의 크랙이 발생한 경우를 "양호"로 평가하고, 길이 200㎛ 이상의 크랙이 발생한 경우를 "불량"으로 평가하였다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
<단부의 블로킹>
실시예 1 내지 4 및 비교예 1에서의 각 광학 적층체에 대해서, 단부의 블로킹 어려움을 조사하였다. 구체적으로는, 먼저, 광학 적층체마다 10매의 평가 샘플을 제작하여, 10매의 평가 샘플을 적층해서 필름 파일을 형성하였다(제1 공정). 이어서, 필름 파일에 있어서 가장 위에 위치하는 광학 적층체에 대해서, 선단에 점착면을 갖는 원기둥의 로드(직경 10mm)의 선단 점착면을 상방으로부터 압박한 후, 당해 로드를 상방으로 들어 올려, 로드에 수반해서 들어 올려진 광학 적층체의 매수를 세었다(제2 공정). 제1 공정과 그 후의 제2 공정을 포함하는 시행을, 광학 적층체마다 10회 행하였다. 10회의 시행에 있어서, 로드에 수반해서 들어 올려진 광학 적층체가 1매만이었던 시행의 수가 10일 경우를 "우수"로 평가하고, 6 내지 9일 경우를 "양호"로 평가하고, 5 이하인 경우를 "불량"으로 평가하였다. 그 평가 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure pct00001
상술한 실시 형태는 본 발명의 예시이며, 당해 실시 형태에 의해 본 발명을 한정적으로 해석하면 안된다. 당해 기술 분야의 당업자에 의해 명확한 본 발명의 변형예는, 후술하는 청구범위에 포함된다.
본 발명의 광학 적층체는, 예를 들어 폴더블 디스플레이 패널의 제조에 사용된다.
X: 광학 필름(광학 적층체)
E: 측면 요철 단부
T: 두께 방향
10: 광학 필름
11: 제1면
12: 제2면
13: 단부 테두리
20, 30: 점착제층
21, 31: 점착면
22: 단부 테두리(제1 단부 테두리)
32: 단부 테두리(제2 단부 테두리)
40: 기재
42: 단부 테두리
50: 박리 필름
52: 단부 테두리

Claims (7)

  1. 기재와, 제1 점착제층과, 광학 필름과, 제2 점착제층과, 박리 필름을 두께 방향으로 이 순으로 구비하는 광학 적층체이며,
    상기 광학 필름이 100㎛ 이하의 두께를 갖고,
    상기 광학 필름의 상기 두께 방향과 직교하는 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름 및 상기 박리 필름의 각 단부 테두리보다, 상기 제2 점착제층의 단부 테두리가 퇴피하고 있는, 측면 요철 단부를 갖는, 광학 적층체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 박리 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이가 20㎛ 이상인, 광학 적층체.
  3. 제1항에 있어서, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름 및 상기 기재의 각 단부 테두리보다, 상기 제1 점착제층의 단부 테두리가 퇴피하고 있는, 광학 적층체.
  4. 제3항에 있어서, 상기 측면 요철 단부에서는, 상기 면 방향에 있어서, 상기 광학 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제1 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이보다, 상기 광학 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이가 작은, 광학 적층체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 면 방향에서의 상기 제1 점착제층의 단부 테두리와 상기 제2 점착제층의 단부 테두리 사이의 거리가 1㎛ 이상인, 광학 적층체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 제2 점착제층의 두께에 대한, 상기 박리 필름의 단부 테두리로부터의 상기 제2 점착제층의 단부 테두리의 퇴피 길이의 비율이, 0.4 이상 8 이하인, 광학 적층체.
  7. 제1항에 있어서, 상기 제2 점착제층으로부터의 상기 박리 필름의 박리를 개시하기 위한 박리 개시력이 800gf/25mm 이하인, 광학 적층체.
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